为高斯声波经过聚焦透镜的声压场测试结果，(c)为高斯声波经过发散透镜的声压场测试结果，(d)为高斯声波经过偏折透镜的声压场测试结果，(e)为高斯声波经过高透射透镜的声压场测试结果；图9是本实用新型实施例中旋转可调的多功能二维声学超材料透镜在4000hz下的实验结果，(a)为高斯声波在空气中的声压场测试结果，(b)为高斯声波经过聚焦透镜的声压场测试结果，(c)为高斯声波经过发散透镜的声压场测试结果，(d)为高斯声波经过偏折透镜的声压场测试结果，(e)为高斯声波经过高透射透镜的声压场测试结果；图10是本实用新型实施例中旋转可调的多功能二维声学超材料透镜在9000hz下的实验结果，(a)为高斯声波在空气中的声压场测试结果，(b)为高斯声波经过聚焦透镜的声压场测试结果，(c)为高斯声波经过发散透镜的声压场测试结果，(d)为高斯声波经过偏折透镜的声压场测试结果，(e)为高斯声波经过高透射透镜的声压场测试结果。具体实施方式下面结合实施例和说明书附图对本实用新型作进一步的说明。以下实施例*是本实用新型的推荐实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和等同替换。菲涅尔透镜玻璃包括哪些构件？北京热红外透镜材料
壳材806可以具有小于10nm、小于5nm、小于1nm的厚度或单层原子。图9a至9c示出了根据一些实施例的图案化在vcsel结构的顶层802上的元原子的不同示例。图9a示出了***元结构902，其中，壳材806围绕用于每个元原子的芯材804，但是不覆盖顶层802在每个元原子之间的区域。在蚀刻工艺期间，使用例如光刻胶或硬掩模来保护壳材806的围绕芯材804的部分，以移除壳材806在顶层802的表面上的暴露部分。图9b示出了第二元结构904，其中，壳材906共形地覆盖包括芯材804的所有表面和顶层802的表面。图9c示出了第三元结构906，其中，壳材806*覆盖芯材804的一个或多个侧壁。在沉积壳材806后，可以执行包层各向异性干法蚀刻工艺，以移除壳材806的所有水平平面部分，*留下芯材804的侧壁上的那些部分。图10示出了根据实施例的包括不止一种类型的元原子的元结构1000(这里称为“元分子(metamolecule)”)的另一示例。根据实施例，***元原子1002包括具有基部1006和顶部1008的芯材。基部1006可以比顶部1008更宽或更窄。第二元原子1004包括芯材1010，并且***元原子1002和第二元原子1004二者被壳材1012环绕。北京热红外透镜材料单反菲涅尔透镜包括哪些怎么样？
面部识别、从图像的特征提取等)、以及改善机器人及其环境之间的交互的机器人学在内的很多领域有用。但是，仍然有很多与sli相关联的未解决的问题。技术实现要素：本申请一方面提供了一种激光源。该激光源包括：衬底；一个或多个***垂直腔面发射激光器(vcsel)结构，一个或多个***vcsel结构在衬底的表面上，其中每个***vcsel结构具有***孔径宽度，并且每个***vcsel结构单独地在衬底的表面上方延伸；以及一个或多个第二vcsel结构，一个或多个第二vcsel结构在衬底的表面上，其中每个第二vcsel结构具有不同于***孔径宽度的第二孔径宽度，并且每个第二vcsel结构单独地在衬底的表面上方延伸。本申请另一方面提供了一种光投影仪系统。该光投影仪系统包括：激光源，被配置为生成向物体发送的辐射，以及图像传感器，被配置为接收从物体反射的辐射。该激光源包括：衬底，一个或多个***vcsel结构，一个或多个***vcsel结构在衬底的表面上，其中每个***vcsel结构具有***孔径宽度，并且每个***vcsel结构单独地在衬底的表面上方延伸，以及一个或多个第二vcsel结构，一个或多个第二vcsel结构在衬底的表面上，其中每个第二vcsel结构具有不同于***孔径宽度的第二孔径宽度。
