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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。

用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术,在100毫米范围内。

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名,它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件,**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。


EVG是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。半导体纳米压印研发可以用吗

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EVG ® 510 HE是EVG500系列的热压印系统


EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高

效且灵活的制造技术,对于尺寸低至50 nm的特征,其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有:EVG®510HE,EVG®520HE。 山东碳化硅纳米压印EVG ® 7200是自动SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统。

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EVG ® 7200 LA大面积SmartNIL

® UV纳米压印光刻系统

用于大面积****的共形纳米压印光刻。

EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术,将纳米压印光刻(NIL)缩放为第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济有效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。

SmartNIL利用非常强大且可控的加工工艺,提供了低至40 nm *的出色保形压印结果。凭借独特且经过验证的设备功能(包括****的易用性)以及高水平的工艺专业知识,EVG通过将纳米压印提升到一个新的水平来满足行业需求。

*分辨率取决于过程和模板

    纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography;NIL),现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样形成技术。据ETNews报导,南韩显示器面板企业LCD制程研发小组,未确认NIL设备实际图样形成能力,直接参访海外NIL设备厂。该制程研发小组透露,若引进相关设备,将可提升面板性能。并已展开具体供货协商。NIL是以刻印图样的压印机,像盖章般在玻璃基板上形成图样的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以压印机接触施加压力,印出面板图样。之后再经过蚀刻制程形成图样。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光图样,不需再另外贴附偏光薄膜。虽然在面板制程中需增加NIL、蚀刻制程,但省落偏光膜贴附制程,可维持同样的生产成本。偏光膜会吸收部分光线降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光图样,将不会发生降低亮度的情况。通常面板分辨率越高,因配线较多,较难确保开口率(ApertureRatio)。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制(制造)的***选择。

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SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。例如,SmartNIL提供了****的全区域共形压印,以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化,以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外,SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能,**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。


特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小

大面积全场压印

总拥有成本比较低

在地形上留下印记

对准能力

室温过程

开放式材料平台 纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。中芯国际纳米压印可以免税吗

岱美仪器代理的SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。半导体纳米压印研发可以用吗

SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板


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纳米压印是一种用于工程与技术科学基础学科领域的工艺试验仪器,于2015年06月30日启用。
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