本发明涉及陶瓷领域,特别是涉及一种碳化硅陶瓷及其制备方法和半导体零件。背景技术:反应烧结碳化硅陶瓷是由细颗粒sic和添加剂压制成素坯,在高温下与液态硅接触,坯体中的碳与渗入的si反应,生成新的sic,并与原有颗粒sic相结合,游离硅填充了气孔,从而得到高致密性的陶瓷材料。反应烧结碳化硅在烧结过程中尺寸几乎无变化,相比于常压烧结、热压烧结碳化硅材料来说,加工成本大幅降低,广泛应用于石油、化工、航空航天、核工业及半导体等领域。但是反应烧结碳化硅材料存在力学性能较差的问题,从而限制了反应烧结碳化硅材料的应用。技术实现要素:基于此,有必要提供一种力学性能好的反应烧结碳化硅陶瓷的制备方法。此外,还提供一种碳化硅陶瓷和半导体零件。一种碳化硅陶瓷的制备方法,包括如下步骤:将碳化硅微粉、金属元素的氯化物、环氧丙烷、***分散剂及***溶剂混合并在真空条件、700℃~900℃下进行加热处理,得到预处理颗粒,其中,所述金属元素为稀土元素或锶元素;将所述预处理颗粒与第二分散剂、粘结剂、第二溶剂和***碳源混合造粒,得到造粒粉;将所述造粒粉成型,得到***预制坯;将所述***预制坯与第二碳源混合加热,使所述第二碳源呈液态。耐高温材料包括耐火材料和耐热材料。湖北环保半导体与电子工程塑料零件定制加工特质
步骤s160:将第二预制坯以℃/min~℃/min的速率升温至900℃,保温2h~4h,进行排胶。对第二预制坯进行排胶能够将第二预制坯中的第二碳源转化为碳,从而在后续步骤中与液态硅反应得到碳化硅。步骤s170:将第二预制坯和硅粉进行反应烧结,得到碳化硅陶瓷。其中,反应烧结的温度为1400℃~1800℃,反应烧结的时间为1h~5h。第二预制坯和硅粉的质量比为1∶(~4)。进一步地,反应烧结的温度为1700℃~1800℃。具体地,步骤s170在真空高温烧结炉中进行。将第二预制坯和硅粉进行反应烧结,第二预制坯中的碳与渗入的硅反应,生成锌的碳化硅,并与原有的颗粒碳化硅相结合,游离硅填充了气孔,从而得到高致密性的碳化硅陶瓷。上述碳化硅陶瓷的制备方法至少具有以下优点:(1)上述碳化硅陶瓷的制备方法采用高温压力浸渗二次补充碳源的方式,提高了预制坯密度,降低孔隙率,也降低了游离硅的尺寸和数量,从而提高了反应烧结碳化硅材料的力学性能。(2)上述碳化硅陶瓷的制备方法通过预处理碳化硅微粉,让金属元素均匀沉降在碳化硅颗粒表面,**终会存在于晶界处,具有促进烧结,降低气孔率,提高抗弯强度和高温性能的作用。CPVC半导体与电子工程塑料零件定制加工保冷为您的 CNC 铣削部件提供可制造性设计反馈。
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本实用新型涉及半导体设备领域,具体地,涉及一种半导体设备中的工艺盘组件,以及一种包括该工艺盘组件的半导体设备。背景技术:半导体设备通常由工艺腔和设置在工艺腔内的工艺盘组成,工艺盘用于承载待加工的工件,工件与工艺腔中通入的工艺气体发生化学反应或者由工艺气体形成沉积物沉积在工件表面,完成晶片的外延等半导体工艺。为了保证工艺盘上热量的均匀性,通常采用电机等设备驱动工艺盘旋转,目前的工艺盘驱动机构通常包括滑动轴、衬套和石英转轴。其中,石英转轴用于驱动工艺盘旋转,衬套套设在滑动轴上,石英转轴套设在衬套上,且滑动轴、衬套和石英转轴三者轴线重合,衬套通过贴合面之间的摩擦作用将滑动轴的扭矩传递至石英转轴上。然而,基于这种结构目前的半导体设备经常出现工件放偏、工艺效果不佳、工艺盘旋转卡顿等问题。技术实现要素:本实用新型旨在提供一种用于半导体设备的工艺盘组件,该工艺盘组件能够解决上述技术问题中的至少一者。为实现上述目的,作为本实用新型的***个方面,提供一种半导体设备中的工艺盘组件,包括工艺盘和工艺盘转轴,所述工艺盘转轴用于驱动所述工艺盘旋转,所述工艺盘组件还包括驱动轴和驱动衬套。摩擦优化的产品可减少噪音,不会出现粘滑现象。
图8是本实用新型提供的工艺盘组件中驱动衬套与驱动轴连接前的位姿关系示意图;图9是本实用新型提供的工艺盘组件中驱动衬套与驱动轴连接后的局部剖面示意图;图10是本实用新型提供的工艺盘组件中工艺盘转轴与驱动衬套和驱动轴连接后的结构示意图;图11是本实用新型提供的工艺盘组件中工艺盘转轴与驱动衬套和驱动轴连接前的位姿关系示意图;图12是本实用新型提供的工艺盘组件中工艺盘转轴与驱动衬套和驱动轴连接后的局部剖面示意图;图13是本实用新型提供的工艺盘组件中传动筒的结构示意图;图14是本实用新型提供的工艺盘组件中传动筒与驱动轴固定连接前的位姿关系示意图;图15是本实用新型提供的工艺盘组件中传动筒与驱动轴固定连接后的位置关系示意图;图16是本实用新型提供的工艺盘组件中工艺盘转轴、驱动衬套和驱动轴在传动筒中的位置关系示意图。CNC 钻孔服务 , CNC 钻孔部件。湖北PP半导体与电子工程塑料零件定制加工管壳
生产过程保证产品的质量。湖北环保半导体与电子工程塑料零件定制加工特质
水平定向结晶法主要用于制备砷化镓单晶,而垂直定向结晶法用于制备碲化镉、砷化镓。用各种方法生产的体单晶再经过晶体定向、滚磨、作参考面、切片、磨片、倒角、抛光、腐蚀、清洗、检测、封装等全部或部分工序以提供相应的晶片。在单晶衬底上生长单晶薄膜称为外延。外延的方法有气相、液相、固相、分子束外延等。工业生产使用的主要是化学气相外延,其次是液相外延。金属有机化合物气相外延和分子束外延则用于制备量子阱及超晶格等微结构。非晶、微晶、多晶薄膜多在玻璃、陶瓷、金属等衬底上用不同类型的化学气相沉积、磁控溅射等方法制成。1、元素半导体材料硅在当前的应用相当***,他不仅是半导体集成电路,半导体器件和硅太阳能电池的基础材料,而且用半导体制作的电子器件和产品已经大范围的进入到人们的生活,人们的家用电器中所用到的电子器件80%以上与案件都离不开硅材料。锗是稀有元素,地壳中的含量较少,由于锗的特有性质,使得它的应用主要集中与制作各种二极管,三极管等。而以锗制作的其他钱江如探测器,也具有着许多的优点,***的应用于多个领域。2、有机半导体材料有机半导体材料具有热***电导率,如萘蒽,聚丙烯和聚二乙烯苯以及碱金属和蒽的络合物。湖北环保半导体与电子工程塑料零件定制加工特质
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