中清航科的流片代理服务注重客户教育，定期发布《流片技术白皮书》《半导体产业趋势报告》等专业资料。这些资料由行业编写，内容涵盖较新的流片技术、市场趋势、应用案例等，提供给客户与行业人士参考。同时举办线上研讨会与线下论坛，邀请行业大咖分享见解，为客户提供学习与交流的平台。去年发布专业资料20余份，举办活动50余场，累计参与人数超过10万人次，成为行业内重要的知识传播者。针对传感器芯片的流片需求，中清航科与传感器专业晶圆厂建立深度合作。其技术团队熟悉MEMS传感器、图像传感器、生物传感器等不同类型传感器的流片工艺，能为客户提供敏感元件设计、封装接口优化、测试方案设计等专业服务。通过引入专业的传感器测试设备，对流片后的传感器进行性能测试，如灵敏度、线性度、温漂等参数，测试精度达到行业水平。已成功代理多个工业传感器芯片的流片项目，产品的测量精度与稳定性均达到国际先进水平。中清航科提供流片后快速封样，3天交付工程样品。TSMC 12nm流片
中清航科的流片代理服务注重可持续发展，在服务过程中推行绿色运营理念。鼓励客户采用可重复使用的晶圆包装盒，减少一次性包装材料的使用；与晶圆厂合作优化生产工艺，减少流片过程中的能源消耗与废水排放；在内部推行无纸化办公，每年减少纸张使用量10吨以上。通过这些措施，帮助客户降低流片过程的环境影响，同时获得绿色制造认证提供支持，已有30余家客户通过该服务满足了ESG报告的相关要求。对于需要进行小批量试产到大规模量产转换的客户，中清航科提供平滑过渡服务。其产能规划团队会根据客户的市场需求预测，制定阶梯式量产计划，从每月100片到每月10万片的产能提升过程中，确保工艺参数的稳定性与产品质量的一致性。通过与晶圆厂签订弹性产能协议，实现产能的快速调整，满足客户的市场需求波动，某消费电子芯片客户通过该服务，在3个月内完成了从试产到月产50万片的产能爬坡。TSMC 12nm流片流片物流追踪中清航科系统，全球主要机场48小时通关。
成本控制是流片代理服务的核心竞争力之一，中清航科通过规模效应与技术优化实现成本精确管控。其整合行业内800余家设计公司的流片需求，形成规模化采购优势，单批次流片成本较企业单独采购降低18%-25%。在掩膜版制作环节，中清航科与全球掩膜厂合作开发共享掩膜方案，将中小客户的掩膜成本分摊降低60%以上。对于试产阶段的小批量流片，推出多项目晶圆（MPW）拼片服务，支持同一晶圆上集成20-50个不同设计方案，使客户的首轮流片成本控制在10万元以内。此外，其成本核算团队会为每个项目提供详细的成本分析报告，明确各项费用构成，并给出成本优化建议，帮助客户在保证质量的前提下实现效益较大化。
流片过程中的掩膜版管理是保证流片质量的关键，中清航科推出专业的掩膜版全生命周期管理服务。从掩膜版设计审核、制作跟踪到存储管理、复用规划，提供一站式解决方案。其建立了恒温恒湿的掩膜版存储仓库，配备先进的掩膜版检测设备，定期对掩膜版进行质量检查与维护，确保掩膜版的使用寿命延长30%。通过掩膜版复用管理系统，合理规划掩膜版的使用次数与范围，使客户的掩膜版成本降低25%。针对模拟芯片流片的特殊要求，中清航科组建了模拟电路团队。该团队熟悉高精度运放、电源管理芯片等模拟器件的流片工艺，能为客户提供器件模型优化、版图布局建议、工艺参数选择等专业服务。通过与晶圆厂的模拟工艺合作，共同解决模拟芯片的匹配性、温度漂移等关键问题，使模拟芯片的性能参数一致性提升20%，某客户的高精度ADC芯片通过该服务，流片后的线性误差降低至0.5LSB。中清航科量产转流片服务，首万片晶圆缺陷率＜200DPW。
流片周期的长短直接影响产品的市场竞争力，中清航科通过流程优化与资源调度，打造出行业的快速流片能力。针对成熟制程，建立“绿色通道”服务，将传统10-12周的流片周期缩短至6-8周，其中掩膜版制作环节通过与掩膜厂的联合加急，实现72小时快速交付。在晶圆生产阶段，利用多晶圆厂资源池，根据客户需求灵活调配产能，当主供晶圆厂产能紧张时，48小时内可切换至备用晶圆厂，确保流片计划不受影响。为让客户实时掌握进度，开发了流片进度可视化平台，通过甘特图直观展示各环节进度，关键节点完成后自动推送通知，同时支持客户在线查询晶圆测试数据与良率报告。去年某客户的5G芯片因市场需求紧急，中清航科启动加急流片服务，将原本8周的周期压缩至5周，帮助客户提前抢占市场。中清航科多项目晶圆服务，支持5家设计公司共享光罩。TSMC 12nm流片
中清航科提供DFM审核，平均规避7类可制造性缺陷。TSMC 12nm流片
流片成本控制是设计企业关注的中心问题，中清航科通过规模采购与工艺优化实现成本优化。其整合行业内500余家设计公司的流片需求，形成规模化采购优势，单批次流片费用较企业单独采购降低15-20%。同时通过多项目晶圆（MPW）拼片服务，将小批量试产成本分摊至多个客户，使初创企业的首轮流片成本降低60%，加速产品从设计到量产的转化。流片过程中的工艺参数优化直接影响芯片性能，中清航科组建了由20位工艺工程师组成的技术团队，平均拥有15年以上晶圆厂工作经验。在流片前会对客户的GDSII文件进行多方面审查，重点优化光刻对准精度、蚀刻深度均匀性等关键参数，确保芯片电性能参数偏差控制在设计值的±5%以内。针对射频芯片等特殊品类，还可提供定制化的工艺参数库，保障高频性能达标。TSMC 12nm流片
