离子渗氮是传统渗氮手段之一,在表面处理行业应用广,离子渗氮后产品外观呈灰色,虽然可以通过在渗氮过程中通入适量的氧气来提高表面的氧含量来提高工件的耐蚀性,但是远达不到工研所QPQ氧化形成的氧化膜抗蚀性效果。离子渗氮温度更低,对于变形要求高、回火温度低,而工研所QPQ氧化处理的外观呈均匀一致的黑色,相较于离子渗氮外观及耐腐性更有优势,将两种渗氮工艺相结合,既可以保证离子渗氮形成的物相结构不发生变化,又可以在表面形成新的氧化膜从而提高工件的耐蚀性,同时也可适用于更多的生产场景,应用在更多的领域。经过QPQ表面处理的刀具具有更好的切削稳定性。防腐QPQ化合物层

QPQ是英文“Quench-Polish-Quench”的首字母缩写,释义为“淬火-抛光-淬火”。抛光是产品进行精细化处理的一种手段,还有喷丸(抛丸)、喷砂、研磨。可根据产品的技术要求(如外光要求、粗糙度要求、盐雾时间要求)选择合适的精细化处理方式。抛光是指利用机械、化学或者电化学的方式使工件表面粗糙度降低,以获得光亮平整的表面,QPQ常见的抛光方式有振动抛光、杆式抛光、布伦抛光以及羊毛刷手动抛光等;喷丸主要通过去除工件表面的疏松层与氧化膜来提供工件的机械性能和防腐性能,经过工研所QPQ处理的42CrMo工件进行抛丸处理,发现工件表面氧化膜去除,化合物层完好,耐蚀性提高;喷砂的破坏力强于喷丸,在使用过程中通常使用80目以上的玻璃砂,喷砂工艺不仅应用于后处理上,对于某些不锈钢产品,为确保产品外观,在QPQ处理前也需要进行喷砂处理以消除表面残余应力;研磨是通过研具与工件在一定压力下的相对运动对工件表面进行精整加工,主要应用于表面粗糙度较高、精密零件采用的工艺,加工精度可达IT5~01,表面粗糙度可达Ra0.63~0.01μm,研磨方法一般可分为湿研、干研和半干研,目前使用较多的一般是铜棒研磨。防腐QPQ化合物层成都工具研究所有限公司的QPQ表面处理技术可以使刀具具有更好的耐用性和可靠性。

工研所的QPQ表面复合处理技术与传统的热处理方法相比,工研所的QPQ表面复合处理技术在处理过程中的零件不会发生形变,能够保持零件原有的形状和尺寸;QPQ技术生产效率高,可快速完成对零件的表面处理,这对于生产周期短、持续高效的产线来说非常重要;QPQ技术处理后的零件具有优良的稳定性,能够长时间保持良好的性能,这使得QPQ处理后的零件在各种工况下都能够持续稳定地工作,提高了零件的使用寿命;QPQ技术适用于各种类型的金属零件,能够满足不同领域的零件处理需求,这使得QPQ技术在各个领域都有着广泛的应用前景;同时,处理后的零件表面光滑度高,不需要额外的抛光工艺,节省了生产成本,提高了生产效率;
发黑处理的原理是使金属表面产生一层黑色的氧化膜,以隔绝空气达到防锈的目的,但是根据零件的不同,有时不会变为黑色,如Q235钢在550℃高温下氧化形成的氧化膜呈蓝色,在130-150℃高温下形成的氧化膜呈黑色。该工艺形成的氧化膜层厚度约0.5-1.5μm,且无硬度提升。发黑处理后的金属零件表面的防锈油一旦挥发殆尽,则会变得易于生锈。而经工研所QPQ处理后的金属表面形成一层硬度较高的氮化物层,通常碳钢材料可形成10-20μm的白亮层,这种氮化层具有极高的硬度和耐磨性,能够有效提高金属制品的表面硬度、耐磨性和耐蚀性。成都工具研究所有限公司利用QPQ表面处理技术,使刀具具有更好的切削质量。

达克罗表面处理技术是一种防腐蚀涂层技术,主要用于金属制品的表面保护。它采用化学镀的方法,将一层具有防腐蚀性能的无机镀层均匀地覆盖在金属表面。这种镀层主要由超细鳞片状锌、铝和铬等组成,由于片状锌、铝层状重叠,阻碍了水、氧等腐蚀介质与钢铁零件的接触,同时在达克罗的处理过程中,铬酸与锌、铝粉和基体金属发生化学反应,生成致密的钝化膜,这种钝化膜具有很好的耐腐蚀性能,该工艺对螺栓固件的应用较广。该技术主要用于防腐蚀保护,而膜层本省的硬度不高,不具备一定强度的耐磨性。而工研所QPQ技术在提高金属制品的表面硬度和耐磨性的同时,依靠表面的氧化膜和氮化物层可大幅度提高工件的防腐能力,它更多地用于提高金属制品的硬度和耐磨性以及防腐性。QPQ表面处理可以显著提高刀具的硬度和耐磨性。防腐QPQ使用寿命
经过QPQ表面处理的刀具具有更好的抗腐蚀性能。防腐QPQ化合物层
工研所的QPQ技术是通过在高温(400~650℃)下对工件进行氮化和氧化处理,使金属表面形成一层高硬度的氮化物层,通常碳钢材料可形成10-20μm的白亮层,不锈钢、模具钢可形成100μm左右的扩散层。该技术在相变温度以下处理具有微变形的特性,独有的氧化工序可以分解氮化盐,使其达到国家排放标准,具有环保环保的特性。工研所的QPQ表面复合处理技术应用行业非常广,例如在汽车、摩托车、机车、纺织机械、工程机械、石油机械、化工机械、机床、仪器仪表、照相机、齿轮、模具、工具各行各业均有应用。防腐QPQ化合物层