先进制程流片面临技术门槛高、产能紧张等问题，中清航科凭借与先进晶圆厂的深度合作，构建起独特的先进制程流片代理能力。针对 7nm 及以下工艺，组建由前晶圆厂工程师组成的技术团队，能为客户提供从设计规则解读、DFM 分析到工艺参数优化的全流程支持。在 EUV 光刻环节，中清航科的技术人员可协助客户优化光刻胶选择与曝光参数，使 EUV 层的良率提升 10% 以上。为应对先进制程流片的高成本问题，推出阶梯式付款方案，将流片费用分为设计审核、掩膜制作、晶圆生产、测试等阶段支付，缓解客户的资金压力。目前已代理 50 余款先进制程芯片流片项目，涉及 AI 芯片、高性能处理器等领域，帮助客户缩短先进制程产品的上市周期。选择中清航科RFIC流片代理，提供专属微波测试套件。金华台积电 40nm流片代理
中清航科的流片代理服务覆盖芯片全生命周期，从原型验证到量产爬坡提供无缝衔接。在原型验证阶段提供 MPW 服务，支持较小 1 片晶圆的试产；小批量量产阶段启动快速爬坡方案，通过产能阶梯式释放实现月产从 1000 片到 10 万片的平滑过渡；量产阶段则依托 VMI（供应商管理库存）模式，建立晶圆库存缓冲，缩短客户订单响应时间至 48 小时以内。针对特殊工艺芯片的流片需求，中清航科积累了丰富的特种晶圆厂资源。在 MEMS 芯片领域，与全球的 MEMS 代工厂建立联合开发机制，可提供从设计仿真到流片量产的全流程服务，已成功代理压力传感器、微镜阵列等产品的流片项目。在功率半导体领域，其覆盖 SiC、GaN 等宽禁带半导体的流片资源，能满足新能源汽车、光伏逆变器等应用的特殊工艺要求。苏州TSMC 110nm流片代理选择中清航科流片，赠送晶圆探针测试500点。
对于需要进行车规级功率器件流片的客户，中清航科提供符合 AEC-Q101 标准的流片代理服务。其与具备车规级功率器件生产资质的晶圆厂合作，熟悉 IGBT、MOSFET 等功率器件的流片工艺，能为客户提供芯片结构设计、栅极氧化层优化、终端结构设计等专业服务。在流片过程中，实施更严格的工艺控制与可靠性测试，如高温栅偏测试、短路测试、雪崩能量测试等，确保产品满足车规级要求。已成功代理多个车规级 IGBT 的流片项目，产品通过了 AEC-Q101 认证，应用于新能源汽车的主逆变器与充电桩。中清航科的流片代理服务注重数据安全，采用多层次的安全防护体系保护数据。网络层面采用防火墙、入侵检测系统、数据加密传输等技术，防止数据传输过程中的泄露与篡改；服务器层面采用虚拟化技术、访问控制、数据备份与恢复等措施，确保数据存储安全；应用层面采用身份认证、权限管理、操作日志记录等功能，防止未授权访问与操作。通过多层次防护，确保数据的安全性与完整性，已通过 ISO27001 信息安全管理体系认证。
流片代理的项目管理能力直接影响服务质量，中清航科采用 PMBOK 项目管理体系，每个流片项目配备专属项目经理、技术专员与商务专员的三人团队。通过自研的项目管理系统实时跟踪进度，设置关键节点预警机制，当某环节出现延期风险时自动触发升级流程。其项目按时交付率连续三年保持在 98% 以上，远超行业平均水平。为帮助客户降低流片风险，中清航科推出 “流片保险” 增值服务。客户可选择购买流片失败保障，当因工艺问题导致流片失败时，可获得 80% 的费用赔付，同时享受重流服务。该服务与第三方保险公司合作开发，覆盖设计错误、工艺异常等主要风险场景，自推出以来已为 30 余家客户提供风险保障，累计赔付金额超 2000 万元。中清航科流片加急通道，40天完成从GDS到首片交付。
对于需要跨工艺节点流片的客户，中清航科提供全流程技术衔接支持。例如在 5G 芯片研发中，客户常需同时进行毫米波射频前端（16nm）与基带（28nm）的流片，其技术团队会统一协调不同晶圆厂的工艺参数，确保多芯片间的接口兼容性。通过建立统一的设计规则库与验证平台，使跨节点流片的系统集成效率提升 40%，缩短产品整体研发周期。知识产权保护是芯片设计企业的中心关切，中清航科构建了严格的 IP 保护体系。与客户签订保密协议后，所有设计文件通过加密传输系统进行交互，存储服务器采用银行级加密标准，访问权限实行 “双人双锁” 管理。在与晶圆厂的合作中，明确界定 IP 归属与使用范围，通过法律手段杜绝技术泄露风险，已连续 10 年保持 IP 零泄露记录。中清航科MEMS流片代理，特殊工艺良率提升至92%。淮安流片代理市场报价
中清航科代理硅光子流片，耦合损耗优化方案降低0.8dB。金华台积电 40nm流片代理
流片后的数据分析与反馈对产品优化至关重要，中清航科为此开发了专业的流片数据分析平台。该平台可对接晶圆厂的测试数据系统，自动导入 CP 测试、FT 测试的原始数据，通过数据挖掘算法进行多维度分析，包括良率分布、参数分布、失效模式等，生成直观的可视化报告。针对低良率项目，技术团队会进行根因分析，区分设计问题与工艺问题，提供具体的优化建议，如调整光刻参数、优化版图设计等。平台还支持多批次数据对比，帮助客户跟踪良率变化趋势，识别持续改进点。某客户的射频芯片流片后良率只为 65%，中清航科通过数据分析发现是金属层刻蚀不均导致，提出优化刻蚀时间与功率的建议，二次流片良率提升至 89%。金华台积电 40nm流片代理
