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晶体管基本参数
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三极管放大原理


值得注意的是,对于三极管放大作用的理解,必须切记一点:根据能量守恒定律,能量不会无缘无故的产生,所以,三极管一定不会产生能量。


晶体管的内部工作原理就是对流过基极与发射极之间的电流进行不断地监视,并控制集电极-发射极间电流源,使基极-发射极间电流的数十至数百倍(因晶体管种类而异)的电流在集电极与发射极之间流动。也就是说,晶体管是用基极电流来控制集电极-发射极电流的器件。晶体三级管的内部工作原理如下图3所示。


MOS晶体管全名叫做MOSFET(Metal oxide semiconductor field effect transistor)。成都晶体管批发

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MMIC电路设计中的场效应晶体管(FET)技术介绍    *


场效应晶体管(FETs)的结构和操作

FETs的俯视图,如同俯视MMIC晶圆表面,如图1所示。电流横向流过晶圆表面,从漏极到源极,并在栅极接触下通过。



图1、场效应晶体管(FET)的俯视图


注意,这只是单个栅极FET(或基本单元),并且这种器件,尤其是功率FET,由多个栅极指状物构成(以后我们会更详细地介绍)。


图1中FET的截面图“A-A”如图2所示,FET形成有半导体的低掺杂层,其在晶片表面下方形成导电沟道(channel),如图2(a)所示。沟道通常是n掺杂的,因此存在自由电子以在沟道中传输电流。金属源极和漏极端子通过欧姆接触与该导电沟道接触到半导体的重掺杂层。如果在漏极和源极触点之间放置电压,则电流可以在它们之间流动,直到沟道(channel)中的所有自由电子都传导电流为止。如果栅极端子上的电压为零,则该电流称为漏源饱和电流(IDSS)。这是场效应晶体管的“导通”状态。


常州电源晶体管晶体三极管,是一种控制电流的半导体器件,其作用是把微弱信号放大成幅度值较大的电信号,也用无触点开关。

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一、三极管的放大作用


1.外部条件:发射结正偏,集电结反偏


2.内部条件:基区宽度小于非平衡少数载流子的扩散长度


3.IE、IB、Ic之间关系':IE=IB+Ic.




3晶体三极管的特性曲线


一.     定义:指三极管各电极电压和电流之间的关系曲线,主要包括:输入和输出特性曲线。


二.     输入特性曲线


定义:当集电极和发射极之间的电压UCE保持一定时,晶体三极管的输入电流IB(基极电流)与输入电压UBE(基极和发射极之间的电压之间的关系曲线)

:IB=f(UBE)


Foundry 是怎么做的呢? 大体上分为以下几步:


首先搞到一块圆圆的硅晶圆, (就是一大块晶体硅, 打磨的很光滑, 一般是圆的)


图片按照生产步骤排列 . 但是步骤总结单独写出 .


1、湿洗(用各种试剂保持硅晶圆表面没有杂质)


2、光刻(用紫外线透过蒙版照射硅晶圆, 被照到的地方就会容易被洗掉, 没被照到的地方就保持原样 . 于是就可以在硅晶圆上面刻出想要的图案 . 注意, 此时还没有加入杂质, 依然是一个硅晶圆 . )


3、 离子注入(在硅晶圆不同的位置加入不同的杂质, 不同杂质根据浓度 / 位置的不同就组成了场效应管 .)


大家都知道晶体三极管的基极电压其实就是控制三极管导通程度的。

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左边引起电流波动的信号可能来自麦克风电压信号。在1947年的晶体管组成的放大电路可以将音频信号的功率增加35分贝。


Westen Electric 公司在1951年开始批量生产这种点接触式晶体三极管。这种晶体管的一个巨大缺点就是可靠性差,有的晶体会会突然失效。从制作工艺角度来看,这种结构有着先天不足,它是三维立体结构。


***个晶体管原理图和外观--**手工打造的三极管


由此,物理学家开始考虑如何能够将器件从三维结构改变成二维的结构。多年之后,包括Westen Electric, RCA,GE等公司开发出结型二维晶体三极管。这种晶体管的性能超过了**早的点接触型的晶体三极管。


以上的MOS晶体管叫做增强型MOS晶体管,MOS晶体管不只有这一种。电力晶体管报价

单结晶体管因为具有两个基极,故单结晶体管又称为双基极晶体管。成都晶体管批发

HEMT在文献中有时被称为异质结构FET 或异质结FET(HFET),甚至是调制掺杂FET(MODFET),但它们都是高电子迁移率场效应晶体管(HEMTs),因为它们在不同类型的半导体之间具有异质结,这增加了载流子在沟道中的迁移率。假晶HEMT(pHEMT)使用极薄的不同半导体层[通常为铟镓砷(InGaAs)],其应变为周围半导体(通常为AlGaAs)的晶格常数,形成假晶层(具有AlGaAs晶格尺寸的InGaAs层);这样就可以获得InGaAs增强的电子传输特性,同时仍然在GaAs衬底上制造出完整的MMIC 。变质(metamorphic)HEMT(mHEMT)具有更高迁移率的半导体层,例如InP,在其表面上生长,具有其自身的自然晶格常数。为实现这一目标,GaAs衬底的晶格常数必须通过外延层逐渐改变为InP 。



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