定器堵塞的风险印迹中信号不均匀，以及样品交叉污染。请参阅适用的国际，联邦，州和地方法规，以进行适当处置。 故障排除症状原因纠正措施真空控制旋钮棒_清洁不足用洒水冲洗系统。吸盘座不能倒空真空度不足确保系统和真空之间的管道连接或何时缓慢排空来源是安全的。真空MutiBlot框架用于在MultiBlot框架中进行单点印迹时，放置正确处理一次印迹，然后空白卡在空井。未放入空白卡空井清洁不足确保框架**的所有系统垫片和阀门均处于院长，无碎屑或盐分。清空真空瓶，然后更换串联的Milx9-MerckWB实验加速器可大幅度减少实验时间。奉贤区Merck实验加速器WB实验加速器商家
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下压框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在连续运行真空的情况下，添加30mL洗涤缓冲液（MultiBlot为15毫升）。重复洗涤步骤3次以上（总共4次洗涤）。当框架完全为空时，将TURN真空关闭。10.在印迹架的表面上涂适量的二抗（对于多印迹，为2.5mL，5毫升用于迷你印迹，或10毫升用于Midi印迹）。在室温下孵育10分钟，然后关闭真空。同样，溶液将被吸收到印迹架中，并且表面可能看起来干燥。重要提示：孵育10分钟后，再抽真空。11.向下压框架并施加真空。
temHRP基材。高背景关闭不足更改为不同的阻止解决方案。吸笔架不够湿组装前，先将吸墨纸架弄湿。阻塞解决方案可能有始终准备新鲜的0.5％脱脂/低脂干奶。降级的抗体浓度过高降低抗体的浓度。吸笔架朝上放置将印迹架朝上放在蛋白素框架中。在框架中洗涤不足进行至少4次每次30mL的洗涤。添加清洗剂时，确保真空连续运行缓冲。整个系统电平不一致的信号确保系统在平坦的水平表面上。污点抗体不均匀补充封闭液和抗体稀释剂遍及整个表面0.1％Tween20表面活性剂。吸墨纸架使用小量移液器（例如5毫上海哪家有卖支持半天完成WB实验的实验加速器？
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育时间。2.0系统。建议使用5倍浓度的二抗，持续10分钟。抗体回收1.执行《通用议定书》的步骤1至5，但将真空时间增加到2分钟，以确保所有的封闭溶液都已从框架的凹槽和通道中移除。2.从底座上取下印迹固定框架，并用一根刷子擦拭框架底部的所有残留液体。纸巾。3.将抗体收集盘放入底座，确保抗体上的定位孔收集盘与底座中的定位销对齐。注意：对于Mini和Midi框架，将单个清洁托盘放置在底座的**。对于多印迹如图所示，在框架上放置两个收集托盘。在MultiBlot框架中运行单点印迹时，奉贤区Merck实验加速器WB实验加速器商家
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