流片成本的透明化与可控性是客户关注的重点，中清航科实行 “阳光定价” 机制，让流片成本清晰可见。在项目启动阶段，提供详细的报价清单，明确列出晶圆代工费、掩膜版费、测试费、运输费等各项费用，无任何隐藏收费。为帮助客户预估成本，开发了在线流片成本计算器，客户输入工艺节点、晶圆尺寸、数量等参数，即可获得初步成本估算，误差范围控制在 5% 以内。流片过程中，如因工艺调整或额外测试产生费用，会提前与客户沟通确认，获得同意后再执行。项目完成后，提供详细的成本核算报告，对比实际费用与初始报价的差异，并解释差异原因。此外，定期发布《流片成本趋势报告》，分析不同工艺节点的成本变化趋势，为客户的产品规划提供参考，这种透明化的成本管理方式赢得了客户的认可。中清航科流片含AEC-Q104认证辅导，周期缩短至8周。苏州TSMC MPW流片代理
在流片项目的风险管理方面，中清航科建立了全流程风险识别与应对机制。项目启动前进行风险评估，识别设计兼容性、产能波动、工艺稳定性等潜在风险，并制定相应的应对预案；流片过程中设置风险预警指标，如参数偏差超过阈值、进度延迟超 3 天等，触发预警后立即启动应对措施。针对不可抗力导致的流片中断，提供流片保险对接服务，比较高可获得 80% 的损失赔付，去年成功为 12 家客户化解流片风险，减少损失超 500 万元。中清航科的流片代理服务注重与客户的长期合作，推出客户忠诚度计划。根据客户的年度流片金额与合作年限，提供阶梯式优惠，年度流片超 1000 万元的客户可享受额外 5% 的费用折扣；合作满 3 年的客户自动升级为 VIP 客户，享受专属产能保障、技术团队优先响应等特权。同时建立客户成功案例库，定期分享合作客户的流片成果与经验，增强客户粘性，目前合作超过 5 年的客户占比达到 65%。泰州中芯国际 180流片代理中清航科小批量流片专线，支持100片起订。
知识产权保护是流片代理服务的重中之重，中清航科建立了多方位的 IP 保护体系。在合作初期，与客户签订严格的保密协议，明确保密范围与期限，中心技术资料的保密期限长达 10 年。流片过程中，所有设计文件采用加密传输，存储服务器部署在物理隔离的私有云，访问权限实行 “双人双锁” 管理，只授权人员可查看。与晶圆厂签订补充保密协议，禁止晶圆厂将客户的设计信息用于其他目的，同时限制晶圆厂内部的信息访问范围。为防止信息泄露，中清航科的员工需签署竞业协议与保密承诺书，定期进行保密培训。通过这套体系，已实现连续 15 年知识产权零泄露记录，成为众多设计企业信赖的流片代理合作伙伴。
中清航科的流片代理服务覆盖芯片全生命周期，从原型验证到量产爬坡提供无缝衔接。在原型验证阶段提供 MPW 服务，支持较小 1 片晶圆的试产；小批量量产阶段启动快速爬坡方案，通过产能阶梯式释放实现月产从 1000 片到 10 万片的平滑过渡；量产阶段则依托 VMI（供应商管理库存）模式，建立晶圆库存缓冲，缩短客户订单响应时间至 48 小时以内。针对特殊工艺芯片的流片需求，中清航科积累了丰富的特种晶圆厂资源。在 MEMS 芯片领域，与全球的 MEMS 代工厂建立联合开发机制，可提供从设计仿真到流片量产的全流程服务，已成功代理压力传感器、微镜阵列等产品的流片项目。在功率半导体领域，其覆盖 SiC、GaN 等宽禁带半导体的流片资源，能满足新能源汽车、光伏逆变器等应用的特殊工艺要求。通过中清航科MPW服务，中小客户芯片试制成本降低70%以上。
绿色流片是半导体产业的发展趋势，中清航科积极推动流片过程的环保优化，构建绿色流片代理服务体系。在晶圆厂选择上，优先与通过 ISO14001 认证的企业合作，这些晶圆厂在废水处理、废气排放等方面达到严格的环保标准。在流片方案设计中，推荐采用低能耗工艺，如减少高温工艺步骤、优化光刻次数等，帮助客户降低流片过程的碳排放。针对测试环节产生的废晶圆，中清航科与专业回收企业合作，进行材料回收再利用，晶圆回收率达到 90% 以上。定期为客户提供流片碳足迹报告，分析各环节的碳排放情况，并提出优化建议，助力客户实现碳中和目标。某汽车芯片客户通过中清航科的绿色流片方案，流片过程的碳排放降低了 25%，满足了整车厂的环保要求。中清航科建立晶圆厂突发断供72小时替代方案库。杭州中芯国际 65nm流片代理
中清航科确保全流程符合RoHS/REACH法规，规避出口风险。苏州TSMC MPW流片代理
流片代理服务中的专利布局支持是中清航科的特色服务之一。其知识产权团队会在流片前对客户的设计方案进行专利检索与分析，识别潜在的专利侵权风险，并提供规避设计建议；流片完成后，协助客户整理流片过程中的技术创新点，提供专利申请策略建议。通过该服务，客户的专利申请通过率提升 35%，专利侵权风险降低 60%，某 AI 芯片客户在其帮助下，成功申请了 15 项流片相关的发明专利。针对较低功耗芯片的流片需求，中清航科开发了专项工艺优化方案。通过与晶圆厂合作调整掺杂浓度、优化栅氧厚度等工艺参数，帮助客户降低芯片的静态功耗与动态功耗。引入较低功耗测试系统，能精确测量芯片在不同工作模式下的功耗特性，电流测量精度达到 10pA。已成功代理多个物联网较低功耗芯片的流片项目，使产品的待机电流降低至 100nA 以下，续航能力提升 50%。苏州TSMC MPW流片代理
