小外形封装(SOP)SOP(SmallOut-LinePackage)是表面贴装型封装之一,也称之为SOL或DFP,引脚从封装两侧引出呈海鸥翼状(L字形)。材料有塑料和陶瓷两种。SOP封装标准有SOP-8、SOP-16、SOP-20、SOP-28等,SOP后面的数字表示引脚数。MOSFET的SOP封装多数采用SOP-8规格,业界往往把“P”省略,简写为SO(SmallOut-Line)。SOP-8封装尺寸SO-8为PHILIP公司率先开发,采用塑料封装,没有散热底板,散热不良,一般用于小功率MOSFET。后逐渐派生出TSOP(薄小外形封装)、VSOP(甚小外形封装)、SSOP(缩小型SOP)、TSSOP(薄的缩小型SOP)等标准规格;其中TSOP和TSSOP常用于MOSFET封装。根据焊接特殊的需要,含有充氮的回流焊炉。比较流行大多是远红外回流焊、红外加热风回流焊和全热风回流焊。国产SMT线路板加工专卖
SMT制造设备对PCB的设计要求主要包括:PCB图案,尺寸,定位孔,夹紧边缘,MARK,面板走线等。•PCB图案在自动SMT生产线中,PCB生产从装载机开始,并在印刷,芯片安装,焊接后完成生产。结尾,它将由卸货机作为成品板生成。在此过程中,PCB在设备的路径上传输,这要求PCB图案应与设备之间的路径传输一致。到目前为止,大多数设备的尺寸在50mmx50mm至330mmx250mm(或410mmx360mm)范围内。如果PCB的厚度太薄,则其设计尺寸不应太大。否则,回流温度会引起PCB变形。理想的长宽比是3:2或4:3。如果PCB尺寸小于设备的极小尺寸要求,则应进行拼板。面板的数量取决于PCB的尺寸和厚度。国产SMT线路板加工专卖SMT工艺流程:印刷-> 检测->贴装-->检测->焊接-> 检测-> 维修-> 分板。
在SMT设备的安装现场,如果车间的建筑结构空间比较狭窄,且采用反射系数很高的材料(吸声系数很小,α<0。02),对声音的吸收能力几乎没有,完全是反射,从而使室内的噪声不断地被反射加强,产生强烈的混响效果。造成车间内的噪声主要成分为机械噪声,并伴有部分空气动力性噪声,因此大多可采用隔声,吸声的措施进行降噪处理。厂房的吊顶采用吸声能力较强的材料,将有利于减少噪声的反射。噪声的控制标准应执行<<工业企业噪声控制设计规范>>(GBJ 87-85),以及机械电子工业部1988年11月10日颁布的<<机械工业职业安全卫生设计规定>>的有关要求,SMT生产现场的大部分区域的噪声值应控制在70db以内。
SMT贴片加工也就是表面组装技术,是目前电子组装行业里当下流行的一种技术和工艺。一、使用SMT贴片加工的原因:1、电子产品追求小型化,以前使用的穿孔插件元件已无法缩小;2、电子产品功能更完整,所采用的集成电路(IC)已无穿孔元件,特别是大规模、高集成IC,不得不采用表面贴片元件;3、产品批量化,生产自动化,SMT贴片加工厂要以低成本高产量,出产质量产品以迎合顾客需求及加强市场竞争力;4、电子元件的发展,集成电路(IC)的开发,半导体材料的多元应用;5、电子科技历史势在必行,追逐国际潮流。二、SMT贴片加工的特点:1、组装密度高、电子产品体积小、重量轻,贴片元件的体积和重量只有传统插装元件的1/10左右,一般采用SMT之后,电子产品体积缩小40%~60%,重量减轻60%~80%。2、可靠性高、抗振能力强。焊点缺陷率低。3、高频特性好。减少了电磁和射频干扰。4、易于实现自动化,提高生产效率。降低成本达30%~50%。节省材料、能源、设备、人力、时间等。长江三角洲地区SMT产业的快速增长主要来自于全球SMT产业的转移,尤其是贴片机生产的转移。
工程师 • 来源:未知 • 作者:姚远香 • 2019-04-23 14:44 • 21658次阅读 000:00 / 00:00正常SMT生产设备是SMT生产线上特殊设备,是用于电子制造工业,SMT生产设备有不少,极主要SMT设备有贴片机、锡膏印刷机、回流焊、AOI、送板机、接驳台等。锡膏印刷机也称为SMT印刷机、SMT丝印机,是SMT生产线前道工序设备,负责将锡膏、胶水印刷到PCB电路板上,为后道贴片工序做好准备。锡膏印刷机有分手动、半自动、全自动锡膏印刷机,根据用户不同需求选择极适合自己的印刷设备。SMT的高频特性好。减少了电磁和射频干扰。国产SMT线路板加工专卖
只有完全熟悉实际生产工艺流程了解实际生产工艺技术参数调整变化,才能设计出符合实际生产要求的SMT设备。国产SMT线路板加工专卖
这其中极为关键的是降低光生载流子的复合,它直接影响太阳能电池的开路电压。光生载流子的复合主要是由于高浓度的扩散层在前表面引入大量的复合中心。此外,当少数载流子的扩散长度与硅片的厚度相当或超过硅片厚度时,背表面的复合速度对太阳能电池特性的影响也很明显。提高转换效率方法提高晶硅太阳能电池转换效率有如下方法:1、光陷阱结构2、减反射膜3、钝化层4、增加背场5、改善衬底材料,1、光陷阱结构一般高效单晶硅电池采用化学腐蚀制绒技术,制得绒面的反射率可达到10%以下。目前较为先进的制绒技术是反应等离子蚀刻技术(RIE),该技术的优点是和晶硅的晶向无关,适用于较薄的硅片,通常使用SF6/O2混合气体,在蚀刻过程中,F自由基对硅进行化学蚀刻形成可挥发的SiF4,O自由基形成SixOyFz对侧墙进行钝化处理,形成绒面结构。目前韩国周星公司应用该技术的设备可制得绒面反射率低于在2%~20%范围。国产SMT线路板加工专卖
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