苏州国产抛光液加工

纳米氧化铈水分散液（纳米氧化铈抛光液）  

关键词：纳米氧化铈抛光液  氧化铈抛光液  研磨液电解抛光液 蓝宝石抛光液 不锈钢抛光液、金属抛光液、瓷砖抛光液该纳米氧化铈抛光液分散性好，质量稳定，久置不分层不沉淀，可极大提高抛光效率和精度，生产流程不会引入金属离子。   

产品说明：      本品外观为白色液体，氧化铈纳米粒子平均粒径为20nm，氧化铈含量不低于30%，分散介质为去离子水，pH在9-10，0.5%-1%的悬浮稳定剂。生产流程不引入金属离子。   产品应用：      

1）精密仪器抛光      本品不含碱金属离子，粒径小，粘度很低，为晶体硅、LED、高精密玻璃等器件的抛光需求而研发生产。不含有害成分，除氧化铈外，悬浮剂为环保成分不会对环境和人体带来间接危害。      

2）防紫外线      添加于特种涂料、遮阳伞、玻璃等便可制得防紫外线的特种产品，用于塑料中更是可以起到防老化的效果。     

 3）隔热功能      由于纳米氧化铈有***的隔热性能，本品亦是隔热涂料中不可或缺的成分。      

4）催化剂      在催化剂中加入本品可明显减少贵金属用量并改善催化性能，使催化器的价格大幅下降。氧化铈还能与纳米氧化钛制成光催化剂，用于***陶瓷和富氧离子环保涂料等。 多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。苏州国产抛光液加工

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：  （1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。  （2）抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。  硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。佛山硅抛光液生产工艺纳米 抛光液用 于硬质材料的超精密抛光过程，可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。

1. LED行业  目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。 

2.半导体行业  CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 

多晶金刚石抛光液

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合**散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化硅抛光液

氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液

是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。

用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 本公司销售的氧化硅抛光液纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。

氧化铈抛光液

1、产品名称 稀土抛光液 

2、产品型号  hnys-ceria-1 

3、用途  用于手机玻璃、精密光学玻璃抛光 

4、技术指标  

化学成分       含量 

稀土抛光粉   30-40% 

去离子水      60-70% 

其他成分      ≤3% 

化学或物理指标     数据 

D50 0.4-0.6µm  D90 ≤1.5µm 

比重                 ≥1.20g/cm3 

pH值                8.0-9.5 

颜色                白色  

备注：以上参数可根据用户要求适当调整。 

5、包装规格  20公斤/桶、50公斤/桶 6、注意事项  使用前请摇匀或搅拌均匀；抛光前可加水稀释1-2倍后再使用，具体稀释比例根据用户现场工艺与设备自行确定。 氧化铝抛光液是以超细氧化铝为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。苏州国产抛光液加工

单晶金刚石 抛光液具有良好的切削力，适用于超硬材料的研磨 抛光。苏州国产抛光液加工

国外化工企业在发展过程中也经历了被社会“误解”的过程，但通过长期坚持安全环保标准和公开透明的沟通机制，**终取得了全社会的信任。我国化工产业转型升级，要重视通过环保标准和法律法规引导企业减量、达标排放，实现绿色发展。虽然近年来我国化工行业整体规模飞速壮大，但私营有限责任公司企业竞争力、收入能力、人均收入等方面指标与发达地区差距较大，在人均收入等部分指标上我国部分企业不足全球优先企业的1/10。加快提升企业重点竞争力，培育具有竞争优势的企业和企业集团，是我国化工产业必须要下大力气补齐的短板。陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，抛光液领域市场前景好，发展成长性好，技术含量高，具有带领行业发展的作用。是发展战略性新兴产业的重要基础，也是传统石化和化工产业转型升级和发展的重要方向。近年来，随着贸易型飞速增长、人们环保意识的增强和环境保护工作力度的加大，中国化工产业取得了较大的发展。在我国和各级相关部门不断加大重视并持续增加收入，以及伴随着工业发展产生的大量市场需求等方面因素的作用下，中国城市化工行业始终保持较快增长。苏州国产抛光液加工

苏州豪麦瑞材料科技有限公司致力于化工，是一家贸易型公司。公司业务分为陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，抛光液等，目前不断进行创新和服务改进，为客户提供良好的产品和服务。公司将不断增强企业重点竞争力，努力学习行业知识，遵守行业规范，植根于化工行业的发展。豪麦瑞材料科技秉承“客户为尊、服务为荣、创意为先、技术为实”的经营理念，全力打造公司的重点竞争力。