技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生活水平,促进产业发展与经济增长,保障**安全等方法发挥着重要作用,微纳制造技术是微传感器、微执行器、微结构和功能微纳系统制造的基本手段和重要基础。基于半导体制造工艺的光刻技术是**常用的手段之一。对于纳米孔的加工,常用的手段是先利用曝光负性光刻胶并显影后得到微纳尺度的柱状结构,再通过金属的沉积和溶胶实现图形反转从而得到所需要的纳米孔。然而传统的方法由于光刻过程中的散焦及临近效应等会造成曝光后的微纳结构侧壁呈现一定的角度(如正梯形截面),这会造成蒸发过程中的挂壁严重从而使lift-off困难。同时由于我们常用的高分辨的负胶如hsq,在去胶的过程中需要用到危险的氢氟酸,而氢氟酸常常会腐蚀石英,氧化硅等衬底从而影响器件性能,特别的,对于跨尺度高精度纳米结构的制备在加工效率和加工能力方面面临着很大的挑战。技术实现要素::为了克服上述技术问题,本发明公开了一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法。华星光电用的哪家的剥离液?江苏显示面板用剥离液配方技术

具体实施方式现有技术中剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,或者回收后需要通过大量的时间分析其含量以及花大量时间进行再生处理,影响了剥离液废液的利用率。本发明对于已知的剥离液的含量以及比例有预先的了解,通过预先制定添加剂的方法,将添加剂以及某些原材料加入后重新制备剥离液新液。本发明中对于回收的剥离液废液的进一步处理加工,是采用现有技术中加压、蒸馏等方式,可以是采用阶段性变压精馏塔进行加压、蒸馏处理。表1:已知的剥离液新液的组分:表二:添加剂的组分组分比例:纯化液体的组分表四:制备剥离液新液在对纯化液体进行加工处理,重新制备剥离液新液的过程中,需要预先制备添加剂,该添加剂中不含有酰胺化合物,而通过表四中可以得出,制备过程中在纯化液体中加入添加剂以及nmf或bdg重新得出与表1组分相同的剥离液新液,该剥离液新液能够达到表1中剥离液新液相同的成分以及相同或大致相同的技术效果。对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的。芜湖半导体剥离液销售电话剥离液蚀刻后如何判断好坏 ?

所述抽真空气体修饰法包括如下步骤:将将衬底和光刻胶抗粘剂置于密闭空间中,对密闭空间抽真空至光刻胶抗粘层气化,保持1分钟以上,直接取出衬底。进一步的改进,所述衬底为硅、氧化硅、石英、玻璃、氮化硅、碳化硅、铌酸锂、金刚石、蓝宝石或ito制成。进一步的改进,所述步骤(2)对衬底修饰的试剂包括hmds和十三氟正辛基硅烷;对衬底修饰的试剂镀在衬底表面。进一步的改进,所述所述光刻胶包括pmma,zep,瑞红胶,az胶,纳米压印胶和光固化胶。进一步的改进,所述光刻胶厚度为1nm-100mm进一步的改进,所述光刻胶上加工出所需结构的轮廓的方法为电子束曝光,离子束曝光,聚焦离子束曝光,重离子曝光,x射线曝光,等离子体刻蚀,紫外光刻,极紫外光刻,激光直写或纳米压印。进一步的改进,所述黏贴层为pdms,紫外固化胶,热释放胶,高温胶带,普通胶带,pva,纤维素或ab胶。上述选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法制备的微纳结构用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。本发明的有益效果在于,解决了现有负性光刻胶加工效率低,难于去胶,去胶过程中损伤衬底,对于跨尺度结构的加工过程中加工精度和效率的矛盾等问题。
添加剂中含有醇醚化合物、胺化合物、缓蚀剂以及润湿剂;s3:将步骤s1的剥离液废液与添加剂混合,重新制备剥离液新液,制备过程中加入酰胺化合物或醇醚化合物。光刻胶剥离液为纯有机溶剂体系,废液可通过蒸馏回收80-95%有效物,得出纯化液体,而在上述制备方式中,纯化液体所含的组分与添加剂所含的组分之间是具有相重复的,可以认为,添加剂是根据已知的剥离液新液的组分进行配制的,添加剂可以是对纯化液体与剥离液新液之间的组分的差别而进行的添加、补充,使得纯化液体和添加剂混合后,能够具有与剥离液新液相同的组分。那么,可以知道,在预先知道剥离液新液的组分的基础上,可以通过预先配制含有剥离液新液中的某些组分的添加剂,然后在制备回收的剥离液废液得出纯化液体时,可以将添加剂加入纯化液体中,再进行质量分数的调节。纯化液体是将剥离液废液进行加压、蒸馏,去除剥离液废液中的非剥离液新液的组分的物质,然后得出的纯化液体,纯化液体中所含的组分物质,都是剥离液新液所含有的组分物质。进一步技术方案中,所述的步骤1中得出的纯化液体中含有的酰胺化合物的质量分为:45%-60%;含有的醇醚化合物的质量分为:35%-50%。剥离液的类别一般有哪些。

