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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

    其中包括家用电器、医药、电子、光学、生命科学、汽车和航空业。肖特在全球34个国家和地区设有生产基地和销售办事处。公司目前拥有员工超过15500名,2017/2018财年的销售额为。总部位于德国美因茨的母公司SCHOTTAG由卡尔蔡司基金会(CarlZeissFoundation)全资拥有。卡尔蔡司基金会是德国历史**悠久的私立基金会之一,同时也是德国规模比较大的科学促进基金会之一。作为一家基金公司,肖特对其员工,社会和环境负有特殊责任。关于EV集团(EVG)EV集团(EVG)是为半导体、微机电系统(MEMS)、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的**供应商。其主要产品包括:晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印(NIL)与计量设备,以及涂胶机、清洗机和检测系统。EV集团成立于1980年,可为遍及全球的众多客户和合作伙伴网络提供各类服务与支持。SmartNIL,NILPhotonics及EVGroup标识是EVGroup的注册商标,SCHOTTRealView™是SCHOTT的注册商标。(来自网络。EVG是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。中国香港纳米压印有哪些应用

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EVG ® 510 HE是EVG500系列的热压印系统


EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高

效且灵活的制造技术,对于尺寸低至50 nm的特征,其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有:EVG®510HE,EVG®520HE。 浙江纳米压印出厂价分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母版。

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HERCULES ® NIL特征:

全自动UV-NIL压印和低力剥离

**多300毫米的基材

完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产**小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状,包括3D

适用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取决于过程和模板


HERCULES ® NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²

对准:≤±3微米

自动分离:支持的

前处理:提供所有预处理模块

迷你环境和气候控制:可选的

工作印章制作:支持的


EVGROUP®|产品/纳米压印光刻解决方案

纳米压印光刻的介绍:

EV Group是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形压印结果。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。

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UV纳米压印光刻系统

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统

■高精度对准台

■自动楔形误差补偿机制

■电动和程序控制的曝光间隙

■支持***的UV-LED技术

■**小化系统占地面积和设施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自动化的全场纳米压印解决方案,适用于第3代基材

■体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

■专有的SmartNIL®技术和多用途聚合物印章技术

■集成式压印,UV固化,脱模和工作印模制作

■盒带间自动处理以及半自动研发模式


■适用于所有市售压印材料的开放平台


HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速高功率曝光和平滑压模分离。EVG520 HE纳米压印优惠价格

NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法。中国香港纳米压印有哪些应用

IQ Aligner®:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

■用于光学元件的微成型应用

■用于全场纳米压印应用

■三个**控制的Z轴,用于控制压印光刻胶的总厚度变化(TTV),并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿

■粘合对准和紫外线粘合功能


紫外线压印_紫外线固化


印章

防紫外线基材

附加印记压印纳米结构分离印记

用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后,将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。

µ-接触印刷

软印章

基板上的材料

领取物料,物料转移,删除印章


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