EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统
分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作
EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从**
大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。
EVG770的主要功能包括精确的对准功能，完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 IQ Aligner®是EVG的可用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统。安徽纳米压印供应商家
EVG ® 7200 LA大面积SmartNIL
® UV纳米压印光刻系统
用于大面积****的共形纳米压印光刻。
EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术，将纳米压印光刻（NIL）缩放为第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济有效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。
SmartNIL利用非常强大且可控的加工工艺，提供了低至40 nm *的出色保形压印结果。凭借独特且经过验证的设备功能（包括****的易用性）以及高水平的工艺专业知识，EVG通过将纳米压印提升到一个新的水平来满足行业需求。
*分辨率取决于过程和模板 MEMS纳米压印用于生物芯片EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。
其中包括家用电器、医药、电子、光学、生命科学、汽车和航空业。肖特在全球34个国家和地区设有生产基地和销售办事处。公司目前拥有员工超过15500名，2017/2018财年的销售额为。总部位于德国美因茨的母公司SCHOTTAG由卡尔蔡司基金会（CarlZeissFoundation）全资拥有。卡尔蔡司基金会是德国历史**悠久的私立基金会之一，同时也是德国规模比较大的科学促进基金会之一。作为一家基金公司，肖特对其员工，社会和环境负有特殊责任。关于EV集团（EVG）EV集团（EVG）是为半导体、微机电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的**供应商。其主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印（NIL）与计量设备，以及涂胶机、清洗机和检测系统。EV集团成立于1980年，可为遍及全球的众多客户和合作伙伴网络提供各类服务与支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup标识是EVGroup的注册商标,SCHOTTRealView™是SCHOTT的注册商标。（来自网络。
HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。
EVG的HERCULES ® NIL产品系列
HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
® UV-NIL系统达200毫米
对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ®印迹技术
HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES
NIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”，将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。 EV Group能够提供混合和单片微透镜成型工艺。
HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。
HERCULES ® NIL特征：
全自动UV-NIL压印和低力剥离
**多300毫米的基材
完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）
200毫米/ 300毫米桥接工具能力
全区域烙印覆盖
批量生产**小40 nm或更小的结构
支持各种结构尺寸和形状，包括3D
适用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取决于过程和模板
**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。HERCULES NIL纳米压印值得买
EVG®770可用于连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作。安徽纳米压印供应商家
EVG ® 610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到比较大150毫米。
该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
安徽纳米压印供应商家
