浙江氖气超高纯气体

上海弥正超高纯氧气（5N 级纯度），兼具医疗与电子制造双重适配性，以 “高纯度 + 低杂质” 满足多元场景需求。采用深度冷冻与吸附提纯工艺，将水分、二氧化碳、一氧化碳等杂质含量控制在 0.5ppb 以下，无异味、无有害污染物，符合医用气体 GB 8982-2024 标准与电子行业 SEMI 标准。在医疗领域，可用于重症患者呼吸疗愈、麻醉辅助与高压氧舱疗愈，提高血氧饱和度，促进患者康复；在电子制造领域，用于 ITO 薄膜溅射沉积，提升显示面板与触摸屏的导电性能与透光率。采用医用与工业特用气瓶分类包装，医用气瓶经无菌处理，工业气瓶配备高精度流量控制装置，支持连续稳定输送。某综合医院应用后，重症患者率提升 10%，氧疗不良反应发生率下降 60%；某电子企业使用后，ITO 薄膜透光率提升 2%，导电性能稳定，完全满足医疗与电子行业的严苛要求。超高纯硅烷（纯度 99.999%）是半导体外延生长的关键原料气。浙江氖气超高纯气体

上海弥正创新性地从发酵工业副产品中提纯制备生物基超高纯二氧化碳（5N 级纯度），实现资源循环利用，为食品与医药行业提供更安全、更环保的绿色气体选择。该工艺以乙醇发酵、啤酒酿造等工业的副产品二氧化碳为原料，通过水洗、脱硫、精馏、吸附等多道提纯工序，将硫化物、苯类、重金属等有害杂质含量控制在 0.1ppb 以下，纯度达 99.999%，完全符合 GB 10621-2022 食品添加剂标准与药典标准。相较于传统化工合成法，该工艺每生产一吨气体可减少约 3 吨的二氧化碳排放，兼具环保与经济价值。在食品领域，可用于碳酸饮料的充气与果蔬的气调保鲜，无化学残留，口感更纯净；在医药领域，可用于腹腔镜手术的 insufflation 气体与细胞培养环境的 pH 值调节。某啤酒企业将其用于旗下碳酸饮料生产，产品通过 “碳中和” 认证，市场销量提升 18%；某生物制药企业使用后，细胞培养的存活率与活性均有明显提升，生物制剂的批次稳定性更佳。江苏氩气超高纯气体光纤生产超高纯氩气（杂质含量≤1ppm）适配激光切割，提升金属加工切口光滑度。

上海弥正多款超高纯气体产品通过 SEMI（国际半导体产业协会）认证，包括 SEMI S6 安全标准与 SEMI C12 气体纯度标准，成功打入全球半导体供应链，成为国际客户的供应商。公司建立了与国际接轨的质量管理体系，从原料采购、生产制造到检测放行，每一个环节都严格遵循 SEMI 标准要求，配备 GD-MS（辉光放电质谱仪）、CRDS（腔衰荡光谱法）等国际先进检测设备，确保产品质量与国际标准一致。通过认证的产品涵盖电子级氮气、氩气、氨气、三氟化氮等 15 个品类，纯度覆盖 5N-7N 级，可适配全球不同地区晶圆厂的生产需求。凭借 SEMI 认证资质，公司已成功与多家国际半导体设备商及代工厂建立合作关系，产品出口至东南亚、欧洲等多个地区。某欧洲半导体代工厂采购其 SEMI 认证氨气后，产品完全适配其 8 英寸晶圆生产线，检测指标与原进口品牌一致，且供应稳定性与成本优势更突出，实现了长期合作。

上海弥正推出行业的超高纯气体回收再利用系统，针对半导体、光伏等行业的工艺尾气，实现高效回收、提纯与循环利用，为客户创造经济与环境双重价值。该系统可适配三氟化氮、硅烷、氢气等多种气体，通过低温冷凝、吸附分离与精密过滤等多级处理工艺，将原本直接排放的工艺尾气提纯至 5N-6N 级纯度，回收利用率比较高可达 90%。以半导体刻蚀工艺中常用的三氟化氮为例，传统使用模式下利用率不足 50%，大量尾气被浪费并污染环境，采用该回收系统后，客户气体采购成本降低 40%，同时大幅减少温室气体排放。提供 “定制化系统 + 运维服务” 的整体解决方案，根据客户生产规模与气体种类，设计专属回收流程，配备专业团队负责系统安装、调试与定期维护，并提供回收气体的质量检测报告。某半导体代工厂应用该系统后，年节省气体采购费用超 600 万元，工艺尾气排放量减少 80%，顺利通过 ISO 14064 碳足迹核查，实现了经济效益与环保责任的统一。超高纯硅烷用于太阳能电池制造，提升电池转换效率与寿命。

上海弥正针对不同芯片制程需求，提供电子级超高纯气体定制服务，从纯度等级、杂质控制到供应方式均实现准确适配。可根据客户工艺要求，定制 5N-9N 级不同纯度的气体产品，其中 7N 级以上超高纯气体金属杂质含量可控制在 0.001ppb 以下，完全满足 7nm 及以下先进制程的严苛要求。针对特定工艺环节，准确控制目标杂质含量，如光刻工艺用气体可将碳氢化合物杂质控制在 0.05ppb 以下，避免影响光刻精度；掺杂工艺用气体可准确调控掺杂元素浓度，确保芯片电性能稳定。提供 “瓶装 + 管道” 双供应模式，小批量生产采用高压气瓶供应，大批量连续生产采用管道输送，输送系统可与客户生产设备无缝对接。配备专业技术团队，提供工艺适配咨询、气体使用培训与设备调试服务，帮助客户优化气体使用方案。某先进制程芯片企业应用定制化气体后，芯片制程良率提升 3.5%，工艺调整周期缩短 40%，成为客户工艺升级的重心合作伙伴。超高纯气体纯度检测采用气相色谱法，准确控制杂质含量。氧化亚氮超高纯气体新能源

超高纯六氟化硫用于电力设备灭弧，保障电网安全运行。浙江氖气超高纯气体

上海弥正超高纯六氟化钨（6N 级纯度），是半导体先进制程中钨金属层沉积的重心前驱体，以 “高纯度 + 低金属杂质” 助力芯片性能升级。采用化学合成与多级精馏提纯工艺，将杂质总量控制在 1ppm 以下，其中铜、铁、铝等金属杂质含量均≤0.1ppb，完全满足 14nm 及以下逻辑芯片、3D NAND 闪存制造的工艺要求。在化学气相沉积（CVD）工艺中，它能精细地在晶圆表面沉积出均匀、致密的钨金属层，用于芯片的栅极、互连线及接触孔填充，其纯度直接决定了钨层的导电性与可靠性，进而影响芯片的运行速度与寿命。配备耐腐蚀的特用包装与输送系统，采用内壁经特殊钝化处理的镍合金气瓶，防止气体与容器发生反应导致污染，输送管路采用无死腔设计，确保气体纯净度。某头部晶圆制造企业应用后，3D NAND 闪存的钨层沉积均匀性提升至 99.5%，芯片数据存储密度提高 15%，良率提升 2.2%，有力支撑了企业在先进存储领域的技术竞争力。浙江氖气超高纯气体

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