一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法技术领域1.本技术涉及化学蚀刻技术领域,具体涉及一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法。背景技术:2.目前,电子器件的基板表面(例如显示器件的阵列基板)通常带有一定图案的氧化铟锡(ito)膜,以便后续给电子器件可控通电。该ito膜通常通过化学蚀刻的方法蚀刻ito材料层形成。其中,对于多晶ito(p-ito)材料,所用蚀刻液主要包括硫酸系、王水系ito蚀刻液。王水系蚀刻液成本低,但其蚀刻速度快,蚀刻的角度难以控制,且容易对ito膜的下层金属造成二次腐蚀。技术实现要素:3.有鉴于此,为克服目前存在的技术难题,本技术提供了一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法。4.具体地,本技术首先方面提供了一种ito蚀刻液,所述ito蚀刻液包括以下重量份数的各组分:20-22份的盐酸,6-7份的硝酸,0.5-3份的酸抑制剂,0.5-3份的表面活性剂,以及水;其中,所述酸抑制剂包括n,n-二异丙基乙胺、n,n-二异丙基乙醇胺中的至少一种;所述表面活性剂包括聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯脂肪二胺中的至少一种。5.通过对蚀刻液中硝酸及盐酸的含量进行精确限定,以实现了对王水系蚀刻液蚀刻速度的初步调控,并在一定程度上实现了对蚀刻角度的控制(蚀刻角度小于35苏州性价比较好的蚀刻液的公司联系电话。无锡BOE蚀刻液蚀刻液私人定做

本发明涉及铜蚀刻液技术领域,具体涉及一种酸性铜蚀刻液的生产工艺。背景技术:高精细芯片和显示集成电路主要采用铜制程,其光刻工艺中形成铜膜层结构所需用的铜刻蚀液中主要的为过氧化氢系铜刻蚀液。过氧化氢系铜蚀刻液较其他铜刻蚀液体系(如三氯化铁体系,过硫酸铵体系)具有不引人其他金属离子在铜层表面或线路体系中,产物亲和、友好、环境污染少,刻蚀效率高且使用寿命较长的特点。大部分过氧化氢系铜刻蚀液包括参与氧化的过氧化氢组分、参与溶解的无机酸/有机酸组分,以及部分铜缓蚀剂等各类添加三个部分。由于铜蚀刻液中各物质的反应为放热反应,体系中又含有过氧化氢在制备铜蚀刻液的生产过程中需要保证生产安全。技术实现要素:本发明的目的在于,克服现有技术中存在的缺陷,提供一种铜蚀刻液大规模量产的生产工艺,该生产工艺温控严格,生产过程中安全性高。为实现上述目的,本发明的技术方案是设计一种酸性铜蚀刻液的生产工艺,所述工艺包括以下步骤:第一步:将纯水进行低温处理,使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用;第二步:配制和准备原料,将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中,经过过滤器循环过滤,备用。无锡BOE蚀刻液蚀刻液私人定做蚀刻液的大概费用大概是多少?

