吉林石墨烯器件及电路芯片开发

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司专注于Si基GaN微波毫米波器件与芯片技术开发，为客户提供专业的技术解决方案。与传统的SiLDMOS相比，该芯片具有更高的工作频率、更大的功率和更小的体积等优势。同时，与SiC基GaN芯片相比，Si基GaN芯片具备低成本、高密度集成和大尺寸等优势。该芯片适应于C、Ka、W等主流波段的攻放、开关、低噪放等芯片应用，具有较优的市场前景。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司可为客户提供定制化的Si基GaN射频器件和电路芯片研制与代工服务，满足客户在5G通信基站、高效能源、汽车雷达、手机终端、人工智能等领域的需求。总之，南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司在Si基GaN微波毫米波器件与芯片技术领域拥有丰富的经验和高水平的技术实力。通过不断创新和努力奋斗，研究院将继续提升产品质量和技术水平，为相关领域的发展做出更大的贡献。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台可提供全流程芯片制造工艺技术服务。吉林石墨烯器件及电路芯片开发

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南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司具备先进的半导体器件及电路的加工流片能力，具备独具创新的技术和研发能力。作为一家致力于半导体领域的先进技术研究机构，公司拥有一支高素质的研发团队，并配备了先进的研发设备。通过不断探索和突破，南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司成功研发出多种半导体器件及电路，并具备了高水平的加工流片能力，可以为客户提供芯片单步、多步加工服务，也可开展芯片特殊工艺开发。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司致力于为客户提供专业的异质集成工艺服务。在晶圆键合方面，提供6英寸及以下的超高真空键合、表面活化键合、聚合物键合、热压键合、共晶键合等多种类型的晶圆及非标准片键合服务，确保晶圆间的紧密结合。在衬底减薄方面，提供Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LiNbO3、石英等多种材料的衬底减薄服务，以满足不同应用场景的需求。在表面平坦化方面，提供Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LiNbO3、石英等多种材料的表面亚纳米级精细抛光服务，确保材料表面的平滑度和精度。公司的多种异质集成技术服务，包括超高真空键合、衬底减薄和表面平坦化等，均基于先进的技术和设备，旨在满足客户的各种不同需求。公司凭借丰富的经验和技术实力，为客户提供定制化的解决方案，助力客户在异质集成工艺领域取得突出成果。芯谷高频研究院的CVD用固态微波功率源产品具有高频率一致性和稳定性, 具有集成度高，尺寸小、寿命高等特性。

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