晶体管的结构及类型用不同的掺杂方式在同一个硅片上制造出三个掺杂区域，并形成两个PN结，就构成了晶体管。结构如图(a)所示，位于中间的P区称为基区，它很薄且杂质浓度很低；位于上层的N区是发射区，掺杂浓度很高；位于下层的N区是集电区，面积很大；它们分别引出电极为基极b,发射极e和集电极c。晶体管的电流放大作用如下图所示为基本放大电路，为输入电压信号，它接入基极-发射极回路，称为输入回路；放大后的信号在集电极-发射极回路，称为输出回路。由于发射极是两个回路的公共端，故称该电路为共射放大电路。晶体管工作在放大状态的外部条件是发射结正偏且集电结反向偏置，所以输入回路加的基极电源和输出回路加的集电极电源。 所以平面晶体管通常也是所谓漂移晶体管。南京功放晶体管
我们在上面的NPN晶体管中讨论过，它也处于有源模式。大多数电荷载流子是用于p型发射极的孔。对于这些孔，基极发射极结将被正向偏置并朝基极区域移动。这导致发射极电流Ie。基极区很薄，被电子轻掺杂，形成了电子-空穴的结合，并且一些空穴保留在基极区中。这会导致基本电流Ib非常小。基极集电极结被反向偏置到基极区域中的孔和集电极区域中的孔，但是被正向偏置到基极区域中的孔。集电极端子吸引的基极区域的剩余孔引起集电极电流Ic。在此处查看有关PNP晶体管的更多信息。苏州电子管晶体管晶体管作为一种可变电流开关，能够基于输入电压控制输出电流。
晶体管公共发射极（CE）配置：在此电路中，放置了发射极输入和输出通用。输入信号施加在基极和发射极之间，输出信号施加在集电极和发射极之间。Vbb和Vcc是电压。它具有高输入阻抗，即（500-5000欧姆）。它具有低输出阻抗，即（50-500千欧）。电流增益将很高（98），即beta（dc）=Ic/Ie功率增益高达37db。输出将异相180度。晶体管公共集电极配置：在此电路中，集电极对输入和输出均通用。这也称为发射极跟随器。输入阻抗高（150-600千欧），输出阻抗低（100-1000欧）。电流增益会很高（99）。电压增益将小于1。功率增益将是平均的。
如果晶体管为PNP型，则通常处于ON状态，但不是可以说是完美的，直到基脚完全接地为止。将基极引脚接地后，晶体管将处于反向偏置状态或被称为导通状态。作为提供给基极引脚的电源，它停止了从集电极到发射极的电流传导，并且晶体管处于截止状态或正向偏置状态。为保护晶体管，我们串联了一个电阻，使用以下公式查找该电阻的值：RB=VBE/IB。双极结型晶体管（BJT）p双极结型晶体管由掺杂的半导体组成，具有三个端子，即基极，发射极和集电极。在该过程中，空穴和电子都被涉及。通过修改从基极到发射极端子的小电流，流入集电极到发射极的大量电流切换。这些也称为当前控制的设备。如前所述，NPN和PNP是BJT的两个主要部分。BJT通过将输入提供给基极来开启，因为它的所有晶体管阻抗都比较低。所有晶体管的放大率也比较高。
hFE或β既有区别又关系密切，两个参数值在低频时较接近，在高频时有一些差异。
半导体三极管是内部含有两个PN结，外部通常为三个引出电极的半导体器件。它对电信号有放大和开关等作用，应用十分常见。输入级和输出级都采用晶体管的逻辑电路，叫做晶体管－晶体管逻辑电路，书刊和实用中都简称为TTL电路，它属于半导体集成电路的一种，其中用得比较普遍的是TTL与非门。TTL与非门是将若干个晶体管和电阻元件组成的电路系统集中制造在一块很小的硅片上，封装成一个单独的元件。半导体三极管是电路中应用比较常见的器件之一，在电路中用“V”或“VT”（旧文字符号为“Q”、“GB”等）表示。 晶体管具有检波、整流、放大、开关、稳压、信号调制等多种功能。河源作用晶体管
晶体管可用于各种各样的数字和模拟功能，包括放大，开关，稳压，信号调制和振荡器。南京功放晶体管
按晶体管使用的半导体材料可分为硅材料晶体管和锗材料晶体管。按晶体管的极性可分为锗NPN型晶体管、锗PNP晶体管、硅NPN型晶体管和硅PNP型晶体管。晶体管按其结构及制造工艺可分为扩散型晶体管、合金型晶体管和平面型晶体管。晶体管按电流容量可分为小功率晶体管、**率晶体管和大功率晶体管。晶体管按工作频率可分为低频晶体管、高频晶体管和超高频晶体管等。晶体管按封装结构可分为金属封装（简称金封）晶体管、塑料封装（简称塑封）晶体管、玻璃壳封装（简称玻封）晶体管、表面封装（片状）晶体管和陶瓷封装晶体管等。其封装外形多种多样。南京功放晶体管
