企业商机
BOE蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • BOE蚀刻液
  • 纯度级别
  • 电子纯MOS
  • 类别
  • 无机盐
  • 产品性状
  • 液态
BOE蚀刻液企业商机

一种蚀刻液,其特征在于,用来在铜的存在下选择性地蚀刻钛,并且含有:选自由硫酸、盐酸及三氯乙酸所组成的群组中的至少一种酸;以及选自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所组成的群组中的至少一种有机硫化合物。 2.根据权利要求1所述的蚀刻液,其特征在于,所述硫酮系化合物为选自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所组成的群组中的至少一种。 3.根据权利要求1或2所述的蚀刻液,其特征在于,所述硫醚系化合物为选自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所组成的群组中的至少一种。BOE蚀刻液苏州博洋化学股份有限公司。了解BOE蚀刻液商家

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    zno薄膜是一种重要的光电子信息材料,不具有与传统的ito薄膜相比拟的光电性质,而且原料丰富,价格低,无毒性,热稳定性高,在太阳能电池、液晶显示器、光电探测器等领域有着的应用前景,比如可用于制造柔性衬底发光器件、塑料液晶显示器和非晶硅太阳能电池,还可作为透明保温隔热材料用于塑料大棚以及汽车玻璃和民用建筑玻璃的贴膜。尤其在光电子产业ito透明导电薄膜中,in元素资源稀少,价格昂贵,急需找到一种可替代的材料。因此zno被视为ito的替代材料。在zno体系中掺杂al得到zno:al透明导电薄膜,即azo薄膜,掺杂后的薄膜导电性能大幅度提高,电阻率可降低到10-4ohm·cm,而且透明导电薄膜azo薄膜在氢等离子体中稳定性要优于ito,同时具有可同ito相比拟的光电特性,而且azo薄膜的制备方便,元素资源比in元素丰富,且无毒,逐渐成为ito薄膜佳替代者,azo薄膜已经在平板显示器和薄膜太阳能电池中得到了部分应用。但是zno基薄膜湿法刻蚀中,由于金属氧化物本身晶体生长特殊性,刻蚀过程中产生的蚀刻毛刺及均匀性问题一直是al、ga等掺杂氧化物薄膜推广应用的瓶颈,因此开发一款性能优良的azo薄膜蚀刻液很有必要。河南电子级BOE蚀刻液生产苏州博洋生产BOE蚀刻液。

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苏州博洋化学股份有限公司成立于1999年,公司座落于风景秀丽的苏州市高新区浒关化工工业园,占地60亩,是一家集生产、销售、研发为一体的大型精细化工企业,公司秉承协作创新、持续的为客户创造价值的使命,努力构建面向未来的创新型和学习型企业。湿电子化学品适用于先进半导体封装测试、TFT、FPD平板显示、LED、晶体硅太阳能、PCB行业,并提供专业的解决方案。博洋股份一直致力于为国内外公司提供化工产品的服务,该服务包含了国内原材料资源开发、品质保证、仓储和物流。

    为了能在阴极板23单侧表面上形成均匀分布且厚度一致的铜,以便于后续的剥离,本实施例在该电解槽21两端内侧分别形成有供阴极板23端部由上至下插入的两个纵向条形插槽211,且该两个纵向条形插槽211分布于电解槽21端部的两侧边上,该阴极板23两端插入纵向条形插槽211中之后,该阴极板23外侧面与电解槽21内壁相靠近,且接近于贴合,推荐的,阴极板23外侧面与电解槽21内壁接触贴紧时为佳的状态,则此时阴极板23外侧面与电解槽21内壁之间无缝隙。由于阴极板23端部插入到了纵向条形插槽211中,则阴极板23端部表面与纵向条形插槽211内壁之间几乎没有缝隙,同时,阴极板23外侧面与电解槽21内壁之间也几乎没有缝隙,因此,在阴极板23端部表面与纵向条形插槽211内壁之间、及阴极板23外侧面与电解槽21内壁之间电解液药水很少,几乎没有,即在这两个位置处电解液交换量很少,甚至没有,即在这两个位置处无铜离子的存在。由此,在阴极板23端部表面(靠边上)、及阴极板23外侧面上长铜很少,甚至不长铜,而在阴极板23内侧表面上(除了端部表面)附上了一层铜,且铜分布均匀,厚度一致,阴极板上铜的有效面积大,便于后续将铜拆下来,有效杜绝了阴极板23上铜层四周厚、中间薄现象的发生。苏州博洋化学股份有限公司,专业的BOE蚀刻液生产商。

