蒸镀全称为蒸发镀膜，是通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。光学薄膜主要在镀膜工艺和计算机辅助设计两个方面发展迅速。深圳溅射镀膜加工
在早期未出现真空镀膜的时候，都是使用水电镀膜的方式进行镀膜，水电镀膜因为需要加入一些剧Du的原料在水中，这样造成的环境污染和危险是非常大的，国内已经严格禁止这些加工方式了，因此也可以说是因为政策的原因推动了真空镀膜的出现和发展。真空镀膜的出现就迅速火爆起来，其优势也被逐渐认知：沉积材料多，能使用铝\钛等进行沉淀附着；真空涂层在附着力、致密度、硬度等方面表现优良；所有镀层材料在真空环境下等离子状态进行附着，不会产生液体污染。 常州溅射镀膜加工1962年, 开始研究用于化学分析的溅射方法;
物理成膜能分为热蒸发、溅射、分子束外延MBE和离子镀这四种，其中热蒸发、溅射和离子镀这些镀膜方法还有下属细分。热蒸发镀膜下能分为电阻丝加热、石英坩埚加热、电子束加热和高频感应蒸发。溅射镀膜又能细分为磁控溅射、离子束溅射、脉冲激光沉淀、三级和四级溅射、直流二级溅射和射频溅射。离子镀又能细分为直流二级型、射频放电离子镀、电弧放电型真空、零气压溅射和自溅射这几种。镀膜技术非常多样化，但是有些镀膜技术还是有特定的使用要求的。
对于真空镀膜而言，我们可以简单的理解为是在真空环境下，利用蒸镀、溅射及凝结的方法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等材料上镀上金属薄膜或者是覆盖层。真空镀膜属于干式镀膜，在光学、电子学、理论仪器、机械和表面处理技术上有着***的应用。以真空镀膜的离子镀膜为例，它是在真空蒸镀、溅射镀膜的基础上发展而来的，所以它具有真空蒸镀、溅射镀膜两种镀膜方式的优点，离子镀膜是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。除大快窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空镀膜取代。
五金类产品在使用电镀进行镀膜的时候，一般是需要经过常温除油剂、铜抛光剂、环保除蜡水、铜环保抛光抛光剂和化学除油粉这些前处理操作的，这样才能使得镀件与镀的膜层能紧密结合在一起。常温除油剂顾名思义就是在常温状态就可以对工件上的多种油污进行清洁工作；铜抛光剂则是用来清洗铜材料的，因是酸性溶剂，适用范围广；环保除蜡水适用于各种金属材料工件的清洗，具有较比较好的通|用性；铜环保抛光抛光剂适合于铜件及其合金化学抛光，尤其是对精度要求高产品；化学除油粉为白色粉末, 易溶于水中, 工作温度范围宽，使用干粉性能进行油污吸附清理工作.1971年，用离子轰击的方法在玻璃上镀膜的公司在不少国家大量涌现；硬碳膜研制成功。无锡屏蔽镀膜加工
1958年, 薄膜的外延生长技术研制成功；深圳溅射镀膜加工
竞争日益激烈的市场环境下，拥有可靠性是电子设备占据市场所必须要确保的问题。对于需要连续性、**度工作的设备，EMI屏蔽技术（镀膜）能有效提高设备的稳定性。进入二十一世纪以来，电子设备的飞速发展，也让人们逐渐开始注意和担忧电磁辐射给身体带来的影响或者说危险。研究也表明过量的X射线和紫外线照射是具有危险的，除了这些已近被正式的，人们更加注意微波和射频在显示单元范围内的辐射可能对人身体健康造成伤害，如高压线就是一个比较明显的辐射源。深圳溅射镀膜加工
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