知识产权保护是流片代理服务的重中之重，中清航科建立了多方位的 IP 保护体系。在合作初期，与客户签订严格的保密协议，明确保密范围与期限，中心技术资料的保密期限长达 10 年。流片过程中，所有设计文件采用加密传输，存储服务器部署在物理隔离的私有云，访问权限实行 “双人双锁” 管理，只授权人员可查看。与晶圆厂签订补充保密协议，禁止晶圆厂将客户的设计信息用于其他目的，同时限制晶圆厂内部的信息访问范围。为防止信息泄露，中清航科的员工需签署竞业协议与保密承诺书，定期进行保密培训。通过这套体系，已实现连续 15 年知识产权零泄露记录，成为众多设计企业信赖的流片代理合作伙伴。中清航科协助180nm转55nm工艺，保留模拟特性偏差<3%。连云港台积电 28nm流片代理
流片与封装测试的衔接效率直接影响产品上市周期，中清航科推出 “流片 + 封测” 一站式代理服务，实现从晶圆生产到成品交付的无缝衔接。其整合长电科技、通富微电、日月光等前列封测厂资源，根据客户的芯片类型与应用场景，推荐比较好的封装方案，包括 DIP、SOP、QFP、BGA、SiP 等。在流程衔接上，建立标准化的交接机制，流片完成的晶圆无需客户经手，直接由晶圆厂转运至合作封测厂，同时共享测试数据与质量报告，省去客户中间协调环节，将封测周期缩短 7 - 10 天。针对先进封装需求，如 CoWoS、InFO 等，中清航科可协调晶圆厂与封测厂进行联合工艺开发，确保流片参数与封装工艺的兼容性，已成功代理多个 Chiplet 产品的 “流片 + 先进封装” 项目，良率达到 92% 以上。杭州TSMC MPW流片代理中清航科提供IP复用流片方案，掩膜成本再降25%。
流片代理服务的灵活性体现在对客户特殊需求的快速响应上，中清航科为此建立了特殊需求快速响应机制。针对客户的定制化要求，如特殊晶圆尺寸、非常规测试项目、紧急交货等，成立专项服务小组，24 小时内给出可行性方案与报价。在晶圆标记环节，支持客户的定制化标记需求，包括公司 LOGO、产品型号、批次信息等，标记精度达到 ±5μm。针对需要特殊包装的客户，提供防静电、防潮、防震等定制化包装方案，满足航空运输、长期存储等特殊要求。去年处理了超过 300 项特殊需求，包括为某航天客户代理抗辐射芯片的流片，满足其在极端环境下的测试要求，客户满意度达到 98%。
中清航科建立了完善的流片代理服务知识库，积累了超过 10 万条流片工艺数据、问题解决方案与最佳实践案例。该知识库通过自然语言处理技术实现智能检索，客户与内部员工可快速找到相关信息，如特定工艺节点的常见问题、相似产品的流片方案等。知识库每月更新，纳入较新的流片技术与行业动态，确保服务团队掌握前沿知识，为客户提供专业支持，该知识库已成为内部培训与客户服务的重要支撑。对于需要通过汽车供应链认证的客户，中清航科提供全程认证支持服务。协助客户准备 IATF16949 认证所需的流片相关文件，包括工艺流程图、FMEA 分析报告、控制计划等；指导客户进行流片过程的过程能力分析（CPK），确保关键参数的 CPK 值达到 1.67 以上；在审核过程中，安排技术配合审核员的提问与验证，帮助客户顺利通过认证。去年帮助 25 家客户完成汽车供应链认证，平均认证周期缩短 30%。中清航科处理晶圆厂异常报告，技术争议解决成功率100%。
流片代理服务中的专利布局支持是中清航科的特色服务之一。其知识产权团队会在流片前对客户的设计方案进行专利检索与分析，识别潜在的专利侵权风险，并提供规避设计建议；流片完成后，协助客户整理流片过程中的技术创新点，提供专利申请策略建议。通过该服务，客户的专利申请通过率提升 35%，专利侵权风险降低 60%，某 AI 芯片客户在其帮助下，成功申请了 15 项流片相关的发明专利。针对较低功耗芯片的流片需求，中清航科开发了专项工艺优化方案。通过与晶圆厂合作调整掺杂浓度、优化栅氧厚度等工艺参数，帮助客户降低芯片的静态功耗与动态功耗。引入较低功耗测试系统，能精确测量芯片在不同工作模式下的功耗特性，电流测量精度达到 10pA。已成功代理多个物联网较低功耗芯片的流片项目，使产品的待机电流降低至 100nA 以下，续航能力提升 50%。中清航科NTO服务，新工艺节点首跑成功率98.2%。杭州TSMC MPW流片代理
中清航科流片加急通道，40天完成从GDS到首片交付。连云港台积电 28nm流片代理
流片后的数据分析与反馈对产品优化至关重要，中清航科为此开发了专业的流片数据分析平台。该平台可对接晶圆厂的测试数据系统，自动导入 CP 测试、FT 测试的原始数据，通过数据挖掘算法进行多维度分析，包括良率分布、参数分布、失效模式等，生成直观的可视化报告。针对低良率项目，技术团队会进行根因分析，区分设计问题与工艺问题，提供具体的优化建议，如调整光刻参数、优化版图设计等。平台还支持多批次数据对比，帮助客户跟踪良率变化趋势，识别持续改进点。某客户的射频芯片流片后良率只为 65%，中清航科通过数据分析发现是金属层刻蚀不均导致，提出优化刻蚀时间与功率的建议，二次流片良率提升至 89%。连云港台积电 28nm流片代理
