浙江小型气氛炉

恒温恒湿箱试验箱是航空、汽车、家电、科研等领域必备的检测设备，用于测试电子、电工及其它产品及材料进行高温、低温、交变湿热度或恒定试验的温度环境变化参数及性能。该系列产品适用于航空航天产品、信息电子仪器仪表、材料、电工、电子产品、各种电子元气件在高低温或湿热环境下、检验其各项性能指标。下面为大家介绍一下真萍科技的恒温恒湿试验箱的构造特点。 在箱体构造方面，恒温恒湿箱是采用数控机床加工成型，造型美观大方、新颖，并采用无反作用把手，操作简便。工作室采用进口镜面板不锈钢制作而成，箱体外胆采用A3钢板喷塑。箱体外与内胆之间填充超细保温棉，隔温效果很好，有效的降低试验箱内的温度波动率，再配合抗老化硅橡胶密封条的严实密封，使箱体无雾气泄漏现象产生。由于试验箱内的环境恶劣，为观察清晰试验箱内的情况，合肥真萍在观察窗方面是选用多层钢化玻璃制作，并且在观察窗设置单独的照明灯和雾刷，保持良好的观察视野，随时监控试验情况。当然，为采集试验数据，箱体专门配置了直径50mm的测试孔，可连接记录仪，打印机和电脑气氛炉常见的用途有哪些？合肥真萍告诉您。浙江小型气氛炉

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的过滤系统。1.EBM电子式EC马达控制无尘室FFU。2.镜面不锈钢结构体。3.特殊导流风道设计，风压平均，可有效提供风量，降低噪音。4.电路板控制模块，提供安全保护装置，运转异常指示灯及控制干接点输出。5.无段式风量调速器可任意调整风量大小。6.滤网ULPA，0.12μm，99.9995%以上的过滤效果。7.电力规格：单相220V50Hz0.95A，输出功率150W。马鞍山气氛炉销售价格合肥真萍科技****，诚信之选。

恒温恒湿箱试验箱是航空、汽车、家电、科研等领域必备的检测设备，用于测试电子、电工及其它产品及材料进行高温、低温、交变湿热度或恒定试验的温度环境变化参数及性能。该系列产品适用于航空航天产品、信息电子仪器仪表、材料、电工、电子产品、各种电子元气件在高低温或湿热环境下、检验其各项性能指标。下面为大家介绍一下真萍科技的恒温恒湿试验箱的控制特点。加湿是恒温恒湿试验箱不同于高低温试验箱的相当主要一部分，恒温恒湿试验箱采用外置隔离式，全不锈钢锅炉式浅表面蒸发式加湿器。祛湿方式采用机械制冷祛湿，将空气冷却到温度以下，使大于饱和含湿量的水汽凝结析出，这样就降低了湿度。送风循环系统：空气循环系统由耐温低噪音空调型电机，多叶式离心风轮构成。它提供了试验机内空气的循环。控制系统是综合试验箱的**，它决定了试验机的升温速率，精度等重要指标。试验机的控制器大都采用PID控制，也有少部分采用PID与模糊控制相组合的控制方式。由于控制系统基本上属于软件的范畴，而且此部分在使用过程中，一般不会出现问题。

真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。1.长方体工作室，增加有效容积，微电脑温度控制器，精确控温。2.双层玻璃视窗观察工作室内物体，一目了然。3.箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行，所以不会氧化。6.真空程序分段控制，该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。合肥真萍电子科技有限公司经营气氛炉的定制。

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技精密鼓风烤箱采用进口液晶显示控制器，产品采用综合的电磁兼容设计和人性化的菜单设计，使得设备操作完全傻瓜化，控温效果较好。高亮度宽视窗液晶显示，示值清晰、直观。微电脑智能控制。设定温度和时间后，仪表自行控制加热功率，并显示加热状态，控温精确而稳定。超温报警并自动切断加热电源。电器控制系统：1.电气控制元器件均采用国内出名品牌“正泰”2.电气线路设计新颖，合理布线，安全可靠3.箱体顶部为电气控制柜，方便于集中检查维修安全保护系统：1.超温报警2.欠相缺相保护3.过电流保护4.快速熔断器5.接地保护合肥真萍告诉您如何正确使用气氛炉？扬州气氛炉保养

气氛炉有哪些种类？合肥真萍科技告诉您。浙江小型气氛炉

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。浙江小型气氛炉