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    Cu2+的蚀刻作用由次要地位而跃居主要地位,此时蚀刻速率慢,即应考虑蚀刻液的更新。一般工厂很少分析和测定蚀刻液中的含铜量,多以蚀刻时间和蚀刻质量来确定蚀刻液的再生与更新。蚀刻铜箔的同时,还伴有一些副反应,就是CuCl2和FeCl3的水解反应:FeCl3+3H2O→Fe(OH)3↓+3HClCuCl2+2H2O→Cu(OH)2↓+2HCl生成的氢氧化物很不稳定,受热后易分解:2Fe(OH)3→Fe2O3↓+3H2OCu(OH)2→CuO↓+H2O结果生成了红色的氧化铁和黑色的氧化铜微粒,悬浮于蚀刻液中,对抗蚀层有一定的破坏作用。2.影响蚀刻速率的因素Fe3+的浓度和蚀刻液的温度蚀刻液温度越高,蚀刻速率越快,温度的选择应以不损坏抗蚀层为原则。Fe3+的浓度对蚀刻速率有很大的影响。蚀刻液中Fe3+浓度逐渐增加,对铜的蚀刻速率相应加快。当所含Fe3+超过某一浓度时,由于溶液粘度增加,蚀刻速率反而有所降低。BOE蚀刻液欢迎咨询苏州博洋化学股份。湖南应用BOE蚀刻液图片

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铜酸蚀刻液是半导体和显示技术中一类重要的原材料。半导体、薄膜晶体管液晶显示器),有机发光半导体)等微电路原件首先由铜、钼或其合金在玻璃基板或者绝缘层上形成一定厚度的膜层,再用光刻胶形成图案,然后用铜酸蚀刻液将图案外的金属蚀刻掉,再用去光阻液将光刻胶去掉,以进行金属膜层的图案化,形成电极电路。随着显示器的大型化以及画质高清化,需要电阻率更低的金属来做电子传输导线,目前铜金属可以满足电导率高、价格相对较低等要求,但由于其与玻璃基板的粘附性较差以及铜元素易于向氧硅或者氮硅膜内进行扩散,所以会在其与玻璃之间加一层很薄的缓冲层,一般选用钼或者钼合金。了解BOE蚀刻液商家

苏州博洋化学股份有限公司成立于1999年,公司座落于苏州市高新区化工工业园,是一家集研发、生产、销售为一体的大型精细化工企业,主要为先进半导体封装测试、TFT、FPD平板显示、LED、晶体硅太阳能、PCB等行业提供专业的化学品解决方案。努力构建面向未来的创新型和学习型企业。博洋股份于2015年11月在全国中小企业股份转让系统成功挂牌。(证券代码:834329)拥有先进的理化分析、应用测试仪器以及一支以本科、硕士、博士为主的多层次研发团队,致力于超净高纯、功能性微电子化学品的研究开发;并根据客户的个性化需求量身定制整套化学品解决方案,力求持续的为客户创造价值。博洋除拥有完善的自主研发能力外,与华东理工大学共同建立省级研究生工作站;长期保持与苏州大学、中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所的合作关系,以辅助新产品的开发测试。对新技术、新工艺的研究精益求精,立志成为微电子材料领域个性化解决方案的***

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