客户示范
■工艺开发
■材料测试
■与合作伙伴共同研发
■资助项目
■小批量试生产
■IP管理
■过程技术许可证
■流程培训
→世界前列的洁净室基础设施
→**的设备
→技术**
→**计量
→工艺知识
→应用知识
→与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。
岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母版。台积电纳米压印可以免税吗
EVG ® 510 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印
完全由软件控制的流程执行
闭环冷却水供应选项
外部浮雕和冷却站
EVG ® 510 HE技术数据：
加热器尺寸：150毫米 ，200毫米
比较大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：单芯片，100毫米
比较大接触力：10、20、60 kN
比较高温度：标准：350°C；可选：550°C
夹盘系统/对准系统
150毫米加热器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加热器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
标准：0.1毫巴
可选：0.00001 mbar
掩模对准纳米压印技术原理EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。
SmartNIL技术简介
SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
EVG ® 520 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印
气动压花选项
软件控制的流程执行
EVG ® 520 HE技术数据
加热器尺寸：150毫米，200毫米
比较大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：单芯片，100毫米
比较大接触力：10、20、60、100 kN
比较高温度：标准：350°C；可选：550°C
粘合卡盘系统/对准系统
150毫米加热器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加热器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
标准：0.1毫巴
可选：0.00001 mbar EVG的EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。
EVG ® 610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到比较大150毫米。
该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。台积电纳米压印可以免税吗
EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制（制造）的***选择。台积电纳米压印可以免税吗
SmartNIL是一项关键的启用技术，可用于显示器，生物技术和光子应用中的许多新创新。例如，SmartNIL提供了****的全区域共形压印，以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化，以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外，SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能，**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。
特征：
体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度
专有SmartNIL ®技术，多使用聚合物印模技术
经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小
大面积全场压印
总拥有成本比较低
在地形上留下印记
对准能力
室温过程
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