EVG ® 520 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印
气动压花选项
软件控制的流程执行
EVG ® 520 HE技术数据
加热器尺寸:150毫米,200毫米
比较大基板尺寸:150毫米,200毫米
**小基板尺寸:单芯片,100毫米
比较大接触力:10、20、60、100 kN
比较高温度:标准:350°C;可选:550°C
粘合卡盘系统/对准系统
150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200
200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT
真空:
标准:0.1毫巴
可选:0.00001 mbar EVG ® 7200 LA是大面积SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。官方授权经销纳米压印服务为先

**的衍射波导设计商和制造商WaveOptics***宣布与EV Group(EVG)进行合作,EV Group是晶圆键合和纳米压印光刻设备的**供应商,以带来高性能增强现实( AR)波导以当今业界*低的成本进入大众市场。波导是可穿戴AR的关键光学组件。
WaveOptics首席执行官David Hayes评论:“这一合作伙伴关系标志着增强现实行业的转折点,是大规模生产高质量增强现实解决方案的关键步骤,这是迄今为止尚无法实现的能力。” EVG的专业知识与我们可扩展的通用技术的结合将使到明年年底,AR终端用户产品的市场价格将低于600美元。“这项合作是释放AR可穿戴设备发展的关键;我们共同处于有利位置,可以在AR中引入大众市场创新,以比以往更低的成本开辟了可扩展性的新途径。” 广东纳米压印保修期多久EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。

HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产
■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)
■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术
■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章
■具备工作印章制造能力
EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作
■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构
■不同类型的母版的简单实现
■可变的光刻胶分配模式
■分配,压印和脱模过程中的实时图像
■用于压印和脱模的原位力控制
对于压印工艺,EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到比较大直径150 mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外,还可以包括用于印章的释放机构。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力,以实现高产量的压印,该卡盘支持软性和硬性印模。
EVG610特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻
µ接触印刷
步进重复纳米压印光刻可以从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。

纳米压印光刻(NIL) -SmartNIL ®
用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺
介绍:
EVG是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。
如果要获得详细信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。
EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻(UV-NIL)产品线。官方纳米压印有哪些应用
SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留可扩展性和易于维护的特点。官方授权经销纳米压印服务为先
为了优化工艺链,HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境,以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。
通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案,HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。
*根据ISO 14644
HERCULES ® NIL特征:
批量生产**小40 nm *或更小的结构
联合预处理(清洁/涂层/烘烤/寒意)和SmartNIL ®
体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源,固化时间**快
优化的模块化平台可实现高吞吐量
*分辨率取决于过程和模板 官方授权经销纳米压印服务为先