电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料例如电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的箱体结构。1.工作室与外箱之间的保温材质是超细玻璃纤维保温棉,保温厚度:>70mm,隔温效果...
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。 一、热工系统 1.额定温度 800℃ 2.较高温度 850℃ 3.加热元件 陶瓷外丝加热管 4.加热功率 18kw 5.空炉保温功率 约 9kw 6.温区个数 1 个 7.控温点数 2 点 8.热偶 K 分度 9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台) 10.炉膛温度均匀度 ±6℃(恒温 800℃,1h) 二、气氛系统 1.炉膛气氛 2 路氮气,流量计量程为 2~20L/min;每路流量可调节 2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放,废气 3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染 4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量: 5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量 6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量试验箱的生产厂家名录。大试验箱供应商家
电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料例如电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的箱体结构。 1.工作室与外箱之间的保温材质是超细玻璃纤维保温棉,保温厚度:>70mm,隔温效果好,国内,高性能的绝缘结构。从内到外有内腔、外壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层,内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特,极大减少了内腔热量的外传。 2.门与门框之间采用高性能密封材料及独特的橡胶密封结构,密封、耐高温性、抗老化性好。 3.箱内风道采用双循环系统,不锈钢多翼式离心风轮及循环风道组成,置于箱体背部的电加热器热量通过侧面风道向前排出,经过干燥物后再被背部的离心风轮吸入,形成合理的风道,能使热气充分对流,使箱内温度相当大限度达到均匀。提高了空气流量加热的能力,大幅改善了干燥箱的温度均匀性。 4.加热器用不锈钢电加热管,升温快,寿命长。甘肃大型试验箱怎样选择试验箱呢?合肥真萍科技建材告知您专业的方法。
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的柜体规格、配备。 1.左右双开门,3mm钢化玻璃,1mm厚不锈钢板,气密式隐藏锁把手。 2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭,脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。 3.附高载重不锈钢隔板,柜体加装高载重煞车轮。 4.上掀式气密盖,方便 FFU保养及维修。 5.回风循环设计,单向氮气循环不产生紊流。 6.背面气密开门式设计,方便洁净清理与保养。
真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。 1.长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。 2.双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。 3.箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。 4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。 5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。 6.真空程序分段控制,该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。试验箱哪家强,快联系合肥真萍科技。
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。作为隧道炉的质量供应商原产厂家,小编下面就为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品材质的构成。 1.外箱构成。外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板/内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢 2.系统装置保护装置定时报警断电装置、超温断电、漏电保护断路器、电机过载保护。合肥真萍科技告诉您试验箱的外观设计有哪些要求。高低温恒定湿热试验箱厂家直销价格
选用定制试验箱有哪些好处呢?合肥真萍科技为您介绍。大试验箱供应商家
本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。 增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。大试验箱供应商家
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