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轮廓仪基本参数
  • 产地
  • 中国
  • 品牌
  • 超纳/SUBNANO
  • 型号
  • NanoX-2000/3000,NanoX-8000
  • 是否定制
轮廓仪企业商机

轮廓仪的性能

测量模式 :

移相干涉(PSI),白光垂直扫描干涉(VSI),单色光垂直扫描干涉(CSI)

样 品 台 :

150mm/200mm/300mm 样品台(可选配)

XY 平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,倾斜:±5°

可选手动/电动样品台

CCD 相机像素:

标配:1280×960

视场范围:

560×750um(10×物镜)

具体视场范围取决于所配物镜及 CCD 相机

光学系统:

同轴照明无限远干涉成像系统

光 源:

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手动聚焦(可选电动聚焦)

Z 方向扫描范围 精密 PZT 扫描(可选择高精密机械扫描,拓展达 10mm )

纵向分辨率 <0.1nm

RMS 重复性* 0.005nm,1σ

台阶测量** 准确度 ≤0.75%;重复性 ≤0.1%,1σ

横向分辨率 ≥0.35um(100 倍物镜)

检测速度 ≤ 35um/sec , 与所选的 CCD LED光源通过多***盘(MPD)和物镜聚焦到样品表面上,从而反射光。半导体设备轮廓仪质量怎么样

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轮廓仪的培训

一、 培训承诺

    系统建成后,我公司将为业主提供为期1天的**培训和技术资询;培训地点可以在我公司,亦或在工程现场;

    系统操作及管理人员的培训人数为10人,由业主指定,我公司将确保相关人员正确使用该系统;


1.1. 培训对象

    系统操作及管理人员(培训对象须具有专业技术的技术人员或实际值班操作人员);

    其他业主指定的相关人员。


1.2. 培训内容

    系统操作使用说明书。

    培训课程的主要内容是系统的操作、系统的相关参数设定和修改和系统的维修与保养与简单升级等,具体内容如下:

    * 系统文档解读;

    * 系统的技术特点、安装维护和系统管理方式;

    * 系统一般故障排除。





福建轮廓仪推荐产品共聚焦显微镜包括LED光源、旋转多***盘、带有压电驱动器的物镜和CCD相机。

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1.3. 培训计划

    在完成系统布线并开始设备安装后,即向甲方和业主介绍整个系统的概况及性能、特点、设备布置情况和相互之间的关系等,让甲方和业主对整个系统有一个***的认识。

    在整个系统验收前后,安排有关人员在进行培训。


1.4. 培训形式

    公司指派技术人员向相关人员讲解系统的原理、功能、操作及维修保养要点;

    向受训学员提供和解释有关设计文件及图纸等资料,使学员对系统的各个方面都能熟练掌握;

    针对系统的具体操作一一指导,使相关人员掌握技术要领;

    对学员提出的问题进行详细解答;




轮廓仪对精密加工的意义

现代化高新技术的飞速发展离不开硬件设施和软件系统的配套支持,在精密加工领域同样如此,虽然我们在生活中不曾注意到超精密加工产品的“身影”,但是它却与我们的生活息息相关。例如在光学玻璃、集成电路、汽车零部件、机器人**器件、航空航天材料、****设备等领域,都需要对加工的成品进行检测,从物体表面光滑到粗糙的参数,其中包含了从纳米到微米级别的轮廓、线粗糙度、面粗糙度等二维、三维参数,作为评定该物件是否合格的标准。因此光学轮廓仪应运而生,以下是表面三维轮廓仪对精密加工的作用: 三维表面轮廓仪是精密加工领域必不可少的检测设备,它既保障了生产加工的准确性,又提高了成品的出产效率。

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轮廓仪产品概述:  

NanoX-2000/3000

系列 3D 光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光

垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上,以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗

糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。


想要了解更多的信息,请联系我们岱美仪器。 表面三位微观形貌的此类昂方法非常丰富,通常可分为接触时和非接触时两种,其中以非接触式测量方法为主。晶片轮廓仪厂家

NanoX-8000的VSI/CSI:垂直分辨率 < 0.5nm ;准确度<1% ;重复性<0.1% (1σ,10um台阶高)。半导体设备轮廓仪质量怎么样

    比较椭圆偏振仪和光谱反射仪光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。获取反射光谱指南入射光角度的不同造成两种技术在成本,复杂度,和测量能力上的不同。由于椭偏仪的光从一个角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和强度,使得椭偏仪对超薄和复杂的薄膜堆有较强的测量能力。然而,偏振分析意味着需要昂贵的精密移动光学仪器。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应(绝大多数薄膜都是旋转对称)。因为不涉及任何移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。从下面表格可以看出,光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首 选,而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间,两种技术都可用。而且具有快速,简便,成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。光谱反射率光谱椭圆偏振仪厚度测量范围1nm-1mm(非金属)-50nm(金属)*-(非金属)-50nm(金属)测量折射率的厚度要求>20nm(非金属)5nm-50nm(金属)>5nm(非金属)>。半导体设备轮廓仪质量怎么样

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轮鯠廓仪冄,能頭樤描绘工件表面波度与粗糙度,并给出其数值的仪器,采用精密气浮导轨为直线基准。轮廓测试仪是对物体的轮廓、二维尺寸、二维位移进行测试与检验的仪器,作为精密测量仪器在汽车制造和铁路行业的应用十分广泛。
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