上海弥正凭借低温精馏、吸附分离、膜分离、催化脱氧等多工艺集成提纯技术，实现超高纯气体 5N-9N 级纯度的稳定量产，技术水平对标国际先进标准。针对不同气体特性定制专属提纯方案：惰性气体采用 “低温精馏 + 吸附” 组合工艺，有效去除微量杂质；活性气体通过 “催化净化 + 膜分离” 技术，精细控制有害杂质含量；特种气体则采用 “低温吸附 + 精馏” 工艺，确保纯度与稳定性双达标。配备国际先进的痕量杂质检测设备，包括 GC-MS 气相色谱 - 质谱联用仪、ICP-MS 电感耦合等离子体质谱仪等，可检测出 ppb-ppt 级别的微量杂质，每批次产品均经过至少 3 次全项检测，确保纯度达标。建立 1000㎡超洁净生产车间，车间洁净度达 Class 100 级，避免生产过程中气体污染，提纯设备采用自动化控制系统，操作精度达 ±0.01%，实现全年 365 天连续稳定生产，气体纯度波动范围≤0.05%，为下游制造行业提供可靠的纯度保障。超高纯氯气（纯度 99.99%）适配半导体刻蚀，准确去除硅基材料。江苏氯气超高纯气体半导体制造
上海弥正针对碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等第三代半导体制造，打造专属超高纯气体解决方案，以 “适配宽禁带特性 + 准确工艺控制” 助力功率器件与射频器件量产。方案涵盖超高纯氨气、硅烷、氢气、氩气等重心气体，其中用于 GaN 外延生长的超高纯氨气纯度达 7N 级，金属杂质含量≤0.01ppb；用于 SiC 刻蚀的超高纯氟化物气体纯度达 6N 级，确保材料刻蚀的准确度与表面质量。第三代半导体材料具有耐高温、耐高压、高频的特性，对气体纯度与杂质控制要求远高于传统硅基半导体，该方案通过准确控制氧、碳、金属等杂质含量，有效减少外延层缺陷，提升器件的击穿电压与可靠性。提供外延生长、离子注入、刻蚀、退火等全工艺环节的气体组合，并配备工艺适配团队，协助客户优化气体流量、压力等工艺参数。某专注于 SiC 功率器件的企业应用该方案后，外延片的缺陷密度从 10³cm⁻² 降至 10²cm⁻² 以下，器件的击穿电压提升 20%，成功实现车规级 SiC MOSFET 的稳定量产。氪气超高纯气体核磁共振成像超高纯氖气纯度≥99.999%，用于霓虹灯填充与低温制冷领域。
上海弥正超高纯二氧化碳（5N 级纯度），专为细胞培养、食品加工、激光切割等场景设计，以 “高纯度 + 高安全性” 成为多领域推荐。通过精馏与吸附提纯工艺，将水分、氧气、硫化物等杂质含量控制在 0.1ppb 以下，其中有害杂质硫化物含量≤0.01ppb，确保使用安全。在细胞培养领域，可精细调控培养环境的 pH 值，维持细胞正常生理活性，提升细胞增殖效率；在食品加工领域，用于碳酸饮料充气与食品冷冻保鲜，无异味、无残留，符合食品接触安全标准；在激光切割领域，作为辅助气体可提升切割效率与切口平整度。采用特用高压气瓶包装，配备防泄漏阀门与压力调节装置，气体输出压力稳定，流量调节范围 1-100L/min。某生物科技企业应用后，细胞培养密度提升 20%，细胞活性维持时间延长 3 天；某食品企业使用后，碳酸饮料口感稳定性提升，食品冷冻保鲜期延长 50%，完全满足不同行业的安全与性能要求。