并且可以被用来重建物体104的3d表示。发射的辐射106和接收的辐射108可以是具有在大约400nm到大约700nm的范围中的波长的可见光。在另一示例中，发射的辐射106和接收的辐射108包括具有在大约700nm到大约1400nm的范围中的波长的近红外辐射。在一个示例中，发射的辐射106和接收的辐射108均包括在大约935nm到大约945nm范围中的波长。图2示出了根据实施例的光投影仪系统102的各种组件。光投影仪系统102包括光源202、透镜204、检测器206、深度确定电路208、源驱动器电路210、以及处理器212。光源202可以被设计为生成辐射106并向物体发射辐射106。光源202可以是用于生成辐射106的包括一个或多个激光二极管或激光腔的激光源。根据实施例，激光源202包括用于生成辐射106的多个vcsel。多个vcsel可以被布置在诸如硅或其他半导体衬底之类的衬底上，如将参考图3更详细地描述的。透镜204可以表示用于收集接收辐射108并且向检测器206引导接收的辐射的任意数目的透镜元件，如根据本公开将明白的。检测器206接收辐射108，并且将接收的辐射转换为发送给深度确定电路208的电信号。检测器206可以是电荷耦合装置(ccd)或者可以使用互补金属氧化物半导体(cmos)阵列来收集辐射。菲涅尔透镜的设计技术指导。
适当的结构化光投影仪通常包括激光设备，该激光设备采用衍射图案实现期望的结构化光图案。一个示例激光设备是结合激光条纹使用的垂直腔面发射激光器(vcsel)。但是，存在与这种配置相关联的局限。例如，使用激光条纹获取精确的剖面信息的局限主要归因于与激光相关联的噪声和采样误差，因为激光条纹的中心可能不是在相机的像素中心成像并且可能不是检测到的强度峰值。当在图像上定位激光条纹的中心时出现采样误差。存在尝试从激光条纹提取相关信息的诸如，比较大强度、强度中心、高斯拟合、以及过零点之类的图像处理技术。与这些技术中的若干技术相关联的问题在于，其给出了比较高峰值的位置，但是该位置不是条纹的真实中心。与激光相关联的噪声主要采取激光斑点的形式，该激光斑点当从该部分的表面被反射出来时是激光的强度剖面的振荡并且是由激光的相干导致的。可以使用对接收的图像的数字后处理来补偿激光斑点。但是，这会是计算密集的并且导致相对较高的功率消耗，并且进一步导致3d图像的创建的延迟。因此，根据本公开的实施例，结构化光投影仪采用新型激光源设计，该激光源设计在相对于标准技术不增加计算负担的条件下减少或基本消除了激光斑点。另外。菲涅尔透镜制取检测技术。陕西红外透镜生产企业
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每个***vcsel结构具有***孔径宽度并且单独地在衬底的表面上方延伸。一个或多个第二vcsel结构在衬底的表面上，每个第二vcsel结构具有不同于***孔径宽度的第二孔径宽度并且单独地在衬底的表面上方延伸。示例2包括示例1的主题，其中，一个或多个***vcsel在衬底的表面上的***区域中，一个或多个第二vcsel在衬底的表面上的不同于***区域的第二区域中。示例3包括示例1或2的主题，其中，一个或多个***vcsel和一个或多个第二vcsel在衬底的表面上的伪随机图案中。示例4包括示例1至3中任一项的主题，其中，一个或多个***vcsel和一个或多个第二vcsel被配置为发射红外辐射。示例5包括示例1至4中任一项的主题，其中，一个或多个***vcsel中的每个***vcsel被配置为发射具有两个或更多个横向模式的辐射。示例6包括示例1至5中任一项的主题，其中，一个或多个第二vcsel中的每个第二vcsel被配置为发射具有单个横向模式的辐射。示例7包括示例1至6中任一项的主题，还包括在衬底的表面上的一个或多个第三垂直腔面发射激光器(vcsel)结构，每个第三vcsel结构具有不同于***孔径宽度和第二孔径宽度的第三孔径宽度并且单独地在衬底的表面上方延伸。示例8包括示例1至7中任一项的主题，其中。北京热红外透镜材料
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