企业商机
YMS基本参数
  • 品牌
  • 上海伟诺
  • 型号
  • 伟诺
  • 适用行业
  • 半导体
  • 版本类型
  • 网络版
  • 语言版本
  • 简体中文版
YMS企业商机

晶圆边缘区域良率持续偏低却难以定位原因,是工艺工程师常见的痛点。YMS系统在完成stdf、log等原始数据清洗后,依据晶圆空间坐标对缺陷进行分类,生成色彩渐变的热力图,直观呈现中心、过渡区与边缘的缺陷密度差异。用户可对比不同批次在同一区域的表现,识别是否为光刻对焦偏差或刻蚀均匀性问题所致。叠加时间维度后,还能判断该现象是偶发异常还是系统性漂移。这种空间+时间的双维分析,使优化措施从“整体调整”转向“精确干预”,明显提升工艺调试效率。上海伟诺信息科技有限公司基于半导体制造的实际需求,将YMS打造为缺陷定位的可视化利器。YMS设置多级权限,既保障数据安全,又支持跨角色按需共享,协作更顺畅。吉林车间良率管理系统定制

吉林车间良率管理系统定制,YMS

在封测工厂的日常运营中,良率波动往往源于测试数据分散、格式不一或异常信息未被及时识别。YMS系统自动对接ETS88、93k、J750、Chroma等主流Tester平台,高效采集stdf、csv、log、txt等多种格式的原始测试数据,并完成重复性检测、缺失值识别与异常数据过滤,确保后续分析基于准确、完整的数据基础。通过标准化数据库对数据统一分类,系统支持从时间序列追踪良率趋势,或从晶圆区域对比缺陷分布,快速定位工艺偏差。SYL与SBL参数的自动计算与卡控机制,进一步强化了质量防线。灵活的报表工具可按模板生成日报、周报、月报,并导出为PPT、Excel或PDF,满足从产线到管理层的信息需求。上海伟诺信息科技有限公司自2019年成立以来,持续深耕半导体软件领域,其YMS系统已成为封测企业实现质量闭环管理的重要支撑。北京国产YMS开发商内置规则引擎自动执行校验,YMS确保每条入库数据符合预设质量标准。

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当封测厂面临多设备、多格式测试数据难以统一处理的困境时,YMS系统通过自动化采集ETS88、93k、J750、Chroma、STS8200、TR6850等Tester平台输出的stdf、csv、xls、spd、jdf、log、zip、txt等数据,完成重复性检测、缺失值识别与异常过滤,明显降低人工干预成本。标准化数据库实现数据统一分类,支持从时间趋势到晶圆区域热力图的多维分析,帮助快速定位工艺波动点。SYL与SBL的自动计算与卡控机制嵌入关键控制节点,强化过程质量防线。灵活报表工具可按模板生成日报、周报、月报,并导出为PPT、Excel或PDF,提升跨部门协同效率。系统报价覆盖软件授权、必要定制及全周期服务,确保投入产出比合理。上海伟诺信息科技有限公司自2019年成立以来,持续优化YMS功能,助力客户实现高性价比的良率管理。

因测试数据错误导致误判良率,可能引发不必要的重测或错误工艺调整,造成材料与时间双重浪费。YMS在数据入库前执行多层校验,自动剔除异常记录,确保进入分析环节的数据真实反映产品状态。例如,当某晶圆因通信中断产生部分缺失数据时,系统会标记该记录而非直接纳入统计,避免拉低整体良率。结合WAT、CP、FT参数的交叉验证,进一步排除孤立异常点。高质量数据输入使质量决策建立在可靠基础上,明显降低返工率和报废风险。这种前置质量控制机制,将成本节约从“事后补救”转向“事前预防”。上海伟诺信息科技有限公司通过严谨的数据治理逻辑,保障YMS输出结果的科学性与可执行性。支持历史批次数据对比,YMS帮设计团队追踪优化效果,迭代方向更明确。

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大型半导体企业通常设有车间、质量、工艺、管理层等多级组织,对数据粒度与权限要求各异。YMS通过统一标准化数据库集中管理全量测试数据,并基于角色配置差异化视图:产线人员查看实时良率热力图,质量团队调取晶圆区域缺陷对比,高管则聚焦月度趋势与SYL/SBL卡控状态。所有层级均基于同一数据源,避免信息割裂。多维度分析(如时间+区域+产品型号)支持跨层级协同讨论,提升决策一致性。这种分层共享机制既保障数据透明,又满足信息安全管控需求。上海伟诺信息科技有限公司将多层级协作逻辑融入YMS设计,支撑复杂组织高效运转。时间维度的良率趋势,YMS自动归档每日数据,通过折线图可视化呈现长期波动。浙江良率管理系统

YMS用实时数据洞察替代经验决策,助力企业从“凭经验判断”转向“靠数据驱动”的精细化管理。吉林车间良率管理系统定制

国产良率管理系统的价值在于将碎片化测试数据转化为可执行的工艺洞察。YMS系统自动对接ASL1000、SineTest、MS7000、CTA8280、T861、Juno、AMIDA等主流设备,处理十余种格式原始数据,确保从晶圆到芯片级的数据链完整可靠。系统不仅清洗异常记录,还通过图表直观展示良率在不同时间段或晶圆象限的差异。这有助于工程师判断是否为光刻对准偏差或刻蚀不均所致。结合WAT、CP与FT参数联动分析,可区分设计缺陷与制造变异,缩短问题排查周期。这种从“看见异常”到“理解根因”的能力,推动质量改进从被动响应转向主动预防。上海伟诺信息科技有限公司凭借对半导体制造流程的深入理解,推动YMS成为国产替代的关键支撑。吉林车间良率管理系统定制

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