其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。再者,本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法,其特征在于,在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法中,使用上述抗蚀剂的剥离液进行抗蚀剂的除去。发明效果本发明的抗蚀剂的剥离液即使是微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎。因此,本发明的抗蚀剂的剥离液适合于包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法。具体实施方式本发明的抗蚀剂的剥离液(以下,称为“本发明剥离液”)含有氢氧化钾和溶纤剂。本发明剥离液中的钾盐没有特别限定,例如,可以举出氢氧化钾、碳酸钾等。需要说明的是,钾盐中不含相当于后述的硅酸盐的硅酸钾。这些之中推荐氢氧化钾。另外,本发明剥离液中的钾盐的含量没有特别限定,例如,推荐,更推荐,特别推荐。本发明剥离液中使用的溶纤剂是指乙二醇的醚类,例如,可以举出异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二甲基溶纤剂、苯基丁基溶纤剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、苯基溶纤剂、苄基溶纤剂、卡必醇溶纤剂、二乙基溶纤剂等。这些之中推荐异丙基溶纤剂。另外。剥离液使用时要注意什么?杭州铜蚀刻液剥离液费用是多少
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精细化学品主要应用于农业、建筑业、纺织业、医药业、电子设备等行业。随着下游各行业的进一步发展,对精细化工材料的需求数量上升,性能要求进一步提高,精细化工行业与下**业之间的关系变得更加紧密。精细化工在生产过程中会产生废水、废气、固体废物等有害物质,企业需加入大量资本用于这些有害物质的治理,使生产型企业生产符合我国环境保护标准。随着我国环境保护标准日益提高,企业必须持续加大污染物处理技术研发、环境保护设施加入和污染物处置力度。此外,由于发达地区人力成本高,超过**保护期的农药原药和医药原料药已无生产优势,以中国与印度为象征的发展中国地区逐渐成为农药、医药中间体和销售的主要生产基地。随着我国环境保护政策、安全生产政策和职工福利政策的日益完善,以及美欧等发达家对精细化学品中间体进口标准的日益严格,精细化工中间体行业的准入门槛越来越高,这些都需要精细化工中间体生产商在环保、安全、产品研发和经营规模等方面进行较大的加入,导致其初始及持续加入不断攀升。江苏显示面板用剥离液配方技术
苏州博洋化学股份有限公司是以提供高纯双氧水,高纯异丙醇,蚀刻液,剥离液为主的股份有限公司,公司始建于1999-10-25,在全国各个地区建立了良好的商贸渠道和技术协作关系。公司承担并建设完成精细化学品多项重点项目,取得了明显的社会和经济效益。产品已销往多个国家和地区,被国内外众多企业和客户所认可。