浙江CPVC半导体与电子工程塑料零件定制加工密度

    本发明涉及陶瓷领域，特别是涉及一种碳化硅陶瓷及其制备方法和半导体零件。背景技术：反应烧结碳化硅陶瓷是由细颗粒sic和添加剂压制成素坯，在高温下与液态硅接触，坯体中的碳与渗入的si反应，生成新的sic，并与原有颗粒sic相结合，游离硅填充了气孔，从而得到高致密性的陶瓷材料。反应烧结碳化硅在烧结过程中尺寸几乎无变化，相比于常压烧结、热压烧结碳化硅材料来说，加工成本大幅降低，广泛应用于石油、化工、航空航天、核工业及半导体等领域。但是反应烧结碳化硅材料存在力学性能较差的问题，从而限制了反应烧结碳化硅材料的应用。技术实现要素：基于此，有必要提供一种力学性能好的反应烧结碳化硅陶瓷的制备方法。此外，还提供一种碳化硅陶瓷和半导体零件。一种碳化硅陶瓷的制备方法，包括如下步骤：将碳化硅微粉、金属元素的氯化物、环氧丙烷、***分散剂及***溶剂混合并在真空条件、700℃～900℃下进行加热处理，得到预处理颗粒，其中，所述金属元素为稀土元素或锶元素；将所述预处理颗粒与第二分散剂、粘结剂、第二溶剂和***碳源混合造粒，得到造粒粉；将所述造粒粉成型，得到***预制坯；将所述***预制坯与第二碳源混合加热，使所述第二碳源呈液态。生产过程保证产品的质量。浙江CPVC半导体与电子工程塑料零件定制加工密度

    所述***分散剂和所述第二分散剂相互独立地选自四甲基氢氧化铵、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酸铵、丙烯酸钠、聚乙烯醇及聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种；及/或，所述粘结剂包括酚醛树脂、环氧树脂、聚乙烯醇、羧甲基纤维素钠、丙烯酸及聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种；及/或，所述碳化硅微粉的粒径为μm～μm；及/或，所述稀土元素包括钇、钕、铈、镧及钐中的至少一种。一种碳化硅陶瓷，由上述碳化硅陶瓷的制备方法制备得到。一种半导体零件，由上述碳化硅陶瓷加工处理得到。上述碳化硅陶瓷的制备方法先采用金属的氯化物、环氧丙烷、***分散剂和***溶剂与碳化硅微粉混合，金属元素的氯化物在环氧丙烷的作用下沉淀，然后在真空条件、700℃～900℃下进行加热处理，使金属元素的氯化物转化为氧化物，并均匀沉降在碳化硅微粉表面，具有促进烧结、降低气孔率的作用，从而提高碳化硅陶瓷的力学性能，相较于传统的制备方法中将金属元素的氧化物直接与碳化硅微粉及分散剂、粘结剂等混合，能够使稀土元素的分布更均匀。另外，将***预制坯与第二碳源混合加热，液态的第二碳源在3mpa～7mpa的压力条件下浸渗入***预制坯的孔隙中，降低了孔隙率，从而提高了碳化硅陶瓷的力学性能。因此。安徽PVC半导体与电子工程塑料零件定制加工隔音吗按图订购 CNC 加工部件。

    表1实施例和对比例的碳化硅陶瓷的力学性能数据从上表1中可以看出，实施例得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度均在400mpa左右，实施例2得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度甚至高达451mpa，远高于对比例得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度。实施例得到的碳化硅陶瓷的显微硬度至少为2441hv，致密度均在3g/cm3以上，而对比例得到的碳化硅陶瓷的抗显微硬度和致密度均较低。由此可以看出，采用实施例中的碳化硅陶瓷的制备方法得到的碳化硅陶瓷的力学性能较好。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上所述实施例*表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

