氧化铝抛光液作为**终抛光液,是为了去除样品表面肉眼不可见的表面变形层。尤其是使用高倍物镜、偏振光、微分干涉或EBSD 技术,来检测、评定样品时,去除这种微小变形是必需的。
当采用含有溶胶氧化铝的MasterPrep氧化铝抛光液,可通过纯粹的机械抛光来***地去除材料,达到优异的表面处理效果。而如果选用其他种类的**终抛光液,比如具有弱碱性的***抛光液,那就要通过化学-机械的抛光方法与材料表面形成反应层,柔软的***去除反应层,也可得到高质量的表面,相比多了化学抛光过程。因此在实际应用中,常规情况选择氧化铝抛光液是十分普遍的。 本公司销售的氧化硅抛光液分散性好、不结晶 。重庆钻石抛光液加工
铝合金抛光液 铝材镜面抛光液是在三酸抛光基础上发展起来的,是三酸抛光的换代产品。它保留了工序简单,能形成反光镜面等三酸抛光的诸多优点,同时,也克服流痕、黄等致命弱点,是一项难得的技术突破,特点如下:
1、可任意滴流,滴干为止。由于三酸抛光槽液允许滴流的时间不能超过30秒,大量抛光液(400-600kg/T)被带进水洗槽,造成巨大的槽液损失,还需700-800公斤片碱处理废水!此外,如此短的滴流时间,稍不留心铝合金表面就会有流痕,造成废品,使三酸抛光成品率不足70%。本品添加缓蚀剂使流痕问题得到彻底解决。
2、无黄溢出,硝酸的分解被有效***,抛光亮度稳定。
3、自动***抛光灰,提高抛光质量。
4、特殊方法浓缩槽液,含水量降低,亮度大幅提高。 重庆钻石抛光液加工非结晶***抛光液具有弱碱性,经过抛光方法与外表形成反应层,柔软的***去除反应层,可得到高质量的外表。
玻璃抛光液
一、玻璃抛光液技术参数
1、玻璃抛光液中心粒径 d50:1um-1.5um
2、玻璃抛光液PH 值:7
二、玻璃抛光液适用范围: 玻璃抛光液***适用于精密光学器件、硬盘基片、液晶屏幕显示器等,高精密度光学玻璃抛光.光学镜头、光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛光。
三、玻璃抛光液使用方法: 原液使用、添加到储液槽,建议抛光浓度:温度(约100~150克/升:20~35℃) 四、玻璃抛光液保质期: 常温储存(25 ℃),两年。
五、玻璃抛光液包装规格: 25KG/桶。
六、玻璃抛光液注意事项:
1、此说明所述技术性能及应用方法*供专业人士参考,而并非对使用效果之承诺.凡新使用产品及改变工艺,须先做严格的可行性测试,以求比较好使用效果;
2、不用时请将容器封好,避免儿童接触;不慎溅入眼内,请用清水冲洗或到医院检查。
1. LED行业 目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。
2.半导体行业 CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供“光滑”的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。 氧化铝抛光液主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
研磨液供给与输送系统
①研磨液供给与输送系统与CMP工艺之间的关系:研磨液中的化学品在配比混合输送过程中可能有许多变化,这一点,使输送给机台的研磨液质量与抛光工艺的成功形成了非常紧密的关系,其程度超过了与高纯化学品的联系。尽管CMP设备是控制并影响CMP工艺结果的主要因素,但是研磨液在避免缺点和影响CMP的平均抛光速率方面起着巨大的作用。
②研磨液供给与输送系统实现的目标:通过恰当设计和管理研磨液供给与输送系统来保证CMP工艺的一致性。研磨液的混合、过滤、滴定以及系统的清洗等程序会减轻很多与研磨液相关的问题。那么就要设计一个合适的研磨液的供给与输送系统,完成研磨液的管理,控制研磨液的混合、过滤、浓度、滴定及系统的清洗,减少研磨液在供给、输送过程中可能出现的问题和缺点,保证CMP的平坦化效果。
③抛光研磨液后处理:作为消耗品,研磨液一般是一次性使用。随着CMP市场的扩大,抛光研磨液的排放及后处理工作量也在增大(出于环保原因,即使研磨液不再重复利用,也必须先处理才可以排放)。而且,抛光研磨液价格昂贵,如何对抛光研磨液进行后处理,补充必要的化学添加剂,重复利用其中的有效成分,或降级使用,不仅可以减少环境污染。 氧化铈抛光液用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。重庆钻石抛光液加工
本公司销售的纳米抛光液应用范围:化妆品填料。重庆钻石抛光液加工
复合抛光液对硅衬底去除速率的影响
目前,IC产品用到的衬底材料大都是硅材料,绝大多数的的半导体IC器件以高纯质量硅基作为衬底。但是随着IC产品集成度进一步提高,对硅单晶衬底片表层质量与表面平整度要求越趋严格,即要求硅衬底抛光片或外延片表面高平整度、高光洁度、表面无损伤。化学机械抛光是***能实现如此高精度的方法。抛光液pH值,组分等性质对硅衬底抛光速率有着***的影响。复合抛光液是不同的两种以上的抛光液磨料组合而成的,性能良好的混合磨料之间可以形成优势互补,具有单一磨料不具备的新特点。充分发挥其特性,可以获得抗腐蚀性、耐久性和稳定性更好的抛光液。本文通过SiO2磨料和CeO2磨料的混合,确定出抛光速率较高的混合配比和磨料体积分数。 重庆钻石抛光液加工
苏州豪麦瑞材料科技有限公司创建于2014-04-24,注册资金 50-100万元,办公设施齐全,办公环境优越,已***实行网络化办公,**提高了速度和效率。专业的团队大多数员工都有多年工作经验,熟悉行业专业知识技能,致力于发展HOMRAY的品牌。公司以用心服务为**价值,希望通过我们的专业水平和不懈努力,将苏州豪麦瑞材料科技有限公司(Homray Material Company)成立于2014年,是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成,专注于半导体技术和资源的发展与整合,现以进口碳化硅晶圆,供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备,氧化铝研磨球,氧化锆研磨球,陶瓷研磨球,陶瓷精加工,抛光液。等业务进行到底。苏州豪麦瑞材料科技有限公司主营业务涵盖[ "陶瓷研磨球", "碳化硅", "陶瓷精加工", "抛光液" ],坚持“质量***、质量服务、顾客满意”的质量方针,赢得广大客户的支持和信赖。