浙江碱性抛光液价格

集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液:一种用于集成电路多层互连结构铜/钽化学机械抛光(CMP)的一步抛光工艺技术及相应纳米抛光液。对于互连结构的铜/钽多层膜体系的化学机械抛光,通过本发明的“一步抛光工艺”,单头抛光机能够代替昂贵的多头抛光机,实现多层膜的分步抛光。通过化学机械抛光过程中多层膜体系界面间在线检测信号(声学、力学、电学或光学信号)差异的反馈,对抛光液实施分段应用,有效改善了原有的单一抛光液或分步抛光中存在的低速率及选择性问题。该抛光工艺及相应纳米抛光液有效改善了单一抛光液的速率问题;以单头抛光机代替多头抛光机,降低了设备成本;同时抛光后表面损伤少、易清洗,抛光液不腐蚀设备、不污染环境。纳米级的氧化铝适用于光学镜头、单芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体外表等的精密抛光。浙江碱性抛光液价格

    抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、***，对环境无污染等作用，光液使用方法：包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光；1抛光剂投放量为（根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置），2：抛光时间：根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。这两个概念主要出现在半导体加工过程中，**初的半导体基片抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。直到60年代末，一种新的抛光技术——化学机械抛光技术取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势：单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，完美性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。化学机械抛光可以获得较为完美的表面，又可以得到较高的抛光速率。 杭州国产抛光液本公司销售的纳米抛光液应用范围：精密抛光材料、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带。

化学机械抛光液 

1、化学机械抛光液概念  化学机械抛光液是在利用化学机械抛光技术对半导体材料进行加工过程中的一种研磨液体，由于抛光液是CMP的关键要素之一，它的性能直接影响抛 光后表面的质量，因此它也成为半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。  

2、化学机械抛光液的组成  化学机械抛光液的组成一般包括一般由超细固体粒子研磨剂（如纳米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等。固体粒子提供研磨作用,化学氧化剂提供腐蚀溶解作用，由于SiO2粒子去除率比较高,得到的表面质量比较好，因此在硅片抛光加工中主要采用SiO2抛光液，  

3、化学机械抛光液的分类  抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分，故有粗抛光液和精抛光液品种之分。  

4、CMP过程中对抛光液性能的要求  抛光液的浓度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、pH值、流速、流动途径对去除速度都有影响。

氧化铈抛光液

1、产品名称 稀土抛光液 

2、产品型号  hnys-ceria-1 

3、用途  用于手机玻璃、精密光学玻璃抛光 

4、技术指标  

化学成分       含量 

稀土抛光粉   30-40% 

去离子水      60-70% 

其他成分      ≤3% 

化学或物理指标     数据 

D50 0.4-0.6µm  D90 ≤1.5µm 

比重                 ≥1.20g/cm3 

pH值                8.0-9.5 

颜色                白色  

备注：以上参数可根据用户要求适当调整。 

5、包装规格  20公斤/桶、50公斤/桶 6、注意事项  使用前请摇匀或搅拌均匀；抛光前可加水稀释1-2倍后再使用，具体稀释比例根据用户现场工艺与设备自行确定。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：氧化铝陶瓷、C基板、封装材料、***、高纯坩埚、绕线轴、轰击靶、炉管。

1. LED行业  目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。 

2.半导体行业  CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：化妆品填料。杭州国产抛光液

金刚石 研磨液包括单晶、多晶和纳米。  该产品适合硬质材料的抛光。浙江碱性抛光液价格

纳米氧化铈水分散液（纳米氧化铈抛光液）  

关键词：纳米氧化铈抛光液  氧化铈抛光液  研磨液电解抛光液 蓝宝石抛光液 不锈钢抛光液、金属抛光液、瓷砖抛光液该纳米氧化铈抛光液分散性好，质量稳定，久置不分层不沉淀，可极大提高抛光效率和精度，生产流程不会引入金属离子。   

产品说明：      本品外观为白色液体，氧化铈纳米粒子平均粒径为20nm，氧化铈含量不低于30%，分散介质为去离子水，pH在9-10，0.5%-1%的悬浮稳定剂。生产流程不引入金属离子。   产品应用：      

1）精密仪器抛光      本品不含碱金属离子，粒径小，粘度很低，为晶体硅、LED、高精密玻璃等器件的抛光需求而研发生产。不含有害成分，除氧化铈外，悬浮剂为环保成分不会对环境和人体带来间接危害。      

2）防紫外线      添加于特种涂料、遮阳伞、玻璃等便可制得防紫外线的特种产品，用于塑料中更是可以起到防老化的效果。     

 3）隔热功能      由于纳米氧化铈有***的隔热性能，本品亦是隔热涂料中不可或缺的成分。      

4）催化剂      在催化剂中加入本品可明显减少贵金属用量并改善催化性能，使催化器的价格大幅下降。氧化铈还能与纳米氧化钛制成光催化剂，用于***陶瓷和富氧离子环保涂料等。 浙江碱性抛光液价格

苏州豪麦瑞材料科技有限公司总部位于苏州市工业园区唯华路3号君地商务广场5栋602室，是一家苏州豪麦瑞材料科技有限公司（Homray Material Company）成立于2014年，是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成，专注于半导体技术和资源的发展与整合，现以进口碳化硅晶圆，供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备，氧化铝研磨球，氧化锆研磨球，陶瓷研磨球，陶瓷精加工，抛光液。的公司。豪麦瑞材料科技作为苏州豪麦瑞材料科技有限公司（Homray Material Company）成立于2014年，是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成，专注于半导体技术和资源的发展与整合，现以进口碳化硅晶圆，供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备，氧化铝研磨球，氧化锆研磨球，陶瓷研磨球，陶瓷精加工，抛光液。的企业之一，为客户提供良好的陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，抛光液。豪麦瑞材料科技始终以本分踏实的精神和必胜的信念，影响并带动团队取得成功。豪麦瑞材料科技创始人王省力，始终关注客户，创新科技，竭诚为客户提供良好的服务。