产品名称:洁净烘箱产品介绍:本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:1.无尘等级:Class100:(符合FED-STD209E标准:0.3um≤3...
石墨盘烤盘炉
一.产品介绍
真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。
二、设计特点
1、后门设计热风电机
2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向
3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的
三、技术指标
1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;
2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;
4、加热元件:石墨加热棒;
5、冷却方式:气冷 + 循环风冷降温;
6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;
7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);
8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;
9、极限真空: 10-3torr级;
10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr
11、升温功率:170kW;
12、升温速率:15℃/min(空载);
13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟
14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高) 合肥真萍科技-工业烤箱生产厂家。上海生产工业烤箱
下面为大家介绍一下高温无氧固化烘箱。无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。1、技术指标与基本配置:1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;1.2炉膛腔数:2个,上下布置;1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;2、氧含量(配氧分析仪):2.1高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量2.2控温稳定度:±1℃;2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);做工业烤箱的工厂合肥真萍科技的优势有哪些呢?听听小编为您介绍。
电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。
过滤系统:
2.1 EBM 电子式EC 马达控制无尘室**FFU。
2.2 镜面不锈钢结构体。
2.3 特殊导流风道设计,风压平均,可有效提供风量,降低噪音。
2.4 电路板控制模块,提供安 全保护装置,运转异常指示灯及控制干接点输出。
2.5 无段式风量调速器可任意调整风量大小。
2.6 滤网ULPA,0.12μm,99.9995%以上的过滤效果。
2.7 电力规格:单相220V 50Hz 0.95A,输出功率150W。
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。柜体规格、配备:1.左右双开门,3mm钢化玻璃,1mm厚不锈钢板,气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭,脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板,柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖,方便FFU保养及维修。5.回风循环设计,单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计,方便洁净清理与保养。工业烤箱如何选择?合肥真萍科技告诉您。
高温无氧固化烘箱 用途介绍:无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。
1、技术指标与基本配置:
1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;
1.2炉膛腔数:2个,上下布置;
1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度
1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;
2、氧含量(配氧分析仪):
2.1高温状态氧含量:≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量
2.2控温稳定度:±1℃; 2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台); 工业烤箱哪个性价比高?合肥真萍科技告诉您。立式工业烤箱图片
真萍科技是具有设计、制造、销售及售后服务能力的综合性企业。上海生产工业烤箱
下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉一.产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。二、设计特点1、后门设计热风电机2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的三、技术指标1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;4、加热元件:石墨加热棒;5、冷却方式:气冷+循环风冷降温;6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);8、气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;9、极限真空:10-3torr级;10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr11、升温功率:170kW;12、升温速率:15℃/min(空载);13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高)上海生产工业烤箱
产品名称:洁净烘箱产品介绍:本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:1.无尘等级:Class100:(符合FED-STD209E标准:0.3um≤3...
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