中清航科的流片代理服务实现了全渠道服务支持，客户可通过电话、邮件、在线客服、移动端 APP 等多种渠道获取服务。其客户服务团队实行 7×24 小时值班制度，确保客户的问题能得到及时响应，普通问题 1 小时内给出解决方案，复杂问题 4 小时内成立专项小组处理。通过客户满意度调查，不断优化服务流程与服务质量，客户满意度持续保持在 95% 以上，重复合作率达到 80%。对于需要进行低轨卫星芯片流片的客户，中清航科提供抗辐射流片代理服务。其与具备抗辐射工艺能力的晶圆厂合作，熟悉总剂量辐射、单粒子效应等空间环境对芯片的影响，能为客户提供抗辐射加固设计建议、工艺参数选择等专业服务。在流片过程中，实施特殊的工艺控制，如增加氧化层厚度、采用特殊的掺杂工艺等，提高芯片的抗辐射能力。已成功代理多个低轨卫星通信芯片的流片项目，产品通过了严格的辐射测试，满足卫星在轨运行 10 年以上的要求。中清航科处理流片争议，专业团队追偿晶圆厂责任损失。湖州台积电 65nm流片代理
流片周期的长短直接影响产品的市场竞争力，中清航科通过流程优化与资源调度，打造出行业的快速流片能力。针对成熟制程，建立 “绿色通道” 服务，将传统 10 - 12 周的流片周期缩短至 6 - 8 周，其中掩膜版制作环节通过与掩膜厂的联合加急，实现 72 小时快速交付。在晶圆生产阶段，利用多晶圆厂资源池，根据客户需求灵活调配产能，当主供晶圆厂产能紧张时，48 小时内可切换至备用晶圆厂，确保流片计划不受影响。为让客户实时掌握进度，开发了流片进度可视化平台，通过甘特图直观展示各环节进度，关键节点完成后自动推送通知，同时支持客户在线查询晶圆测试数据与良率报告。去年某客户的 5G 芯片因市场需求紧急，中清航科启动加急流片服务，将原本 8 周的周期压缩至 5 周，帮助客户提前抢占市场。湖州台积电 65nm流片代理中清航科提供流片后快速封样，3天交付工程样品。
中清航科的流片代理服务注重行业合作，与产业链上下游企业建立了合作关系。与 EDA 工具厂商合作，为客户提供流片前的设计验证支持；与测试设备厂商合作，引入较新的测试技术与设备；与高校科研机构合作，共同研究前沿流片技术。通过行业合作，整合各方资源，为客户提供更多方面、更质优的服务，例如与某 EDA 厂商联合开发的流片设计规则检查工具，能提前发现 90% 的设计与工艺不兼容问题。针对微处理器（MCU）芯片的流片需求，中清航科提供 MCU 专项流片服务。其技术团队熟悉 8 位、16 位、32 位 MCU 的流片工艺，能为客户提供内核设计、外设接口布局、低功耗优化等专业服务。通过与 MCU 专业晶圆厂合作，共同解决 MCU 的时钟精度、中断响应速度、外设兼容性等关键问题，使 MCU 的性能提升 15%，功耗降低 20%。已成功代理多个工业控制 MCU 的流片项目，产品的可靠性与稳定性得到客户的高度认可。
在流片文件的标准化处理方面，中清航科拥有成熟的转换体系。不同晶圆厂对 GDSII、OASIS 等文件格式的要求存在差异，其自主开发的文件转换工具可实现一键适配，自动检测并修正图层、尺寸偏差等问题。针对先进制程中的 OPC（光学邻近校正）要求，技术团队会进行专项优化，确保掩膜版制作的准确性，减少因文件格式问题导致的流片延误。中清航科的流片代理服务具备全球化布局优势，在北美、欧洲、亚洲设立三大区域中心，可就近响应客户需求。对于海外设计公司需要国内晶圆厂流片的场景，其能提供跨境物流、关税减免等配套服务，通过与海关的 AEO 认证合作，将晶圆进出口清关时间缩短至 24 小时。同时支持多币种结算与本地化服务，消除跨国流片的沟通障碍。中清航科跨境流片代理，处理全部进出口许可文件。
先进制程流片面临技术门槛高、产能紧张等问题，中清航科凭借与先进晶圆厂的深度合作，构建起独特的先进制程流片代理能力。针对 7nm 及以下工艺，组建由前晶圆厂工程师组成的技术团队，能为客户提供从设计规则解读、DFM 分析到工艺参数优化的全流程支持。在 EUV 光刻环节，中清航科的技术人员可协助客户优化光刻胶选择与曝光参数，使 EUV 层的良率提升 10% 以上。为应对先进制程流片的高成本问题，推出阶梯式付款方案，将流片费用分为设计审核、掩膜制作、晶圆生产、测试等阶段支付，缓解客户的资金压力。目前已代理 50 余款先进制程芯片流片项目，涉及 AI 芯片、高性能处理器等领域，帮助客户缩短先进制程产品的上市周期。中清航科封装测试联动服务，流片到封装周期缩短至15天。绍兴中芯国际 40nm流片代理
流片付款灵活方案中清航科设计，支持分期及汇率锁定。湖州台积电 65nm流片代理
流片后的数据分析与反馈对产品优化至关重要，中清航科为此开发了专业的流片数据分析平台。该平台可对接晶圆厂的测试数据系统，自动导入 CP 测试、FT 测试的原始数据，通过数据挖掘算法进行多维度分析，包括良率分布、参数分布、失效模式等，生成直观的可视化报告。针对低良率项目，技术团队会进行根因分析，区分设计问题与工艺问题，提供具体的优化建议，如调整光刻参数、优化版图设计等。平台还支持多批次数据对比，帮助客户跟踪良率变化趋势，识别持续改进点。某客户的射频芯片流片后良率只为 65%，中清航科通过数据分析发现是金属层刻蚀不均导致，提出优化刻蚀时间与功率的建议，二次流片良率提升至 89%。湖州台积电 65nm流片代理
