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    所述组合物包含540重量％的甲基四氢呋喃和6095重量％的式C4F90R的九氟丁基烷基醚。的甲基四氢呋喃是2-甲基四氢呋喃。在式C4F90R的九氟丁基烷基醚中，九氟丁基甲基醚和九氟丁基乙基醚。不论R是什么，的九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟异丁基烷基醚组成。共沸或共沸型的组合物是特别有利的。当R为甲基时，该共沸或共沸型的组合物包含515重量％的甲基四氢呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚。包含8重量％的甲基四氢呋喃和92重量％的九氟丁基甲基醚的共沸组合物在大气压下具有°C的沸点。当R为乙基时，该共沸或共沸型的组合物包含1040重量％的甲基四氢呋喃和6090重量％的九氟丁基乙基醚。包含％的甲基四氢呋喃和％的九氟丁基乙基醚的共沸组合物在大气压()下具有°C的沸点。共沸组合物是两种或更多种化合物的液体混合物，其具有可高于或低于各化合物的沸点的恒定沸点(即，在沸腾或蒸发期间没有分馏的倾向)。因此，在蒸发期间形成的蒸气的组成与初始的液体组合物相同或者几乎相同。共沸型组合物是两种或更多种化合物的液体混合物，其具有基本上恒定的沸点，也就是说，共沸型组合物起到单一化合物的作用。哪家的BOE蚀刻液的价格优惠？电子级BOE蚀刻液按需定制

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缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的液体腐蚀剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化铵(NH4F)和氢氟酸(HF)等缓冲液的混合物。浓缩的HF蚀刻二氧化硅的速度太快，不能很好地进行工艺控制，同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。BOE6:1is6partsbyvolume40%ammoniumfluorideand1partbyvolume49%HF.应用缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)6：1可用于栅极光刻(gatephotolithography)的AlGaN/GaN基高电子迁移率晶体管的氧化物去除。它可用于缓冲氧化物蚀刻剂法，制造微型生物芯片。哪家BOE蚀刻液的的性价比好。

    添加剂为二乙二醇单甲醚、三乙二醇乙醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分别为％、％、％。实施例6本发明的实施例按蚀刻液总质量为400g进行配制，先称取浓度为85％的磷酸，然后称取添加剂加入磷酸中，该实施例中所含成分及各成分称取的质量显示于表1。添加剂为丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、月桂酰氨乙基硫酸钠，添加量分别为总质量的％、％、％。对照例对照例中所含成分显示于表1，并采用与实施例相同的方法进行处理。对照例1为纯磷酸，总质量为400g。对照例2为磷酸、丙二醇丁醚，其中丙二醇丁醚的添加量为总质量的％。对照例3为磷酸、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，其中脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p的添加量为总质量的％。结果如表2所示，与对照例蚀刻液相比，实施例蚀刻液有更低的表面张力和接触角，并且氮化硅层蚀刻后显示出良好的均匀性。表1表2显然，上述实施例和对照例是为了清楚地说明所作的实例，而并非对实施方式的限制。对于所属领域的技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而因此所引申的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之内。哪家的BOE蚀刻液价格比较低？江苏一种BOE蚀刻液厂家现货

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