在电子线路版(PCB)蚀刻过程中,蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到比较好的蚀刻效果,每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐(NH4CI)及氨水(NH3)。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度比较好水平,蚀刻用过后的(以下称[用后蚀刻液])溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水,补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液,既可达到蚀刻工艺的要求,又可节省生产成本。蚀刻液再生循环系统有酸性、碱性两大系统,两大系统又可分为萃取法、直接电解法。可将大量原本需要排放的用后蚀刻液还原再生成为可再次使用的再生蚀刻液。从而减少生产废液的排放,回用降低生产成本,且可提取出高纯度电解金属铜。苏州博洋化学股份有限公司,专业的BOE蚀刻液生产商。上海专业BOE蚀刻液报价

为了解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案: 一种PCB酸性蚀刻液提取铜的方法,包括以下步骤:将使用过的酸性蚀刻液收集到废液池中,送入离子膜电解室;使低ORP的酸性蚀刻液从离子膜电解槽阳极低位进入,当ORP升高时,高ORP的酸性蚀刻液再经阳极区高位流出;高含铜量的蚀刻液从离子膜电解槽阴极区低位进入,蚀刻废液在电解作用下还原出铜单质,降低铜离子含量之后的蚀刻液从阴极高位流出,经再生调配室调配后继续用于蚀刻,蚀刻产生的废液收集到废液池中进行循环处理;电解室电解过程中的盐酸挥发进入中和室进行中和反应;对铜单质进行水洗烘干,即可得到提取的铜。浙江一种BOE蚀刻液供应商苏州博洋化学股份专业生产BOE蚀刻液。

蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的目的,薄膜场效应晶体管液晶显示器(tft~lcd)、发光二极管(led)、有机发光二极管(oled)等行业用作面板过程中铟锡氧化物半导体透明导电膜(ito)的蚀刻通常采用盐酸和硝酸的混合水溶液。现有的制备装置在进行制备时会发热反应,使得装置外壳稳定较高,工作人员直接接触有烫伤风险,热水与盐酸接触会产生较为剧烈的反应,溅出容易伤害工作人员,保护性不足,盐酸硝酸具有较强的腐蚀性,常规的搅拌装置容易被腐蚀,影响蚀刻液的质量,用防腐蚀的聚四氟乙烯搅拌浆进行搅拌,成本过高,且混合的效果不好。所以,如何设计一种ito蚀刻液制备装置,成为当前要解决的问题。
一种蚀刻方法,其特征在于,使用根据权利要求1至7中任一项所述的蚀刻液,在铜的存在下选择性地蚀刻钛。蚀刻液及蚀刻方法技术领域[0001]本发明涉及一种用来在铜的存在下选择性地蚀刻钛的蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法。背景技术[0002]以往,在蚀刻钛时一直使用含有氢氟酸或过氧化氢的蚀刻液。例如文献1中提出了一种钛的蚀刻液,该钛的蚀刻液是用来在铜或铝的存在下蚀刻钛,并且该蚀刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的过氧化氢、0.05重量%至5重量%的磷酸、0.001重量%至0.1重量%的膦酸系化合物及氨所构成的水溶液将pH值调整为7至9。[0003]但是,含有氢氟酸的蚀刻液存在毒性高苏州博洋专业生产,BOE蚀刻液。

废蚀刻液经过废蚀刻液铜分离循环机构后再经组分调配可供蚀刻机循环使用;氨水洗废液经过氨水洗废液铜分离循环机构后可供蚀刻机循环使用;反萃剂经过电解提铜循环机构电解分离铜后可再进入反萃循环机构中循环使用,该实用新型在整个处理过程物料实现闭路循环,没有废水废物排出,能有效回收铜和再生蚀刻液和氨水洗液,减少蚀刻工序的污水排放量,降低环保压力,但是该实用新型工序较为复杂。 技术实现要素: 本发明为了解决现有技术的问题,提供了一种PCB酸性蚀刻液提取铜的方法及装置,采用循环再生技术,既有利于环保,又能够回收铜,实现能源的有效利用。BOE蚀刻液厂家直销价格。江西专业BOE蚀刻液价格
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BOE就是buffer oxide etch,缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸(49%)与水或氟化铵与水混合而成, B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液:40%NH4F水溶液=1:6(体积比)的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液,NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度,使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质,对皮肤有强烈的腐蚀性,如果不小心被溅到,应用大量水冲洗。上海专业BOE蚀刻液报价
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