针对人工智能（AI）芯片的流片需求，中清航科提供 AI 芯片专项流片服务。其技术团队熟悉 GPU、TPU、NPU 等 AI 芯片的流片工艺，能为客户提供计算单元设计、存储架构布局、互连网络优化等专业服务。通过与先进制程晶圆厂合作，引入 HBM（高带宽内存）集成、Chiplet 互连等先进技术，提升 AI 芯片的算力与能效比。已成功代理多个云端 AI 芯片与边缘 AI 芯片的流片项目，产品的算力密度达到国际先进水平。中清航科的流片代理服务展望未来，计划在以下领域持续发力：一是进一步深化与先进制程晶圆厂的合作，拓展 3nm 及以下工艺的流片代理能力；二是加强与新兴技术领域的合作，如量子计算、脑机接口等，提供前沿芯片的流片代理服务；三是推进流片服务的智能化与数字化，开发更先进的 AI 驱动流片管理平台；四是扩大全球服务网络，在更多国家与地区建立本地化服务团队。通过持续努力，致力于成为全球的流片代理服务提供商，为半导体产业的发展做出更大贡献。中清航科失效分析实验室，72小时定位流片失效根因。TSMC 110nm流片代理市场报价
对于需要进行车规级功率器件流片的客户，中清航科提供符合 AEC-Q101 标准的流片代理服务。其与具备车规级功率器件生产资质的晶圆厂合作，熟悉 IGBT、MOSFET 等功率器件的流片工艺，能为客户提供芯片结构设计、栅极氧化层优化、终端结构设计等专业服务。在流片过程中，实施更严格的工艺控制与可靠性测试，如高温栅偏测试、短路测试、雪崩能量测试等，确保产品满足车规级要求。已成功代理多个车规级 IGBT 的流片项目，产品通过了 AEC-Q101 认证，应用于新能源汽车的主逆变器与充电桩。中清航科的流片代理服务注重数据安全，采用多层次的安全防护体系保护数据。网络层面采用防火墙、入侵检测系统、数据加密传输等技术，防止数据传输过程中的泄露与篡改；服务器层面采用虚拟化技术、访问控制、数据备份与恢复等措施，确保数据存储安全；应用层面采用身份认证、权限管理、操作日志记录等功能，防止未授权访问与操作。通过多层次防护，确保数据的安全性与完整性，已通过 ISO27001 信息安全管理体系认证。TSMC 65nm流片代理市场价中清航科建立晶圆厂突发断供72小时替代方案库。
绿色流片是半导体产业的发展趋势，中清航科积极推动流片过程的环保优化，构建绿色流片代理服务体系。在晶圆厂选择上，优先与通过 ISO14001 认证的企业合作，这些晶圆厂在废水处理、废气排放等方面达到严格的环保标准。在流片方案设计中，推荐采用低能耗工艺，如减少高温工艺步骤、优化光刻次数等，帮助客户降低流片过程的碳排放。针对测试环节产生的废晶圆，中清航科与专业回收企业合作，进行材料回收再利用，晶圆回收率达到 90% 以上。定期为客户提供流片碳足迹报告，分析各环节的碳排放情况，并提出优化建议，助力客户实现碳中和目标。某汽车芯片客户通过中清航科的绿色流片方案，流片过程的碳排放降低了 25%，满足了整车厂的环保要求。
中清航科注重为客户提供持续的技术支持，即使流片完成后仍保留 1 年的技术服务期。客户在芯片测试或应用过程中遇到与流片相关的问题，技术团队会提供分析支持，如协助排查工艺导致的性能偏差、提供二次流片的优化建议等。去年某 AI 芯片客户量产时出现良率波动，其技术团队通过回溯流片数据，3 天内找到光刻参数偏差原因，帮助客户恢复正常生产。在流片成本透明化方面，中清航科实行 “阳光报价” 机制，所有费用明细清晰可查，包含晶圆代工费、掩膜版费、测试费等，无隐藏收费项目。客户可通过在线报价系统实时获取不同工艺节点、不同晶圆厂的参考报价，系统会根据客户需求自动生成成本构成分析。其定期发布的《流片成本白皮书》，还为行业提供客观的价格趋势参考。中清航科量产转流片服务，首万片晶圆缺陷率＜200DPW。
流片过程中的质量管控是中清航科的主要优势之一，其建立了覆盖设计、生产、测试的全流程质量管理体系。在设计阶段，引入第三方 DFM 工具进行单独审核，确保设计方案符合晶圆厂工艺要求；生产阶段，派驻驻厂工程师实时监督关键工艺，每 2 小时记录一次工艺参数，形成完整的参数追溯档案；测试阶段，除晶圆厂常规测试外，中清航科额外增加一层测试验证，包括 CP 测试、EL 测试等，确保不良品不流入下道工序。为保障质量数据的可靠性，采用区块链技术存储关键质量数据，实现数据不可篡改与全程可追溯。通过这套质量管理体系，中清航科代理的流片项目一次通过率达到 97%，较行业平均水平高出 12 个百分点，客户的质量投诉率控制在 0.3% 以下。中清航科专业团队追责晶圆厂，年挽回损失超$300万。杭州台积电 180nm流片代理
中清航科提供DFM审核，平均规避7类可制造性缺陷。TSMC 110nm流片代理市场报价
流片后的数据分析与反馈对产品优化至关重要，中清航科为此开发了专业的流片数据分析平台。该平台可对接晶圆厂的测试数据系统，自动导入 CP 测试、FT 测试的原始数据，通过数据挖掘算法进行多维度分析，包括良率分布、参数分布、失效模式等，生成直观的可视化报告。针对低良率项目，技术团队会进行根因分析，区分设计问题与工艺问题，提供具体的优化建议，如调整光刻参数、优化版图设计等。平台还支持多批次数据对比，帮助客户跟踪良率变化趋势，识别持续改进点。某客户的射频芯片流片后良率只为 65%，中清航科通过数据分析发现是金属层刻蚀不均导致，提出优化刻蚀时间与功率的建议，二次流片良率提升至 89%。TSMC 110nm流片代理市场报价