    本实用新型涉及半导体设备领域，具体地，涉及一种半导体设备中的工艺盘组件，以及一种包括该工艺盘组件的半导体设备。背景技术：半导体设备通常由工艺腔和设置在工艺腔内的工艺盘组成，工艺盘用于承载待加工的工件，工件与工艺腔中通入的工艺气体发生化学反应或者由工艺气体形成沉积物沉积在工件表面，完成晶片的外延等半导体工艺。为了保证工艺盘上热量的均匀性，通常采用电机等设备驱动工艺盘旋转，目前的工艺盘驱动机构通常包括滑动轴、衬套和石英转轴。其中，石英转轴用于驱动工艺盘旋转，衬套套设在滑动轴上，石英转轴套设在衬套上，且滑动轴、衬套和石英转轴三者轴线重合，衬套通过贴合面之间的摩擦作用将滑动轴的扭矩传递至石英转轴上。然而，基于这种结构目前的半导体设备经常出现工件放偏、工艺效果不佳、工艺盘旋转卡顿等问题。技术实现要素：本实用新型旨在提供一种用于半导体设备的工艺盘组件，该工艺盘组件能够解决上述技术问题中的至少一者。为实现上述目的，作为本实用新型的***个方面，提供一种半导体设备中的工艺盘组件，包括工艺盘和工艺盘转轴，所述工艺盘转轴用于驱动所述工艺盘旋转，所述工艺盘组件还包括驱动轴和驱动衬套。为您的 CNC 铣削部件提供可制造性设计反馈。

    常用的半导体材料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延生长。半导体材料所有的半导体材料都需要对原料进行提纯，要求的纯度在6个“9”以上，**高达11个“9”以上。提纯的方法分两大类，一类是不改变材料的化学组成进行提纯，称为物理提纯;另一类是把元素先变成化合物进行提纯，再将提纯后的化合物还原成元素，称为化学提纯。物理提纯的方法有真空蒸发、区域精制、拉晶提纯等，使用**多的是区域精制。化学提纯的主要方法有电解、络合、萃取、精馏等，使用**多的是精馏。由于每一种方法都有一定的局限性，因此常使用几种提纯方法相结合的工艺流程以获得合格的材料。绝大多数半导体器件是在单晶片或以单晶片为衬底的外延片上作出的。成批量的半导体单晶都是用熔体生长法制成的。直拉法应用**广，80%的硅单晶、大部分锗单晶和锑化铟单晶是用此法生产的，其中硅单晶的**大直径已达300毫米。在熔体中通入磁场的直拉法称为磁控拉晶法，用此法已生产出高均匀性硅单晶。在坩埚熔体表面加入液体覆盖剂称液封直拉法，用此法拉制砷化镓、磷化镓、磷化铟等分解压较大的单晶。悬浮区熔法的熔体不与容器接触，用此法生长高纯硅单晶。水平区熔法用以生产锗单晶。具有多轴的CNC数控机床可以处理许多复杂且难度精度较高的几何形状。浙江HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工隔音吗

及时出货速度与稳定交期，满足不同的客户需求。浙江CPVC半导体与电子工程塑料零件定制加工密度

    以避免轴承座10与工艺腔碰撞导致传送组件精度下降。为进一步提高传动筒4的稳定性，避免外界物质进入轴承座10，推荐地，如图3、图4所示，工艺盘组件还包括密封衬套5，密封衬套5环绕设置在传动筒4的外壁上。需要说明的是，密封衬套5与轴承座之间为固定连接关系，如图4所示，推荐地，密封衬套5的内壁上还设置有用于容纳密封圈的密封圈槽，在传动筒4转动时，与轴承座固定连接的密封衬套5持续地与传动筒4摩擦。为提高密封衬套5的耐磨性能，推荐地，密封衬套5为不锈钢材料。在实验研究中，发明人还发现，现有的半导体设备工艺效果不佳的原因在于，个别轴套类部件上的密封件在传动机构的运动过程中会逐渐沿轴向移动，偏离预定位置，造成半导体设备的气密性下降。为解决上述技术问题，推荐地，如图3、图4、图13所示，工艺盘组件还包括挡环7，传动筒4的外壁上形成有挡环槽43，挡环7环绕传动筒4设置在挡环槽43中，挡环7的外径大于密封衬套5朝向工艺盘01一端的内径，以使得密封衬套5无法沿轴向运动通过挡环槽43所在的位置。在本实用新型的实施例中，传动筒4的外壁上形成有挡环槽43，并在挡环槽43中设置挡环7，从而可以阻止密封衬套5轴向偏离，进而避免了避免外界物质进入轴承座10。浙江CPVC半导体与电子工程塑料零件定制加工密度

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