中国台湾可视化Mapping Inkless解决方案

当CP良率骤降而FT失败模式复杂时，只靠单一测试阶段数据难以归因。YMS系统将WAT、CP与FT参数统一纳入分析框架，建立跨阶段关联模型。例如，若某批次WAT中栅氧击穿电压偏移，同时CP漏电流异常升高，YMS可自动关联两者趋势，提示前道氧化工艺可能存在波动。图形化界面支持并排查看参数曲线与良率变化，快速锁定关键影响因子，避免在封装或测试环节盲目排查。这种端到端的根因分析能力，将问题诊断周期从数天缩短至数小时，减少试产浪费。上海伟诺信息科技有限公司通过深度整合多源测试数据，使YMS成为良率攻关的关键工具。上海伟诺信息科技Stacked Map功能，通过堆叠多片Wafer结合算法与卡控规则检测mapping上存在质量风险的芯片。中国台湾可视化Mapping Inkless解决方案

芯片制造对良率控制的精度要求极高，YMS系统为此提供了从数据采集到根因分析的一站式解决方案。系统兼容多种测试平台输出的多格式文件，自动完成数据清洗与整合，确保从晶圆到单颗芯片的全链路数据一致性。通过关联WAT、CP、FT等阶段的关键参数，系统可精确识别导致良率下降的工艺或设计问题，并以图表形式展现芯片级缺陷分布与趋势变化。灵活的报表引擎支持按周期自动生成分析简报，便于跨部门协同与持续改进。这种精细化的数据治理能力，使企业在激烈竞争中保持质量优势。上海伟诺信息科技有限公司致力于用专业软件能力赋能中国半导体产业，其YMS系统已成为多家客户提升产品竞争力的重要工具。河南晶圆MappingOverInk处理服务商Mapping Over Ink数据处理流程全程自动化运行，大幅减少人工复核的人为干预。

当多台测试设备同时产出异构数据时，传统人工整合方式不仅耗时，还易引入误差。YMS系统通过自动化流程，将来自ETS364、STS8200、TR6850等设备的spd、jdf、zip等格式数据统一解析、清洗并结构化存储，构建一致的数据底座。在此基础上，结合WAT、CP、FT等关键测试阶段的参数变化，系统能够揭示影响良率的深层关联，辅助工程师精确调整工艺窗口。多维度可视化图表让晶圆级缺陷热力图、批次良率走势一目了然，明显缩短问题响应周期。报表功能支持按需定制并导出多种办公格式，提升跨部门协同效率。SYL/SBL的实时卡控能力，则有效预防批量性质量风险。上海伟诺信息科技有限公司秉持“以信为本，以质取胜”的宗旨，致力于打造适配国产半导体生态的智能良率管理工具。

在晶圆制造过程中，制程偏差是导致良率损失的主要因素之一，其典型表现即为晶圆上Die的区域性集群失效。此类失效并非随机分布，而是呈现出与特定制程弱点紧密相关的空间模式，例如由光刻热点、CMP不均匀或热应力集中所导致的失效环、边缘带或局部区块。然而，一个更为隐蔽且严峻的挑战在于，在这些完全失效的Die周围，往往存在一个“受影响区”。该区域内的Die虽然未发生catastrophicfailure，其内部可能已产生参数漂移或轻微损伤，在常规的CP测试中，它们仍能满足规格下限而呈现出“Pass”的结果。这些潜在的“薄弱芯片”在初期测试中得以幸存，但其在后续封装应力或终端应用的严苛环境下，早期失效的风险将明细高于正常芯片。为了将这类“过测”的潜在失效品精确识别并剔除，避免其流出至客户端成为可靠性隐患，常规的良率分析已不足以应对。必须借助特定的空间识别算法，对晶圆测试图谱进行深度处理。

上海伟诺信息科技有限公司Mapping Over Ink功能提供精确的算法能够通过分析失效集群的空间分布与形态，智能地推断出工艺影响的波及范围，并据此将失效区周围一定范围内的“PassDie”也定义为高风险单元并予以剔除。这一操作是构建高可靠性产品质量防线中至关重要的一环。 Mapping Over Ink处理系统持续优化以适配先进制程需求，保持技术优势。

在半导体制造中，晶圆厂制程的任何微小变动，都可能引起良率与可靠性的风险。其中，一个尤为典型的系统性失效模式，便源于光刻环节的Reticle（光罩）。当Reticle本身存在污染、划伤或设计瑕疵时，或当光刻机在步进重复曝光过程中出现参数漂移（如焦距不准、曝光能量不均）时。这些因Reticle问题而产生的特定区域内的芯片，实质上构成了一个高风险的“潜伏失效群体”。若不能在测试阶段被精确识别并剔除，将直接流向客户端，对产品的长期可靠性与品牌声誉构成严重威胁。识别并处理这类与Reticle强相关的潜在缺陷，是现代高可靠性质量管理中一项极具挑战性的关键任务。

上海伟诺信息科技有限公司在Mapping Over Ink功能中提供了一个Shot Mapping Ink方案，可以将整个Mapping按Reticle大小或是自定义大小的方格，根据设定的算法将整个Shot进行Ink, 从而去除掉因光刻环节的Reticle引起的潜在性失效芯片。通过Shot Mapping Ink方案，用户能够将质量管控的关口从“筛查单个失效芯片”前移至“拦截整个失效风险区域”。这尤其适用于对可靠性要求极严苛的车规、工规等产品，它能极大程度地降低因光刻制程偶发问题导致的批次性可靠性风险，为客户构建起一道应对系统性缺陷的坚固防线。 DPAT模块动态调整阈值以适应批次差异，分场景优化测试限设定。云南Mapping Inkless系统

工艺工程师基于GDBC聚类结果优化制程参数，提升制造良率水平。中国台湾可视化Mapping Inkless解决方案

芯片制造对良率控制的颗粒度要求极高，任何微小偏差都可能造成重大损失。YMS系统通过自动接入各类Tester平台产生的多格式测试数据，完成高精度的数据解析与整合，确保从晶圆到单颗芯片的良率信息真实可靠。系统依托标准化数据库，支持按时间、区域、批次等多维度进行缺陷聚类与根因追溯，帮助研发与制造团队快速响应异常。结合WAT、CP、FT等关键节点数据的变化，可深入剖析工艺稳定性或设计兼容性问题。SYL与SBL参数的自动计算与卡控，为芯片级质量提供双重保障。报表工具支持按模板生成周期报告，并导出为常用办公格式，提升信息流转效率。上海伟诺信息科技有限公司自2019年成立以来，专注于半导体系统软件研发，其YMS系统正成为国产芯片企业提升产品竞争力的关键助力。中国台湾可视化Mapping Inkless解决方案

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