对于需要多工艺节点流片的客户，中清航科构建了跨节点协同服务体系。其技术团队熟悉不同工艺节点的特性差异，能为客户提供从低阶到高阶制程的平滑过渡方案，例如在同一产品系列中，帮助客户实现从180nm到28nm的逐步升级。通过建立统一的设计数据库，使不同节点的流片参数保持连贯性，减少重复验证工作，将跨节点流片的工艺适配周期缩短40%。某物联网芯片客户通过该服务，在12个月内完成了三代产品的工艺升级，市场响应速度明显提升。中清航科提供IP复用流片方案，掩膜成本再降25%。台积电 110nm流片
面对芯片设计企业的快速迭代需求，中清航科建立了灵活的流片调整机制。客户在流片启动后如需修改设计参数，可在晶圆厂投片前48小时提出变更申请，技术团队会快速评估变更影响并给出可行性方案。对于紧急变更需求，可启动加急处理流程，确保变更指令及时传达至晶圆厂，去年成功处理120余次设计变更，平均响应时间只6小时。流片后的封装测试衔接是缩短产品上市周期的关键，中清航科整合了长电科技、通富微电等封测厂资源，提供“流片+封测”一站式服务。通过建立标准化的交接流程，流片完成的晶圆可直接转运至合作封测厂，省去客户中间协调环节，将封测周期缩短5-7天。其开发的智慧物流系统可实时追踪晶圆运输状态，确保产品安全可控。台积电 110nm流片中清航科量产转流片服务，首万片晶圆缺陷率＜200DPW。
中清航科的流片代理服务实现了全渠道服务支持，客户可通过电话、邮件、在线客服、移动端APP等多种渠道获取服务。其客户服务团队实行7×24小时值班制度，确保客户的问题能得到及时响应，普通问题1小时内给出解决方案，复杂问题4小时内成立专项小组处理。通过客户满意度调查，不断优化服务流程与服务质量，客户满意度持续保持在95%以上，重复合作率达到80%。对于需要进行低轨卫星芯片流片的客户，中清航科提供抗辐射流片代理服务。其与具备抗辐射工艺能力的晶圆厂合作，熟悉总剂量辐射、单粒子效应等空间环境对芯片的影响，能为客户提供抗辐射加固设计建议、工艺参数选择等专业服务。在流片过程中，实施特殊的工艺控制，如增加氧化层厚度、采用特殊的掺杂工艺等，提高芯片的抗辐射能力。已成功代理多个低轨卫星通信芯片的流片项目，产品通过了严格的辐射测试，满足卫星在轨运行10年以上的要求。
WLCSP（WaferLevelChipScalePackaging）即晶圆级芯片封装方式，不同于传统的芯片封装方式（先切割再封测，而封装后至少增加原芯片20%的体积），此种技术是先在整片晶圆上进行封装和测试，然后才切割成一个个的IC颗粒，因此封装后的体积即等同IC裸晶的原尺寸。WLCSP的封装方式，不仅明显地缩小内存模块尺寸，而符合行动装置对于机体空间的高密度需求；另一方面在效能的表现上，更提升了数据传输的速度与稳定性。WLCSP的特性优点－原芯片尺寸小封装方式：WLCSP晶圆级芯片封装方式的比较大特点便是有效地缩减封装体积，故可搭配于行动装置上而符合可携式产品轻薄短小的特性需求。－数据传输路径短、稳定性高：采用WLCSP封装时，由于电路布线的线路短且厚（标示A至B的黄线），故可有效增加数据传输的频寛减少电流耗损，也提升数据传输的稳定性。中清航科BCD工艺流片代理，实现模拟/数字/功率三域集成。
流片代理服务中的专利布局支持是中清航科的特色服务之一。其知识产权团队会在流片前对客户的设计方案进行专利检索与分析，识别潜在的专利侵权风险，并提供规避设计建议；流片完成后，协助客户整理流片过程中的技术创新点，提供专利申请策略建议。通过该服务，客户的专利申请通过率提升35%，专利侵权风险降低60%，某AI芯片客户在其帮助下，成功申请了15项流片相关的发明专利。针对较低功耗芯片的流片需求，中清航科开发了专项工艺优化方案。通过与晶圆厂合作调整掺杂浓度、优化栅氧厚度等工艺参数，帮助客户降低芯片的静态功耗与动态功耗。引入较低功耗测试系统，能精确测量芯片在不同工作模式下的功耗特性，电流测量精度达到10pA。已成功代理多个物联网较低功耗芯片的流片项目，使产品的待机电流降低至100nA以下，续航能力提升50%。中清航科代理硅光子流片，耦合损耗优化方案降低0.8dB。徐州流片代理服务电话
中清航科静电防护方案，流片过程ESD损伤率降至0.01%。台积电 110nm流片
全球晶圆产能紧张的背景下，其流片周期的稳定性至关重要。中清航科建立了多晶圆厂备份机制，为每个工艺节点匹配2-3家备选晶圆厂，当主供厂商出现产能波动时，可在48小时内启动切换流程，确保流片计划不受影响。去年某车规芯片客户遭遇主晶圆厂火灾事故，中清航科只用3天就完成产能转移，将交付延期控制在1周内，较大限度降低客户损失。流片后的测试与分析是验证设计有效性的关键环节，中清航科配备了完整的芯片测试实验室，拥有ATE测试系统、探针台等先进设备，可提供CP（晶圆级测试）与FT（成品测试）服务。测试数据通过自主开发的分析平台进行失效模式分类，生成详细的良率分析报告，帮助客户精确定位设计缺陷。其与第三方失效分析实验室的合作网络，还可提供切片分析、SEM成像等深度分析服务。台积电 110nm流片