蚀刻液也可含有α-羟基羧酸和/或其盐。α-羟基羧酸及其盐具有作为钛的络合剂的效果,可抑制蚀刻液中产生钛的沉淀。作为所述α-羟基羧酸,例如可举出酒石酸、苹果酸、柠檬酸、乳酸及甘油酸等。α-羟基羧酸和/或其盐的浓度并无特别限制,从络合效果及溶解性的观点来看,推荐为%至5重量%,更推荐为%至2重量%。另外,蚀刻液也可含有亚硫酸及/或其盐。亚硫酸及其盐具有作为还原剂的效果,可提高钛的蚀刻速度。亚硫酸和/或其盐的浓度并无特别限制,从还原性及臭气的观点来看,推荐为%至%,更推荐为%至%。蚀刻液中除了上述的成分以外,也能以不妨碍本发明效果的程度添加其他成分。作为其他成分,例如可举出表面活性剂、成分稳定剂及消泡剂等。蚀刻液可通过使所述各成分溶解于水中而容易地制备。作为所述水,推荐为将离子性物质及杂质除去的水,例如推荐为离子交换水、纯水、超纯水等。蚀刻液可在使用时将各成分以成为预定浓度的方式调配,也可预先制备浓缩液并在即将使用之前稀释而使用。使用本发明的蚀刻液的钛的蚀刻方法并无特别限制,例如可举出:对含有铜及钛的对象物涂布或喷雾蚀刻液的方法;将含有铜及钛的对象物浸渍在蚀刻液中的方法等。处理温度并无特别限制。
该宣泄孔121的上孔径a1与下孔径a2亦不相等,且该上孔径a1小于该下孔径a2,或该宣泄孔121由该第二挡板12的下表面122朝向上表面123的方向渐缩,以维持毛细现象而避免该药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题。当该风刀装置40的***风刀41与该第二风刀42为了减少该基板(本图式未标示)上所残留的药液51而吹出该气体43时,该气体43碰到该挡液板结构10后部分会往该复数个宣泄孔121流动,并朝向该第二挡板12的该上表面123宣泄而出(如图10与图11所示),除了保有原有挡液板的防止该药液51喷溅而造成的显影不均现象,亦可达到避免该气体43在该基板20附近形成涡流而造成真空吸引问题;为了必须避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题,故该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小,例如:孔径a0小于3mm,即可因毛细现象的作用,亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4,而达到防止位于该第二挡板12上表面的药液51水滴经由该复数个宣泄孔121滴下至该基板20上(如图12所示)。另请参阅图13所示,为本实用新型蚀刻设备的蚀刻方法的步骤流程图,其中本实用新型蚀刻设备的蚀刻方法主要包括有下列步骤。苏州BOE蚀刻液的生产厂商。

将装置主体1内部的蚀刻液进行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:对于这类的回收处理装置,首先将蚀刻液倒入进液漏斗6并由过滤网7过滤到进液管8中,之后蚀刻液流入到承载板3上的电解池4中时,启动液压缸11带动伸缩杆12向上移动,从而通过圆环块13配合连接杆14和伸缩管9带动喷头10向上移动,进而将蚀刻液缓慢的由喷头10喷入到电解池4中,避免蚀刻液对电解池4造成冲击而影响其使用寿命,具有保护电解池4的功能,之后金属铜在隔膜5左侧析出;其次在蚀刻液初次电解后,通过控制面板30启动增压泵16并打开一号电磁阀18,将蚀刻液通过回流管15抽入到一号排液管17中,并由进液管8导入到伸缩管9中,直至蚀刻液由喷头10重新喷到电解池4中,可以充分的将蚀刻液中的亚铜离子电解转化为金属铜,起到循环电解蚀刻液的作用,然后打开二号电磁阀23,将蚀刻液通过二号排液管22导入到分隔板2左侧,倾斜板24使得蚀刻液向左流动以便排出到装置主体1外,接着启动抽气泵19,将电解池4中产生的有害气体抽入到排气管20并导入到集气箱21中,实现有害气体的清理,紧接着打开活动板25将金属铜取出,之后启动增压泵16并打开三号电磁阀29,将由进水管27导入到蓄水箱26中的清水。铝蚀刻液的配方是什么?佛山天马用的蚀刻液蚀刻液销售电话
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铝板面蚀刻用:酸、碱都行。(铝板是两性材料,既能与酸反应,又能与碱反应,所以腐蚀液有的用碱性材料腐蚀,有的用酸性材料腐蚀,一般情况下,以酸性材料腐蚀的为多,碱性材料可以洗白。下好料的铝板用枣木碳研磨,去掉油腻、划痕,磨出哑光表面。然后用丝网版印上纹样,油墨型号为80-39、80-59、80-49等。这种耐腐蚀油墨细腻,印出的纹样质量高。印完纹样后放进电炉内烘干,然后用即时贴封住后面,用胶带封边,进入腐蚀工艺。铝板的腐蚀液配方如下:三氯化铁50%硫酸铜50%水适量,波美度15~20°之间,铝板腐蚀时应平放,在腐蚀的过程中纹样上溢出赭红色的滓渣,应随时用毛刷去掉,铝面上冒出大量泡泡,滓渣随泡泡浮起。铝板的腐蚀时间大约在15~20min左右就可完成。一般情况下铝板厚度不应低于1mm,否则一不小心会腐蚀透,影响效果。铝板的防护材料用香蕉水去掉。腐蚀后的铝板抛光和铜板一样,抛光时用香蕉水搓净余蜡,用另一块棉花擦磨出亮光,然后喷护光剂防护,其它同铜一样加工。)无锡BOE蚀刻液蚀刻液私人定做