经减薄处理后的玻璃可再次进入所述冲洗区2以经历减薄后清洁并且通过所述转换区1被卸载到外部;所述玻璃减薄设备还设置有制动组件,通过所述制动组件实现所述玻璃加工治具4从所述转换区1经所述冲洗区2向所述蚀刻区3的减薄前移动,以及从所述蚀刻区3经所述冲洗区2向所述转换区1的减薄后移动。在本实施例中,图1内并排设置有2个所述玻璃减薄设备,所述冲洗区2包括冲洗区2、第二冲洗区2和第三冲洗区2,所述第二冲洗区2设置于所述冲洗区2和所述第三冲洗区2之间,所述冲洗区2设置于所述第二冲洗区2和所述转换区1之间,所述第三冲洗区2设置于所述第二冲洗区2和所述蚀刻区3之间。所述转换区1可升降的折叠式结构,从而便于所述玻璃加工治具4在所述转换区1的放置或卸下。较佳的,所述转换区1还设置有装卸臂,通过所述装卸臂可实现对所述玻璃加工治具4的上下料,以及单片玻璃的拿取检测。实施例二如图2所示,图2为所述蚀刻区的结构示意图;所述蚀刻区3包括腔室31、主厚度测量仪32、喷淋组件33和控制器;所述喷淋组件33在所述腔室31中对设置于所述玻璃加工治具4上的玻璃施加减薄处理,所述主厚度测量仪32实时测量在所述腔室31内经历减薄处理的玻璃厚度。质量比较好的减薄用清洗剂的公司找谁?江苏中芯国际用减薄用清洗剂生产
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在本发明的一个实施例中,抛光液110的主要成分包括:碳化硅颗粒,颗粒直径为50nm~200nm,体积比为3%~5%;次氯酸盐,体积比为30%~40%;氢溴酸,体积比为5%~7%,di水,体积比50~60%。本发明的一个实施例中,如图3所示,磁转子12包括截面为半圆形的柱状磁性结构120和位于柱状磁性结构120的底部平面的研磨层121,以通过研磨层121对待加工部件20的待加工表面进行机械研磨。当然,本发明并不仅限于此,在其他实施例中,可以根据实际需求选择合适的磁转子形状。可选地,研磨层121为金属氧化物层,进一步可选地,金属氧化物层包括三氧化二铝层。可选地,研磨层121的厚度为10μm。本发明实施例中,如图4所示,磁转子12沿箭头所示方向旋转,如沿逆时针或顺时针方向旋转,并且,磁转子12的长度近似等于待加工部件20如inp基晶圆的直径,以对整个待加工表面进行研磨。本发明实施例中,抛光减薄装置还包括控制部件。控制部件与磁转子12和喷头11相连,用于控制喷头11和磁转子12交替工作,以对待加工表面交替进行抛光和减薄。其中,控制部件通过脉冲方式控制喷头11和磁转子12交替工作。可选地,控制部件控制磁转子12的转速为80rpm~200rpm。
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本发明涉及玻璃减薄技术领域,具体涉及一种玻璃减薄设备。背景技术:随着便携式电子器件的发展,手机、平板等便携式电子器件越来越纤细化及薄型化,因此需要制造较薄的玻璃基板。为了制造较薄的玻璃基板,目前的采用的方法是浸泡式减薄法。用浸泡式减薄法减薄玻璃是将玻璃减薄液放入玻璃减薄设备的反应槽中,然后将玻璃放入玻璃减薄液中放置一定时间,使玻璃减薄液与玻璃反应,实现玻璃减薄。目前的浸泡式减薄法中,反应产物会悬浮于玻璃减薄液中,然后再粘附在玻璃上,造成不良品;并且,这种方法容易造成蚀刻不均,导致进行减薄后还需要进行抛光处理,提高了制备成本。鉴于上述缺陷,本发明创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本发明。技术实现要素:为解决上述技术缺陷,本发明采用的技术方案在于,提供一种玻璃减薄设备,包括蚀刻区,用于对竖直容纳在玻璃加工治具中的多个玻璃进行减薄处理;冲洗区,用于所述玻璃加工治具上的玻璃进行减薄前清洁和减薄后清洁;转换区,用于待减薄处理的所述玻璃加工治具加载到所述冲洗区中,并将减薄处理后的所述玻璃加工治具从所述冲洗区卸载到外部;制动组件。去除多余涂层,减薄用清洗剂是您不可或缺的好帮手。浙江清洗效果好的减薄用清洗剂推荐货源
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