用于***元原子1002和第二元原子1004二者的芯材和壳材可以包括如上针对芯材804和壳材806所述的材料，并且可以使用如上针对芯材804和壳材806所述的相同技术来制造。可以使用任意数目的具有任意形状或大小的元原子来一起形成元分子。可以横跨顶层802的表面重复具体的元分子结构，或者可以横跨顶层802的表面布置不同的元分子结构。元分子允许不同的光学相互作用基于各个元原子的不同几何形状而组合在一起。方法图11是示出根据本公开的实施例的用于降低来自激光源的斑点噪声的示例方法1100的流程图。可以看出，示例方法1100包括多个阶段和子处理，这些阶段和子处理的顺序可以随实施例改变。但是，当综合考虑时，这些阶段和子处理形成根据本文公开的某些实施例的用于降低来自激光源的斑点噪声的处理。如上所述，可以例如，使用图2所示的系统架构来实现这些实施例。但是，根据本公开将明白的是，在其他实施例中可以使用其他系统架构。因此，图11所示的各种功能与图2所示的具体组件的关联不意在暗示任何结构和/或使用限制。相反，其他实施例可以包括例如不同程度的集成，其中，多个功能由一个系统有效地执行。根据本公开将明白多种变化和替代配置。如图11所示，在一个实施例中。菲涅尔透镜聚光原理技术指导。重庆远红外透镜
本申请大体涉及成像领域，具体地涉及高计算效率的结构化光成像系统。背景技术：创建3d图像的一种途径被称为结构化光照明(sli)技术。在sli技术中，光图案被投射到3d物体表面上。sli系统包括相机和投影仪(照明器)。3d物体被放置在与投影仪和相机相距预定距离的参考平面上。在使用中，投影仪将结构化光图案投射到3d物体表面上。结构化光图案可以是一系列条纹线或网格或任何其他图案。当结构化光图案被投射到3d物体表面上时，其被3d物体表面扭曲。相机捕捉在结构化光图案中具有的扭曲的3d物体表面的图像。然后，图像被存储在图像文件中，以供图像处理设备处理。在一些情况下，多个结构化光图案被投影仪(照明器)投射到3d物体表面上，并且具有结构化光图案的3d物体的多个图像被相机捕捉。在图像文件的处理期间，对结构化光图案中的扭曲进行分析，并且执行计算以确定3d物体表面上的各个点相对于参考表面的参考测量结果。这种图像处理使用标准测距或三角测量方法。相机和投影图案之间的三角测量角导致与表面的深度直接相关的扭曲。一旦这些测距技术被用来确定3d物体表面上的多个点的位置，则3d物体的3d数据表示即可被创建。3d物体的数字再造在包括图像识别(例如。重庆远红外透镜菲涅尔透镜衍射检测技术。
菲涅尔透镜是透镜的一个分支，由于它同其他的透镜相比，具有体积小，重量轻，结构紧凑的优点，同时它拥有不逊于其它透镜的良好聚光性和成像性能，因此在GF、航空、空间、工业生产和民用等各个领域获得普遍的应用。在光学系统中，应用菲涅尔透镜的作用就是将光线从相对较大的区域面积转换成相当小的面积上，这种透镜也被称做集光器或聚光器。在太阳聚光领域，菲涅尔透镜是聚光太阳能系统（CPV)中重要的光学部件之一。太阳菲涅尔透镜聚光镜就是，透镜的焦点刚好落在太阳能芯片上。当透镜面垂直接面向太阳时，光线将会被聚焦在电池片上。
一个或多个***vcsel和一个或多个第二vcsel被配置为发射红外辐射。示例14包括示例10至13中任一项的主题，其中，一个或多个***vcsel中的每个***vcsel被配置为发射具有两个或更多个横向模式的辐射。示例15包括示例14的主题，其中，一个或多个第二vcsel中的每个第二vcsel被配置为发射具有单个横向模式的辐射。示例16包括示例10至15中任一项的主题，其中，激光源还包括在衬底的表面上的一个或多个第三垂直腔面发射激光器(vcsel)结构，每个第三vcsel结构具有不同于***孔径宽度和第二孔径宽度的第三孔径宽度并且单独地在衬底的表面上方延伸。示例17包括一种降低来自激光源的斑点噪声的方法。该方法包括：从布置在衬底上的一个或多个***vcsel结构发射具有***波长的辐射；以及从布置在衬底上的一个或多个第二vcsel结构发射具有第二波长的辐射，其中，第二波长不同于***波长。具有***波长的辐射包括***数目的横向模式，具有第二波长的辐射包括第二数目的横向模式，第二数目的横向模式不同于***数目的横向模式。示例18包括示例17的主题，其中，发射具有***波长的辐射包括发射红外辐射，并且其中，发射具有第二波长的辐射包括发射红外辐射。示例19包括示例17或18的主题，其中。菲涅尔透镜图材料模板有哪些？
壳材806可以具有小于10nm、小于5nm、小于1nm的厚度或单层原子。图9a至9c示出了根据一些实施例的图案化在vcsel结构的顶层802上的元原子的不同示例。图9a示出了***元结构902，其中，壳材806围绕用于每个元原子的芯材804，但是不覆盖顶层802在每个元原子之间的区域。在蚀刻工艺期间，使用例如光刻胶或硬掩模来保护壳材806的围绕芯材804的部分，以移除壳材806在顶层802的表面上的暴露部分。图9b示出了第二元结构904，其中，壳材906共形地覆盖包括芯材804的所有表面和顶层802的表面。图9c示出了第三元结构906，其中，壳材806*覆盖芯材804的一个或多个侧壁。在沉积壳材806后，可以执行包层各向异性干法蚀刻工艺，以移除壳材806的所有水平平面部分，*留下芯材804的侧壁上的那些部分。图10示出了根据实施例的包括不止一种类型的元原子的元结构1000(这里称为“元分子(metamolecule)”)的另一示例。根据实施例，***元原子1002包括具有基部1006和顶部1008的芯材。基部1006可以比顶部1008更宽或更窄。第二元原子1004包括芯材1010，并且***元原子1002和第二元原子1004二者被壳材1012环绕。菲涅尔透镜生产厂家哪里有卖的？广东微型红外透镜按需定制
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由于激光斑点的出现从一开始(实际上在图像捕捉时，通过激光源设计)就被管理或以其他方式减少，所以也消除或以其他方式降低了对于捕捉图像上的基于斑点的后处理的需求。根据实施例，用在结构化光投影仪中的激光源包括衬底、布置在衬底上的一个或多个***vcsel、以及布置在衬底上的一个或多个第二vcsel。一个或多个***vcsel各自具有***孔径宽度，并且各自单独地在衬底的表面上延伸。一个或多个第二vcsel各自具有不同于***孔径宽度的第二孔径宽度，并且各自单独地在衬底的表面上延伸。使用具有不同孔径宽度的vcsel的阵列提供了具有不同波长的发射辐射，从而提供了不同的斑点图案。当在检测器上被接收时不同的斑点图案被平均，此时斑点噪声被减少或基本消除。从各种vcsel结构发射的光可以被调制，以在物体上形式特定图案(网格、点阵等)。调制可以包括创建相长干涉和相消干涉的区域，以有效地将光输出“图案化”为任何期望的图案。可以使用各种技术对光进行调制，这些技术包括诸如透镜和衍射元件之类的光学组件的结合。但是，本文描述的实施例将包括两种或更多材料的亚波长结构(sws)直接集成到vcsel结构上以操控光输出。重庆远红外透镜
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