上海弥正超高纯氙气（6N 级纯度），凭借 “优越的 X 射线吸收能力 + 放射性杂质”，成为医疗成像与前沿科学探测领域的不可替代材料。通过多级精馏与精密提纯工艺，将总杂质含量控制在 0.1ppm 以下，其中对成像质量影响重大的总烃杂质≤10ppb，具有放射性的氡杂质更是被控制在 1ppb 以下，达到暗物质探测的严苛标准。在医疗领域，作为 CT 机的氙气探测器填充气体，其强大的 X 射线吸收能力能明显提升影像的清晰度与对比度，帮助医生精细识别微小病灶，减少误诊率；在高能物理领域，是大型暗物质探测器的重心工作介质，其超高纯度可比较大限度降低背景干扰，确保探测数据的准确性。采用特制的高压无缝气瓶包装，瓶体经严格的气密性与抗压测试，符合 GB 5099《钢质无缝气瓶》标准，保障储存与运输安全。某医疗设备企业应用后，其生产的 CT 机影像分辨率提升 40%，微小病灶检出率提高 25%；某科研院所在暗物质探测实验中使用该气体，成功捕捉到关键信号，实验进程大幅加速。超高纯硼烷（纯度 99.99%）用于半导体掺杂，提升芯片导电性能。
上海弥正超高纯六氟化钨（6N 级纯度），是半导体先进制程中钨金属层沉积的重心前驱体，以 “高纯度 + 低金属杂质” 助力芯片性能升级。采用化学合成与多级精馏提纯工艺，将杂质总量控制在 1ppm 以下，其中铜、铁、铝等金属杂质含量均≤0.1ppb，完全满足 14nm 及以下逻辑芯片、3D NAND 闪存制造的工艺要求。在化学气相沉积（CVD）工艺中，它能精细地在晶圆表面沉积出均匀、致密的钨金属层，用于芯片的栅极、互连线及接触孔填充，其纯度直接决定了钨层的导电性与可靠性，进而影响芯片的运行速度与寿命。配备耐腐蚀的特用包装与输送系统，采用内壁经特殊钝化处理的镍合金气瓶，防止气体与容器发生反应导致污染，输送管路采用无死腔设计，确保气体纯净度。某头部晶圆制造企业应用后，3D NAND 闪存的钨层沉积均匀性提升至 99.5%，芯片数据存储密度提高 15%，良率提升 2.2%，有力支撑了企业在先进存储领域的技术竞争力。超高纯氩气（杂质含量≤1ppm）适配激光切割，提升金属加工切口光滑度。江苏超高纯气体芯片制造
超高纯氮气（纯度≥99.999%）用作半导体制造保护气，防止芯片加工时氧化。江苏氯气超高纯气体半导体制造
上海弥正秉持绿色制造理念，打造环保型超高纯气体解决方案，从生产、使用到回收全流程降低环境影响。生产过程采用节能型提纯设备，能耗较传统设备降低 25%，同时利用余热回收系统，实现能源循环利用；气体使用后，通过特用回收装置回收反应尾气，如三氟化氮气体回收率达 67%，经处理后可重新用于下游生产，降低资源浪费与环境排放。所有气体包装材料均采用可回收不锈钢材质，回收率达 95% 以上，减少固体废弃物产生；生产车间配备废气处理系统，确保废气排放符合国家环保标准，无有害气体泄漏。为客户提供环保使用指导，优化气体使用工艺，降低单位产品气体消耗量，助力客户实现 “双碳” 目标。某半导体企业应用该环保方案后，年气体消耗量降低 10%，废弃物排放减少 30%，成功通过 “绿色工厂” 认证，环保与经济效益双赢。江苏氯气超高纯气体半导体制造
上海弥正气体有限公司是一家有着先进的发展理念，先进的管理经验，在发展过程中不断完善自己，要求自己，不断创新，时刻准备着迎接更多挑战的活力公司，在上海市等地区的电工电气中汇聚了大量的人脉以及**，在业界也收获了很多良好的评价，这些都源自于自身的努力和大家共同进步的结果，这些评价对我们而言是比较好的前进动力，也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神，努力把公司发展战略推向一个新高度，在全体员工共同努力之下，全力拼搏将共同上海弥正气体供应和您一起携手走向更好的未来，创造更有价值的产品，我们将以更好的状态，更认真的态度，更饱满的精力去创造，去拼搏，去努力，让我们一起更好更快的成长！
