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磁转子12放置在待加工部件20的待加工表面上,用于通过旋转对待加工部件20的待加工表面进行机械研磨,对待加工表面进行减薄。由于减薄过程中待加工部件20如inp基晶圆本身不旋转,因此,可以降低抛光减薄过程中对待加工部件20如inp基晶圆的挤压应力,降低待加工部件20如inp基晶圆的机械加工损伤。可选地,本发明实施例中通过光刻胶键合固定待加工部件20和托盘10。当然,本发明并不限于此,在其他实施例中,待加工部件20和托盘10还可以采用其他胶体进行键合固定。基于此,如图2所示,本发明实施例中的抛光减薄装置还包括热板14,该热板14设置在托盘10底部,用于对托盘10进行加热,以使待加工部件20与托盘10键合固定。具体地,将待加工部件20背面喷涂厚度约为2μm的光刻胶21,如az4620光刻胶,然后在托盘10表面喷涂厚度约为3μm的光刻胶21,如az4620光刻胶,之后,将托盘10光刻胶面向上放于温度为90℃的热板14上,将待加工部件20光刻胶面和托盘10光刻胶面贴合,在2×10-2mabr真空下,施加1bar压强于待加工部件20上进行键合,键合时间20min。本发明实施例中,采用喷头11向待加工部件20的待加工表面喷涂抛光液110,来对待加工部件20的待加工表面进行抛光。需要说明的是。去除多余涂层,选择减薄用清洗剂,效果好。

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