针对人工智能（AI）芯片的流片需求，中清航科提供 AI 芯片专项流片服务。其技术团队熟悉 GPU、TPU、NPU 等 AI 芯片的流片工艺，能为客户提供计算单元设计、存储架构布局、互连网络优化等专业服务。通过与先进制程晶圆厂合作，引入 HBM（高带宽内存）集成、Chiplet 互连等先进技术，提升 AI 芯片的算力与能效比。已成功代理多个云端 AI 芯片与边缘 AI 芯片的流片项目，产品的算力密度达到国际先进水平。中清航科的流片代理服务展望未来，计划在以下领域持续发力：一是进一步深化与先进制程晶圆厂的合作，拓展 3nm 及以下工艺的流片代理能力；二是加强与新兴技术领域的合作，如量子计算、脑机接口等，提供前沿芯片的流片代理服务；三是推进流片服务的智能化与数字化，开发更先进的 AI 驱动流片管理平台；四是扩大全球服务网络，在更多国家与地区建立本地化服务团队。通过持续努力，致力于成为全球的流片代理服务提供商，为半导体产业的发展做出更大贡献。中清航科专项团队代办流片补贴申请，获批率提升40%。丽水流片代理供应商家
流片代理服务的灵活性体现在对客户特殊需求的快速响应上，中清航科为此建立了特殊需求快速响应机制。针对客户的定制化要求，如特殊晶圆尺寸、非常规测试项目、紧急交货等，成立专项服务小组，24 小时内给出可行性方案与报价。在晶圆标记环节，支持客户的定制化标记需求，包括公司 LOGO、产品型号、批次信息等，标记精度达到 ±5μm。针对需要特殊包装的客户，提供防静电、防潮、防震等定制化包装方案，满足航空运输、长期存储等特殊要求。去年处理了超过 300 项特殊需求，包括为某航天客户代理抗辐射芯片的流片，满足其在极端环境下的测试要求，客户满意度达到 98%。江苏流片代理价格中清航科流片加急通道，40天完成从GDS到首片交付。
中清航科注重为客户提供持续的技术支持，即使流片完成后仍保留 1 年的技术服务期。客户在芯片测试或应用过程中遇到与流片相关的问题，技术团队会提供分析支持，如协助排查工艺导致的性能偏差、提供二次流片的优化建议等。去年某 AI 芯片客户量产时出现良率波动，其技术团队通过回溯流片数据，3 天内找到光刻参数偏差原因，帮助客户恢复正常生产。在流片成本透明化方面，中清航科实行 “阳光报价” 机制，所有费用明细清晰可查，包含晶圆代工费、掩膜版费、测试费等，无隐藏收费项目。客户可通过在线报价系统实时获取不同工艺节点、不同晶圆厂的参考报价，系统会根据客户需求自动生成成本构成分析。其定期发布的《流片成本白皮书》，还为行业提供客观的价格趋势参考。
在半导体产业快速发展的当下，其流片代理服务成为连接设计企业与晶圆厂的重要纽带，而中清航科凭借深厚的行业积累，构建起覆盖全工艺节点的流片代理体系。其与全球前 20 晶圆代工厂均建立战略合作伙伴关系，包括台积电、三星电子、中芯国际等，能为客户提供从 180nm 到 3nm 的全流程流片服务。针对不同规模的设计公司，中清航科推出差异化服务方案：为大型企业提供专属产能保障，签订长期产能锁定协议，确保旺季产能不中断；为中小型企业提供灵活的产能调配服务，支持较小 1 片晶圆的试产需求。通过专业的产能规划团队，提前 6 个月为客户预判产能波动，去年成功帮助 30 余家客户规避了 28nm 工艺的产能紧张危机，保障了研发项目的顺利推进。中清航科车规流片包，含HTOL/UBM等全套认证测试。
成本控制是流片代理服务的核心竞争力之一，中清航科通过规模效应与技术优化实现成本精确管控。其整合行业内 800 余家设计公司的流片需求，形成规模化采购优势，单批次流片成本较企业单独采购降低 18% - 25%。在掩膜版制作环节，中清航科与全球掩膜厂合作开发共享掩膜方案，将中小客户的掩膜成本分摊降低 60% 以上。对于试产阶段的小批量流片，推出多项目晶圆（MPW）拼片服务，支持同一晶圆上集成 20 - 50 个不同设计方案，使客户的首轮流片成本控制在 10 万元以内。此外，其成本核算团队会为每个项目提供详细的成本分析报告，明确各项费用构成，并给出成本优化建议，帮助客户在保证质量的前提下实现效益较大化。中清航科流片含AEC-Q104认证辅导，周期缩短至8周。湖州SMIC MPW流片代理
中清航科提供工艺角监控流片，覆盖SS/TT/FF等9种组合。丽水流片代理供应商家
流片成本控制是设计企业关注的中心问题，中清航科通过规模采购与工艺优化实现成本优化。其整合行业内 500 余家设计公司的流片需求，形成规模化采购优势，单批次流片费用较企业单独采购降低 15-20%。同时通过多项目晶圆（MPW）拼片服务，将小批量试产成本分摊至多个客户，使初创企业的首轮流片成本降低 60%，加速产品从设计到量产的转化。流片过程中的工艺参数优化直接影响芯片性能，中清航科组建了由 20 位工艺工程师组成的技术团队，平均拥有 15 年以上晶圆厂工作经验。在流片前会对客户的 GDSII 文件进行多方面审查，重点优化光刻对准精度、蚀刻深度均匀性等关键参数，确保芯片电性能参数偏差控制在设计值的 ±5% 以内。针对射频芯片等特殊品类，还可提供定制化的工艺参数库，保障高频性能达标。丽水流片代理供应商家
