中山DLC涂层是一种由石墨原子组成的碳材料，类似于钻石。PVD涂层是物理i气相沉积，是指通过PVD加工制作各种涂层的涂层。那么DLC涂层和PVC涂层有什么区别？一、特点不同PVD涂层具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑等特点。DLC涂层具有硬度高、摩擦系数低、耐磨、耐腐蚀、附着力好、环保等特点。二、方法不同PVD涂层方法有：真空蒸镀、溅射镀、电弧等离子体镀、离子镀、分子束延伸等。DLC涂层包括真空蒸发、溅射、等离子体辅助化学气相沉积、离子注射等。三、用途不同PVD涂层广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域。DLC涂层广泛应用于钻头、铣刀、光盘模具及其辅助模具、剪刀、刮刀、粉末冶金模具、塑料模具、引线框弯曲模具、玻璃模具、镁合金加工模具、轴承等机械功能领域。DLC涂层加工可以获得高精度的表面粗糙度和厚度。高光洁度低摩擦DLC涂层原理
中山DLC涂层对活塞环摩擦性能的影响采用下图所示的活塞环摩擦力性能测试平台，对比了镀铬和DLC涂层技术对气环和油环摩擦性能的影响。试验结果表明，相比镀铬的气环和油环，采用DLC涂层技术可降低气环和油环的摩擦力。对于DLC涂层的气环而言，在0deg附近改善摩擦的效果较为明显；对于DLC涂层的油环，在180deg−360deg和-360deg—180deg的范围内改善摩擦的效果较为明显。DLC涂层活塞和缸套对发动机性能的影响由于DLC涂层可以有效降低磨损，延长摩擦副使用寿命，因此，可将缸套与气缸制成一体，完全采用DLC涂层铝基底材料，替换原来的铸铁缸套，使重量降低达5%左右；对活塞和缸套进行DLC膜涂层，可使摩擦系数降低20%，同时改善传热性能，终使发动机油耗改善2%-3%左右。高光洁度低摩擦DLC涂层原理DLC涂层具有很好的光学透过性，可以用于光学元件的表面保护。
中山DLC涂层的应用。DLC金刚石涂层以其独特的优点应用于对摩擦和磨损有特殊要求的场合，并受到好评。1.模压成型领域：DLC金刚石涂层技术可用于顶杆及各种镶件.模腔及型芯等。2.切割领域：可用于铣刀.钻头.硬质合金刀片等。3.引擎领域：活塞销.阀类.活塞.顶杆等。4.半导体领域：引脚成形模具的刀口件.封装模具的成形镶嵌件及镶块等。5.金属材料成型领域：DLC涂层可用于凹模.凸模.压印成型.精密冲裁等。6.其他部件：齿轮.轴.凸轮.轴承及自动滚轮等部件。
中山金刚石DLC涂层工艺流程：1、工件基体处理。这一步是比较重要的，将工件抛光到小于Ra0.2um,涂覆处理后的工件才可得到满意的表面质量，这对成形一些具有光学性能要求的零件是非常重要的，类似成形光学镜头和成形LED零件等。操作的时候需要注意基体表面处理不能留有死角，这影响到膜层是否能与基体牢固地结合。2、充分清洗。将要涂覆的工件进行充分清洗，涂覆的母材、质量水平和几何形状决定了清洗的工艺。工件装在设定的夹具上，夹具是在使腔体装载尺寸优化和保证涂覆均匀的基础上设计的。清洗方法为真空室抽真空至10-6托(高真空)来排除系统中的任何污染物，真空室中通入惰性气体并使其离子化，导致产生辉光放电(等离子体)，这是气体清洗阶段使零件做好金属沉淀准备。3、金属沉淀。在用于沉淀的固体金属上（指靶材）加载高电流、低电压电弧，金属被蒸发并且瞬间离子化，属离子在高能量的作用下通过惰性气体或活性气体进入腔体并沉淀在工件上。在金属沉淀过程中蒸发了的金属(靶材)保持不变。在激i活的沉淀过程中，改变气体的体积或种类将会改变膜层的性质，形成像碳化物、氮化物或氧化物的陶瓷。同样，通过改变靶材的材质也可以产生不同的膜层。DLC涂层加工的应用领域。
DLC类金刚石涂层具有较好的硬度、杰出的热传导性、低摩擦系数、优异的电绝缘性能、高化学稳定性等应用长处，在机械制造、生物医学、电子设备等范畴有着普遍的应用。DLC涂层首要选用物理Q相堆积法、化学气相堆积法来制备，经过专门的堆积设备进行生产制造。一、加热与水冷体系。加热体系与水冷体系均匀分布于堆积室四周，加热温度、速度及水量可控可调，并安装有相应的报警装置；旋转体系坐落堆积室底部，经过绝缘陶瓷进行绝缘，旋转速度可控可调。二、真空体系。真空体系由机械泵、罗茨泵、扩散泵及相应的操控阀门、测量元件组成，能够依据工艺需求自由地进行高真空和低真空的切换。DLC涂层增加模具硬度和抗腐蚀能使模具的维护周期增加。高光洁度低摩擦DLC涂层原理
利晟纳米分享DLC涂层的优势特点。高光洁度低摩擦DLC涂层原理
与电焊类似，DLC涂层在一定工艺气压下，引弧针与蒸腾离子源时间短接触，断开，使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不时移动的弧斑，在蒸腾源表面上连续构成熔池，使金属蒸腾后，堆积在基体上而得到薄膜层的，与磁控溅射相比，它不但有靶材使用率高，更具有金属离子离化率高，薄膜与基体之间别离力强的优点。此外，多弧镀涂层色彩较为安稳，特别是在做TiN涂层时，每一批次均简单得到相同安稳的金黄色，令磁控溅射法望尘莫及。DLC涂层镀钛厂多弧镀的缺乏之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度抵达0.3μm时，堆积率与反射率接近，成膜变得非常困难。并且，薄膜表面初步变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸腾，因此堆积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。可见，镀钛厂多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有好坏，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，完结互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。高光洁度低摩擦DLC涂层原理
