滤光片基本参数
  • 品牌
  • HYO
  • 型号
  • HSO窄带天文观察滤光片
  • 类型
  • 窄带滤光片
  • 用途
  • 天文观察
  • 形状
  • 圆形
滤光片企业商机

一,减反射膜又称增透膜,它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光,从而增加这些元件的透光量,减少或消除系统的杂散光。**简单的增透膜是单层膜,它是镀在光学零件光学表面上的一层折射率较低的薄膜。当薄膜的折射率低于基体材料的折射率时,两个界面的反射系数r1和r2具有相同的位相变化。如果膜层的光学厚度是某一波长的四分之一,相邻两束光的光程差恰好为π,即振动方向相反,叠加的结果使光学表面对该波长的反射光减少。适当选择膜层的折射率,使得r1和r2相等,这时光学表面的反射光可以完全消除。一般情况下,采用单层增透膜很难达到理想的增透效果,为了在单波长实现零反射,或在较宽的光谱区达到好的增透效果,往往采用双层、三层甚至更多层数的减反射膜。图1的a、b、c分别绘出Kg玻璃表面的单层、双层和三层增透膜的剩余反射曲线。水分子折射率温度系数的作用跟膜层材料的作用已经可比拟,甚至更大。湖北SII滤光片工厂

目前,光学薄膜的淀积中用得较多是热蒸发.它的基本原理是把被蒸发材料加热到蒸发温度,使之挥发淀积到基体形成所需要的膜层.大部分材料,特别是化合物,只能采用间接蒸发,即需要一个盛放并加热材料的蒸发源.选择蒸发源的三个基本要求:蒸发源材料的熔点和蒸气压;蒸发源材料与薄膜材料的反应以及薄膜材料的湿润性.简单和常用的方法是用高熔点的材料作为加热器,它相当于一个电阻,通电后产生热量,电阻率随之增加,当温度为1000度时蒸发源的电阻率为冷却时的4~5倍;在2000度时,增加到10倍,加热器产生的焦耳热就足以使蒸发材料的分子或原子获得足够大的动能而蒸发.浙江O-III滤光片销售昊跃光学生产HSO天文滤镜。

背景技术:在包括视频会议、数码影像、影音处理、远程医疗及实时监控等方面,摄像头在其中扮演着不可或缺的地位,通过摄像头可实现其中**重要的摄像功能。摄像头的使用场景的光线环境不能确定,需要保证在包括白天与黑夜的光线环境中均能正常使用。因此,通常会在摄像头的前端安装滤光片,并且针对不同光线强度的环境,滤光片需要进行切换使用。现有的滤光片切换装置中,装置的壳体多通过螺丝进行锁紧连接。螺丝锁紧不仅难以定位组装,同时降低了整体装置的外型美观,且螺丝锁紧的组装工序繁琐,生产效率低,零部件多,组装及零部件成本高。技术实现要素:本实用新型的目的在于针对现有技术中存在的缺陷或不足,提供了一种滤光片切换装置。该滤光片切换装置将各零部件模块成型后再进行适配插接的装配方式进行组装,组装定位精度高,降低了组装难度,提高了生产效率,且零部件少,组装后的整体外型美观,有效降低了组装成本及零部件成本。

常规情况下,偏振无关的滤光片,由于消偏振设计需要两种或两种以上的折射率介质膜或者金属膜交替堆叠形成。高折射率膜层通常采用不同氧化物形成,例如tio2、nb2o5、ta2o5及它们的混合物,中折射率膜层通常采用al2o3及氧化物混合物(alxpryoz、alxlayoz、alxtayoz等),低折射率膜层通常采用sio2、mgf2,金属ag等。金属膜和介质膜混合镀制的偏振无关滤光片,由于其极差的可靠性,使用寿命低,远远不如硬介质氧化膜。然而,基于硬介质氧化膜的偏振无关滤光片,只能实现很小角度范围内的消偏。为了使偏振无关滤光片在更大角度范围内实现消偏振,理想的措施是保持p光和s光偏振光谱有着一致的角度波长漂移效应。用电子束(EB)蒸发的TiO2和SiO2薄膜系统具有重要的应用。

    对待UV光时,需要特殊的UV光学理论。UV应用中重要的材料参数是低泡和夹杂物含量,折射率很好的均匀性,双折射很小,表面很光滑。尤其是应用强UV激光器时,长期抗紫外线强度也很重要。在纯的氟化钙中需要用到UV光学,该材料具有很低的UV吸收,很高的均匀性,低双折射,高硬度(与其它氟化物材料相比),高稳定性和高损伤阈值。可以在低于160nm时使用,因此可用于氟化氩准分子激光器。但是它是易碎的,非各向同性的,并且吸湿。它的替代物是UV级的熔融二氧化硅,可以用于波长小于200nm时,而便宜的标准的熔融二氧化硅在小于260nm时具有很大的损耗。另一个可用的材料是钻石,它在小于230nm时是透明的,但是非常昂贵。有些光纤可以用于近紫外光谱区域,但是传播损耗相对比较高。用光纤传输紫外光在波长较短或者功率更高的情况下都是不可行的。在EUV区域,几乎所有的固体材料都有强烈的吸收,空气中在小于200nm时也会产生很强的衰减,因此真空UV或EUV用于光刻时需要在真空条件下。布拉格反射镜可以在EUV区域,采用钼/硅(Mo/Si)结构制备,在12nm处可以得到约70%的反射率。由于其反射率有限,因此需要改变EUV光学结构设计得到极小数目的反射表面。 滤光片是用来选取所需辐射波段的光学器件。陕西观月滤光片销售

通过改变入射光线角度来控制画面的反差(即明暗对比),以突出主体。湖北SII滤光片工厂

    用电子束(EB)蒸发的TiO2和SiO2薄膜系统具有重要的应用。但是用常规的蒸发技术,即使基板的温度高达300℃以上,薄膜仍呈现出明显的柱状结构特性。这种柱状结构的薄膜,由于膜层中包含着大量的空隙,因此随着薄膜滤光片吸潮,膜层折射率升高,滤光片的中心波长就会产生明显的漂移。为了表征这种结构特性,人们提出了聚集密度P,它被定义为薄膜中固体部分的体积与总体积之比。所以它是一个描述薄膜疏松程度的物理量。随着离子镀膜技术的发展,诸如离子辅助淀积(IAD),反应离子镀(RIP)和离子束溅射(IBS)等,薄膜的聚集密度得到了明显的提高,甚至已经有实验报道,有些薄膜的聚集密度大于1。这意味着薄膜的密度比自然界中的大块材料的密度还要高,原因是在高聚集密度的薄膜中,常常呈现出较大的压应力,致使薄膜具有更高的聚集密度。但是,即使薄膜的聚集密度大于1,滤光片中心波长仍会出现漂移。已经认识到,影响薄膜滤光片中心波长漂移的不仅是聚集密度,而且还有薄膜与基板的温度折射率系数和热膨胀系数。所以滤光片的中心波长漂移可以简单地表示为Δλ=薄膜空隙吸潮引起的漂移+温度折射率变化引起的漂移+热膨胀引起的漂移。 湖北SII滤光片工厂

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