工业烤箱始终贯穿在众多产品的生产过程中,应用于电子、光学、半导体、通讯、电镀、PCB、LED、新能源、光伏、家电和光学玻璃等众多方面,进行精密烘烤、固化、回火、预热和定型等工序。工业烤箱对温度、清洁度等方面有较高的要求,其质量直接影响到对整个产品的生产过程。工业烤箱属于干燥设备之一,由于每个烘烤产品...
工业烤箱的工作原理:工业烤箱在工作时,操作人员通过仪表和感温器来获得工业烤箱内部的温度值,在通过控制系统进行操作。工业烤箱的热风循环加热方式,与普通的散热加热方式相比,有着更好的气体流动性,能加快工业烤箱内物料的干燥速度。通过数显仪表与温感器的连接来控制温度,采用热风循环送风方式,热风循环系统分为水平式和垂直式。均经精确计算,风源是由送风马达运转带动风轮经由电热器,将热风送至风道后进入烘箱工作室,且将使用后的空气吸入风道成为风源再度循环加热运用,如此可有效提高温度均匀性。如箱门使用中被开关,可借此送风循环系统迅速恢复操作状态温度值。工业烤箱的运用领域有哪些呢?大工业烤箱专卖
下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱。本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:1无尘等级:Class100:(符合FED-STD209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)2温度范围:+60℃~+250℃(极限温度350℃)3温度均匀性:±2℃(空箱测试)4温度精确度:±1℃(空箱测试)5设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;合肥工业烤箱工业烤箱的重要组成部分。
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。洁净节能氮气柜的氮气监控系统:1.1、2.3”LED大屏幕数字显示湿度/温度。1.2、温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。1.3、温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。洁净节能氮气柜的湿度控制:2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。2.4.2湿度在1%-60%RH可调整。
冷热冲击试验箱具有模拟大气环境中温度变化规律。主要针对于电工,电子产品,以及其元器件及其它材料在高温,低温综合环境下运输,使用时的适应性试验。用于产品设计,改进,鉴定及检验等环节。真萍科技作为冷热冲击试验箱设备制造厂商,在冷热冲击试验箱设备制造领域的专业性是不用多说的。下面让真萍科技从温度方面,带您了解冷热冲击试验箱。一、温度波动度这个指标也有叫温度稳定度,控制温度稳定后,在给定任意时间间隔内,工作空间内任一点的较高和较低温度之差。这里有个小小的区别“工作空间”并不是“工作室”,是大约工作室去掉离箱壁各自边长的1/10的一个空间。这个指标考核产品的控制技术。二、温度范围指产品工作室能耐受和(或)能达到的极限温度。通常含有能控制恒定的概念,应该是可以相对长时间稳定运行的极值。一般温度范围包括极限高温和极限低温。一般标准要求指标为≤1℃或±0.5℃。三、温度均匀度旧标准称均匀度,新标准称梯度。温度稳定后,在任意时间间隔内,工作空间内任意两点的温度平均值之差的较大值。这个指标比下面的温度偏差指标更可以考核产品的**技术,因此好多公司的样本及方案刻意隐藏此项。一般标准要求指标为≤2℃。工业烤箱使用时要考虑什么问题?
1、本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2、箱体采用先进设备制作、业内的制造工艺流程、线条流畅、美观大方。3、工作室材质为不锈钢、外箱材质为优良冷轧钢板,产品外壳使用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合较好实验室的颜色搭配。4、工作室内的搁架不可调节。5、工作室与外箱之间的保温材质是优良超细玻璃纤维保温棉,保温厚度:>70mm,隔温效果好,国内,高性能的绝缘结构。从内到外有内腔、外壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层,内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特,极大减少了内腔热量的外传。6、门与门框之间采用高性能密封材料及独特的橡胶密封结构,密封、耐高温性、抗老化性好。工业烤箱可以去哪里购买?无尘工业烤箱的工厂
工业烤箱的基本结构级应用!大工业烤箱专卖
下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉一.产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。二、设计特点1、后门设计热风电机2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的三、技术指标1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;4、加热元件:石墨加热棒;5、冷却方式:气冷+循环风冷降温;6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);8、气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;9、极限真空:10-3torr级;10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr11、升温功率:170kW;12、升温速率:15℃/min(空载);13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高)大工业烤箱专卖
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