场效应管是场效应晶体管（FieldEffectTransistor,FET）的简称。它属于电压型半导体器件，具有输入电阻高、噪声小、功耗低、没有二次击穿现象、安全工作区域宽、受温度影响小等，特别适用于高灵敏度和低噪声的电路，现已成为普通晶体管的强大竞争者。普通晶体管（三极管）是一种电流元件，工作时，多数载流子和少数载流子都参与运行，所以被称为双极型晶体管；而场效应管（FET）是一种电压器件（改变其栅源电压就可以改变其漏极电流），工作时，只有一种载流子参与导电，因此它是单极型晶体管。场效应管和三极管一样都能实现信号的和放大，但由于他们构造和工作原理截然不同，所以二者的差异很大。在某些特殊应用方面，场效应管优于三极管，是三极管无法替代的。 场效应管工作原理用一句话说，就是“漏极-源极间流经沟道的ID。佛山结型场效应管
场效应管具有许多出色的性能特点。首先，其输入电阻极高，可达数百兆欧甚至更高。这意味着它对输入信号的电流要求极小，从而减少了信号源的负担。其次，场效应管的噪声系数很低。在对噪声敏感的应用中，如高精度测量仪器和通信设备，这一特点使其成为理想的选择。再者，场效应管的热稳定性较好。在高温环境下，其性能相对稳定，不易出现因温度升高而导致的性能下降。例如，在医疗设备中，场效应管的低噪声和高稳定性有助于精确检测和处理生理信号。 绍兴P沟增强型场效应管命名场效应晶体管可由沟道和栅极之间的绝缘方法来区分。
场效应管的分类方式有多种。按导电沟道的类型可分为N沟道和P沟道场效应管。N沟道场效应管在栅极电压为正时导通，而P沟道场效应管则在栅极电压为负时导通。此外，还可以根据场效应管的结构分为结型场效应管和绝缘栅型场效应管。结型场效应管的栅极与沟道之间通过PN结连接，而绝缘栅型场效应管的栅极与沟道之间则由绝缘层隔开。不同类型的场效应管在性能和应用上各有特点，工程师们可以根据具体的电路需求选择合适的场效应管。在放大电路中，场效应管表现出了出色的性能。由于其高输入阻抗，对输入信号的影响很小，可以有效地减少信号源的负载。同时，场效应管的噪声系数低，能够提供更加清晰的放大信号。在共源极放大电路中，场效应管的栅极作为输入端口，源极接地，漏极作为输出端口。通过调整栅极电压，可以控制漏极电流，从而实现对输入信号的放大。这种放大方式具有较高的电压增益和较低的输出阻抗，适用于各种信号放大应用。
场效应管测试仪仪器主要用以功率场效应管和IGBT的质量检验、参数的配对及其它电子电子元件的耐压测试之用。仪器分N沟导型测试仪和P沟导型测试仪两种。耐压测试仪方法特性：是按照IEC、ISO、BS、UL、JIS等国内、国际的安全基准而设计，是交流安全通用测试仪器，合适家电及低压电器的安全测试。测试电压和漏电流使用4位LED数码管显示，测试时间使用2位LED数码管显示。漏电流值由粗调和细调旋钮调节。漏电流超差时自动切断测试电压，并发出声光报警信号。有外控端子。臣式机箱、塑料面框、外形新颖美观。主要技术参数：测试电压：AC0～5KV。测试电压误差：低于3％。测试电压波形：50Hz市电正弦波。输出容量：500VA(DF2670)，500VA/750VA(DF2670A)。漏电流范围：2mA～20mA共六档(DF2670)～2mA/～20mA(DF2670A)。漏电流测试误差：低于3％。测试时间：1～99秒。时间误差：低于1％。一：场效应管的主要参数(1)直流参数饱和漏极电流IDSS它可概念为：当栅、源极之间的电压相等零，而漏、源极之间的电压大于夹断电压时，对应的漏极电流。夹断电压UP它可概念为：当UDS一定时，使ID减少到一个细微的电流时所需的UGS打开电压UT它可概念为：当UDS一定时，使ID到达某一个数值时所需的UGS。场效应管的制造工艺复杂，费用较高。
当MOS电容的GATE相对于backgate是负电压时的情况。电场反转，往表面吸引空穴排斥电子。硅表层看上去更重的掺杂了，这个器件被认为是处于accumulation状态了。MOS电容的特性能被用来形成MOS管。Gate，电介质和backgate保持原样。在GATE的两边是两个额外的选择性掺杂的区域。其中一个称为source，另一个称为drain。假设source和backgate都接地，drain接正电压。只要GATE对BACKGATE的电压仍旧小于阈值电压，就不会形成channel。Drain和backgate之间的PN结反向偏置，所以只有很小的电流从drain流向backgate。如果GATE电压超过了阈值电压，在GATE电介质下就出现了channel。这个channel就像一薄层短接drain和source的N型硅。由电子组成的电流从source通过channel流到drain。
总的来说，只有在gate对source电压V超过阈值电压Vt时，才会有drain电流。
场效应管有三种类型：增强型、耗尽型和开关型。绍兴J型场效应管原理
场效应管的静态功耗较低。佛山结型场效应管
场效应管的制造工艺也在不断发展和改进。随着半导体技术的不断进步，场效应管的制造工艺越来越先进，尺寸越来越小，性能越来越高。目前，场效应管的制造工艺主要包括平面工艺、双极工艺、CMOS工艺等。这些制造工艺各有特点，可以根据不同的需求选择合适的工艺进行生产。同时，随着纳米技术的发展，场效应管的尺寸也在不断缩小，未来有望实现更小尺寸、更高性能的场效应管。在电源管理电路中，场效应管也起着重要的作用。例如，在开关电源中，场效应管作为功率开关，实现对输入电源的高效转换。通过控制场效应管的导通和截止时间，可以调节输出电压和电流，实现对负载的稳定供电。此外，场效应管还可以用于电源保护电路中，如过压保护、过流保护等。在电源管理电路中，场效应管的性能和可靠性对整个电源系统的性能有着重要的影响。佛山结型场效应管
