为提升芯片产出量,中清航科通过刀片动态平衡控制+激光辅助定位,将切割道宽度从50μm压缩至15μm。导槽设计减少材料浪费,使12英寸晶圆有效芯片数增加18%,明显降低单颗芯片制造成本。切割产生的亚微米级粉尘是电路短路的元凶。中清航科集成静电吸附除尘装置,在切割点10mm范围内形成负压场,配合离子风刀清理残留颗粒,洁净度达Class 1标准(>0.3μm颗粒<1个/立方英尺)。中清航科设备内置AOI(自动光学检测)模块,采用多光谱成像技术实时识别崩边、微裂纹等缺陷。AI算法在0.5秒内完成芯片级判定,不良品自动标记,避免后续封装资源浪费,每年可为客户节省品质成本超百万。采用中清航科激光隐形切割技术,晶圆分片效率提升40%以上。碳化硅陶瓷晶圆切割

针对高粘度晶圆切割液的回收处理,中清航科研发了离心式过滤净化系统。该系统通过三级过滤工艺,可去除切割液中 99.9% 的固体颗粒杂质,使切割液循环利用率提升至 80% 以上,不只降低耗材成本,还减少废液排放。同时配备浓度自动调节功能,确保切割液性能稳定,保障切割质量一致性。在晶圆切割设备的维护便捷性设计上,中清航科秉持 “易维护” 理念。设备关键部件采用模块化设计,更换激光头、切割刀片等中心组件只需 15 分钟,较传统设备缩短 70% 维护时间。同时配备维护指引系统,通过 AR 技术直观展示维护步骤,降低对专业维护人员的依赖,减少客户运维压力。连云港半导体晶圆切割宽度中清航科联合高校成立切割技术研究院,突破纳米级切割瓶颈。

为帮助客户应对半导体行业的技术人才短缺问题,中清航科推出 “设备 + 培训” 打包服务。购买设备的客户可获得技术培训名额,培训内容涵盖设备操作、工艺调试、故障排除等,培训结束后颁发认证证书。同时提供在线技术支持平台,随时解答客户在生产中遇到的技术问题。随着半导体器件向微型化、集成化发展,晶圆切割的精度要求将持续提升。中清航科已启动亚微米级切割技术的产业化项目,计划通过引入更高精度的运动控制系统与更短波长的激光源,实现 500nm 以内的切割精度,为量子芯片、生物传感器等前沿领域的发展提供关键制造设备支持。
晶圆切割过程中产生的应力可能导致芯片可靠性下降,中清航科通过有限元分析软件模拟切割应力分布,优化激光扫描路径与能量输出模式,使切割后的晶圆残余应力降低 40%。经第三方检测机构验证,采用该工艺的芯片在温度循环测试中表现优异,可靠性提升 25%,特别适用于航天航空等应用领域。为帮助客户快速掌握先进切割技术,中清航科建立了完善的培训体系。其位于总部的实训基地配备全套切割设备与教学系统,可为客户提供理论培训、实操演练与工艺调试指导,培训内容涵盖设备操作、日常维护、工艺优化等方面,确保客户团队能在短时间内实现设备的高效运转。中清航科全自动切割线配备AI视觉定位,精度达±1.5μm。

为满足半导体行业的快速交付需求,中清航科建立了高效的设备生产与交付体系。采用柔性化生产模式,标准型号切割设备可实现 7 天内快速发货,定制化设备交付周期控制在 30 天以内。同时提供门到门安装调试服务,配备专业技术团队全程跟进,确保设备快速投产。在晶圆切割的工艺参数优化方面,中清航科引入实验设计(DOE)方法。通过多因素正交试验,系统分析激光功率、切割速度、焦点位置等参数对切割质量的影响,建立参数优化模型,可在 20 组实验内找到比较好工艺组合,较传统试错法减少 60% 的实验次数,加速新工艺开发进程。超窄街切割方案中清航科实现30μm道宽,芯片数量提升18%。上海砷化镓晶圆切割划片
中清航科推出切割废料回收服务,晶圆利用率提升至99.1%。碳化硅陶瓷晶圆切割
当晶圆切割面临复杂图形切割需求时,中清航科的矢量切割技术展现出独特优势。该技术可精确识别任意复杂切割路径,包括圆弧、曲线及异形图案,通过分段速度调节确保每一段切割的平滑过渡,切割轨迹误差控制在 2μm 以内。目前已成功应用于光电子芯片的精密切割,为 AR/VR 设备中心器件生产提供有力支持。半导体生产车间的设备协同运作对通信兼容性要求极高,中清航科的晶圆切割设备多方面支持 OPC UA 通信协议,可与主流 MES 系统实现实时数据交互。通过标准化数据接口,将切割进度、设备状态、质量数据等信息实时上传至管理平台,助力客户实现生产过程的数字化管控与智能决策。碳化硅陶瓷晶圆切割