双极型三极管的电流传输关系：发射结加正偏时，从发射区将有大量的电子向基区扩散，形成的电流为IEN。与PN结中的情况相同。从基区向发射区也有空穴的扩散运动，但其数量小，形成的电流为IEP。这是因为发射区的掺杂浓度远大于基区的掺杂浓度。进入基区的电子流因基区的空穴浓度低，被复合的机会较少。又因基区很薄，在集电结反偏电压的作用下，电子在基区停留的时间很短，很快就运动到了集电结的边上，进入集电结的结电场区域，被集电极所收集，形成集电极电流ICN。在基区被复合的电子形成的电流是 IBN。三极管放大电路主要利用三极管或场效应管的控制作用放大微弱信号。广东锗管三极管安装方式
选用三极管需要了解三极管的主要参数。若手中有一本晶体管特性手册好。三极管的参数很多，其中必须了解的四个极限参数：ICM、BVCEO、PCM、fT、TON TOFF 等，可满足95%以上的使用需要。ICM是集电极大允许电流。三极管工作时当它的集电极电流超过一定数值时，它的电流放大系数β将下降。为此规定三极管的电流放大系数β变化不超过允许值时的集电极大电流称为ICM。所以在使用中当集电极电流IC超过ICM时不至于损坏三极管，但会使β值减小，影响电路的工作性能。江苏超频三极管生产盟科电子的三极管是可以定制，OEM。
三极管饱和区的特点是，三级管的电流与IB和VCE有关，但是与VCE相关程度更大，因为可以看到当VCE固定时，不同的IB变化引起的IC变化不大；但是反过来，IB固定，VCE变化一点点就会引起IC剧烈变化，换句话说三极管已经饱和了，已经不受控于IB而受控于VCE了。饱和的意思就是满了，我们可以用向水杯子倒水的模型来理解这个过程，IB就是倒水的水流，IC就是水面的高度，VCE就是指水面的高度。饱和就是指水满了，饱和时状态所示，此时水面高度IC已经满了（已经饱和）不受控于IB了，而受控于水杯的高度VCE，如果想要进一步增加IC，就需要增加水杯高度VCE，这样理解饱和这个概念就更形象易懂了。
三极管的工作原理：线性区NMOS如果栅上加正电压，就会在其下感应出相反极性的负电荷，从而产生N型沟道，使源漏导通。如果不考虑源漏电压影响，则栅压高一点，产生的沟道就宽一点，导通能力就大一点，这就是线性区。NPN管如果BE结加正向偏置导通，电子就会进入到基区。除了被基区的P型空穴俘获外，它们有两个地方可以去：一个是从基极流出，一个是被集电极更高的正电压吸收。集电极电压越高，能收集到的电子就会越多，这也是线性变化的。在线性区，随着电压升高，源漏电流或集电极电流上升。而在饱和区电压升高，电流基本都保持不变。二者的趋势基本一致。三极管中间部分是基区，两侧部分是发射区和集电区，排列方式有PNP和NPN两种。
正向放大区（或简称放大区）：当发射结正向偏置，集电结反向偏置时，晶体管工作在放大区。大多数双极性晶体管的设计目标，是为了在正向放大区得到大的共射极电流增益。晶体管工作在这一区域时，集电极-发射极电流与基极电流近似成线性关系。由于电流增益的缘故，当基极电流发生微小的扰动时，集电极-发射极电流将产生较为有名变化。反向放大区：当发射结反向偏置，集电结正向偏置时，晶体管工作在反向放大区。此时发射区和集电区的作用与正向放大区正好相反，但由于集电区的掺杂浓度低于发射区，反向放大区产生的放大效果小于正向放大区。而大多数双极性晶体管的设计目标是尽可能得到大正向放大电流增益，因此在实际这种工作模式几乎不被采用。晶体三极管，是半导体基本元器件之一，也是电子电路的元件。中山小功率三极管特性
BJT、JFET、MOS管，半导体三极管里较基础、较重要的三剑客。广东锗管三极管安装方式
三极管的发明晶体三极管出现之前是真空电子三极管在电子电路中以放大、开关功能控制电流。真空电子管存在笨重、耗能、反应慢等缺点。二战时，上急切需要一种稳定可靠、快速灵敏的电信号放大元件，研究成果在二战结束后获得。早期，由于锗晶体较易获得，主要研制应用的是锗晶体三极管。硅晶体出现后，由于硅管生产工艺很高效，锗管逐渐被淘汰。经半个世纪的发展，三极管种类繁多，形貌各异。小功率三极管一般为塑料包封；大功率三极管一般为金属铁壳包封。广东锗管三极管安装方式
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