标准气体静态配气静态配气[4]是把一定量的液体或原料气加到已知容积的稀释气体的容器中,混合均匀。根据所加入的液体或原料气的量和容器的容积,即可计算出所配制标准气体的浓度。常用的静态配气技术有以下几种。1.大瓶子配气法将大容积的玻璃瓶或聚乙烯塑料瓶洗净、烘干,充入干净空气代替瓶中原有气体后,抽成负压,再充入一定量的液体或原料气。若原料在常温下是气体,用气体定量管加入(见图1),充入干净空气至常压。若原料是挥发性液体,可在一个小安培瓶中称取一定量的液体,放入大瓶中,抽气使成负压,再摇碎安瓶,待液体挥发后,再充入干净空气到常压。大瓶子配气法所制得的标准气体的浓度,可根据加入原料气的浓度或液体的量及大瓶子的容积求得:当加入瓶中的是原料气时,按下式计算:740)">式中:V1:原料气的体积(mL);L:原料气的浓度(ppm);V0:大瓶子的容积(L);Z:所配气体的浓度(ppm);当加入瓶中的是挥发性的液体时:740)">式中:t:气体的温度(℃);m:加入液体的量(g);M:液体的摩尔质量(gömol);Z和V0同上式。740)">用大瓶子配气时,由于器壁的吸附作用,配成的标准气体的实际浓度往往比计算值低。为避免这种影响,可以将***次配好的气体放置一段时间后抽掉,再进行第二次配气。重庆标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。重庆标准气体厂家供应
CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases)：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉,而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益***。6.掺杂气体(DopantGases)：在半导体器件和集成电路制造中,将某种或某些杂质掺入半导体材料内,以使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率,用来制造PN结、电阻、埋层等。掺杂工艺所用的气体掺杂源被称为掺杂气体。医用气体直销乙烷标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
所以渗透率也随温度改变而改变。因此,在测定渗透率时,必须将干燥瓶放入恒温水浴中,温度控制精度要达到±011℃。在恒温放置过程中,每隔一定的时间(至少12小时)用精密天平快速称量渗透管一次(必须在10分钟内称完),相邻两次的重量差就是渗透管在该时间段的渗透量。测出渗透量后,就可用下式求出该渗透管的渗透率。740)">式中:G:渗透率(Lgömin);△G:相邻两次称量的重量差(mg);△S:相邻两次称量的时间间隔(min);实际测定时,记录一系列称量和时间数据,用上式计算渗透率并求其平均值。或以称量数据为纵坐标,时间为横坐标,绘制渗透率的特性曲线,所得直线的斜率即为渗透率。(2)渗透管动态配气装置用已知渗透率的渗透管配制标准气体的装置如图6所示。740)">将渗透管放在气体发生瓶中,再将气体发生瓶放入恒温水浴中,恒温水浴的温度要与测定渗透率时的温度相同(一般为25±1℃),这样就可不作温度校正。稀释气(压缩空气)经**、活性炭和氢氧化钠净化器2除去水分和杂质后,再经流量控制阀和流量计3进入气体发生瓶7(即混合器)中,将渗透出来的气体分子带出,就得到标准气体。标准气体的浓度可由下式求出(在25℃和一个大气压下)。740)">式中:z:所配标准气体的浓度(ppm)。
四川侨源气体股份有限公司创建于2002年，是一家集生产、研发、经营各种工业气体、标准气体、液化气体和特种气体于一体的****。现已经发展成为西部地区比较大的气体生产厂家和供应商。企业是**工业气体工业协会会员单位，**化工标准物质**会会员单位，**特种气体协会会员单位。企业拥有齐全的气体净化纯化设备，并引进国外**的高纯气体和超纯气体检测分析设备，保证为客户提供质量的高纯氧气、高纯氮气、高纯氩气、高纯氢气、高纯二氧化碳等气体及其超高纯气体，将公司打造成**比较大的高纯气体供应基地。公司是**化工标准物质**会成员，拥有几十种**二级标准物质生产许可证和制造计量器具许可证。公司有一支勇于创新探索的科研队伍，凭借科学的分析理念和**的分析检测设备，根据市场需求和用户需要配制质量可靠的标准气体和混合气体，持续不断的满足客户需求。标准气体品种齐全，已广泛应用于科研，化工、煤矿、航天、电子、光纤、机械、石油、建材、电力、**、食品、医疗、制*、冶金、照明及质检等各个行业，并为各种行业的客户提供着高质量高效率的气体及相关产品的完善服务。重庆一氧化氮标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2MI配气允差标准,但各公司均有企业标准。组分的**低浓度为10-6级,组分数可多达20余种。配制方法可采用重量法,然后用色谱分析校核,也可按标准传递程序进行传递。3、电子气体(Electronicgases)：半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4_6m+p-_4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺；高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合，可分为电子级、LSI(大规模集成电路)级、VLSI(超大规模集成电路)级和ULSI(特大规模集成电路)级。4.外延气体(Cpita***algases)：在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases)：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉。四川标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。四川二氧化碳标准气体厂家
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随着近年来**工业、科学研究、自动化技术、精密检测，特别是微电子技术的发展，特种气体行业新兴起来，下面就来一起看看2019年电子气体、标准气体、高纯气体的发展现状吧！文章来源:纽瑞德随着近年来**工业、科学研究、自动化技术、精密检测，特别是微电子技术的发展，特种气体行业新兴起来。特种气体是工业气体中的一个新兴门类，从应用领域划分，主要有电子气体、高纯气体、标准气体三大类。近年来，随着下游应用领域的逐步扩展，特种气体的品种也与日俱增，据不完全统计，我国已有的特种气体达260余种。随着非低温气体分离技术（吸附、膜分离）、混配技术和提纯技术的发展，更多的特种气体产品将逐步走向市场。电子气体主要分为氢化物（超纯氢、硅烷、磷烷等），氟化物（六氟化硫、三氟化氮、四氟化硅等），碳氟化合物（四氟化碳、六氟乙烷等）。目前，我国电子气体品种基本齐全，但数量和质量与发达**相比，尚有较大差距。随着半导体和微电子工业的迅猛发展，对电子气体的品种、数量、质量及纯度提出了更高的要求。标准气体又分为单标气体和多元标准气体。目前，标准气体基本满足了我国石油、化工、**、传感器校准等诸多领域的应用。但对活性较强的标准气。重庆标准气体厂家供应
