特殊工艺芯片的流片需要匹配专业的晶圆厂资源，中清航科凭借多年积累，构建起覆盖特殊工艺的流片代理网络。在MEMS芯片领域，与全球MEMS晶圆厂合作，可提供从晶圆键合、深硅刻蚀到释放工艺的全流程流片服务，支持压力传感器、微镜、射频MEMS等产品，流片后的器件性能参数偏差控制在5%以内。针对化合物半导体，如GaN、SiC等，中清航科的技术团队熟悉材料特性与工艺要求，能为客户提供衬底选择、外延生长参数优化等专业建议，已成功代理新能源汽车用SiC功率器件的流片项目，帮助客户将器件的导通电阻降低15%。在光电子芯片领域，与专业光电器件晶圆厂合作，支持VCSEL、DFB激光器等产品的流片，波长一致性控制在±1nm以内。中清航科流片加急通道，40天完成从GDS到首片交付。常州TSMC 65nm流片代理
绿色流片是半导体产业的发展趋势，中清航科积极推动流片过程的环保优化，构建绿色流片代理服务体系。在晶圆厂选择上，优先与通过ISO14001认证的企业合作，这些晶圆厂在废水处理、废气排放等方面达到严格的环保标准。在流片方案设计中，推荐采用低能耗工艺，如减少高温工艺步骤、优化光刻次数等，帮助客户降低流片过程的碳排放。针对测试环节产生的废晶圆，中清航科与专业回收企业合作，进行材料回收再利用，晶圆回收率达到90%以上。定期为客户提供流片碳足迹报告，分析各环节的碳排放情况，并提出优化建议，助力客户实现碳中和目标。某汽车芯片客户通过中清航科的绿色流片方案，流片过程的碳排放降低了25%，满足了整车厂的环保要求。台积电 12nm流片代理供应商家中清航科提供工艺角监控流片，覆盖SS/TT/FF等9种组合。
芯片流片的制造过程一般包括以下步骤：1.制备晶圆。芯片的制造需要在一块圆形的硅基片上进行，这个基片一般称为晶圆。制备晶圆的过程包括清洗、抛光、化学蚀刻等步骤。这个步骤的目的是确保晶圆表面的平整度和纯度，为后续的工作打好基础。2.运用光刻技术打印电路图案。光刻是一种通过曝光和蚀刻来制造芯片的技术，它的原理是利用高清晰度的光刻胶和镭射光来进行芯片电路的图案制造。这个过程需要一个***来进行。3.沉积金属。制造芯片还需要沉积金属，这一步骤主要是在晶圆表面涂上一层金属，包括铜、钨等金属。这个过程可以用物相沉积等技术来实现。
全球化流片代理服务需要应对不同地区的技术标准、物流流程等挑战，中清航科通过全球化布局构建起高效的服务网络。在亚洲、北美、欧洲设立三大区域中心，每个区域中心配备本地化的技术与商务团队，能为当地客户提供语言无障碍、时区匹配的服务。针对跨国流片需求，中清航科熟悉各国进出口法规与关税政策，可协助客户办理ATA单证册、3C认证等手续，将晶圆进出口清关时间缩短至24小时以内。在物流方面，与DHL、FedEx等建立战略合作，采用恒温防震包装与全程GPS追踪，确保晶圆在运输过程中的安全，运输损坏率控制在0.01%以下。此外，支持多币种结算与本地化支付方式，满足不同国家客户的财务需求，已为全球40多个国家和地区的客户提供流片代理服务。中清航科静电防护方案，流片过程ESD损伤率降至0.01%。
流片代理服务中的专利布局支持是中清航科的特色服务之一。其知识产权团队会在流片前对客户的设计方案进行专利检索与分析，识别潜在的专利侵权风险，并提供规避设计建议；流片完成后，协助客户整理流片过程中的技术创新点，提供专利申请策略建议。通过该服务，客户的专利申请通过率提升35%，专利侵权风险降低60%，某AI芯片客户在其帮助下，成功申请了15项流片相关的发明专利。针对较低功耗芯片的流片需求，中清航科开发了专项工艺优化方案。通过与晶圆厂合作调整掺杂浓度、优化栅氧厚度等工艺参数，帮助客户降低芯片的静态功耗与动态功耗。引入较低功耗测试系统，能精确测量芯片在不同工作模式下的功耗特性，电流测量精度达到10pA。已成功代理多个物联网较低功耗芯片的流片项目，使产品的待机电流降低至100nA以下，续航能力提升50%。中清航科建立晶圆厂突发断供72小时替代方案库。泰州中芯国际 180流片代理
中清航科代持晶圆厂账户，规避敏感技术泄露风险。常州TSMC 65nm流片代理
流片代理作为连接芯片设计企业与晶圆代工厂的关键桥梁，能有效解决中小设计公司面临的产能短缺、流程复杂等难题。中清航科凭借与台积电、三星、中芯国际等全球Top10晶圆厂的深度合作关系，建立起稳定的产能储备通道，可优先保障客户在12nm至0.18μm工艺节点的流片需求。其专业的DFM（可制造性设计）团队会提前介入设计环节，通过DFT（可测试性设计）优化与工艺兼容性分析，将流片一次通过率提升至95%以上，为客户节省30%的流片成本。常州TSMC 65nm流片代理
